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염화콜린과 우레아를 포함하는 깊은 공융 용매(Deep eutectic solvent)를 함유한 하이드레이트 생성 저해제
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제1항에 있어서, 상기 염화콜린과 우레아의 혼합몰비는 1:1 내지 1:3인 하이드레이트 생성 저해제
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제1항에 있어서, 상기 염화콜린과 우레아의 혼합몰비는 1:2인 하이드레이트 생성 저해제
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제1항에 있어서, 상기 깊은 공융 용매(Deep eutectic solvent)의 녹는점은 275
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제1항에 있어서, 상기 하이드레이트 생성저해제의 평형온도 시프트(shift)는 2 내지 3K인 하이드레이트 생성 저해제
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제1항에 있어서, 상기 하이드레이트 생성 저해제가 물, 메탄올, 에탄올, n-프로판올, 이소프로판올, 에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜, 포름산염 칼륨, 메틸아크릴아미드, 아크릴아미드, N-부틸아크릴아미드, 염화나트륨, 폴리비닐리돈, 이온성 액체, 아미노산, 에틸렌글리콜, 글리세롤, 말론산(malonic acid), 벤조산(benzoic acid), 글리세린(glycine), TBAB(테트라부틸암모늄 브로마이드), TBAC(테트라부틸암모늄 클로라이드), Et2(EtOH)ACl(diethylethanolammonium chloride) 중에서 선택된 하나 이상의 물질을 더 포함하는 하이드레이트 생성 저해제
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제6항에 있어서, 상기 물질의 함량은 하이드레이트 생성 저해제의 총중량 100 중량부를 기준으로 하여 0
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염화콜린과 우레아의 혼합하여 혼합물을 얻고 이 혼합물을 열처리하여 깊은 공융 용매를 제조하는 단계를 포함하여, 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항의 하이드레이트 생성 저해제를 제조하는 하이드레이트 생성 저해제의 제조방법
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제8항에 있어서, 상기 열처리가 40 내지 90℃인 하이드레이트 생성 저해제의 제조방법
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제8항에 있어서, 상기 염화콜린과 우레아의 혼합몰비는 1:1 내지 1:3인 하이드레이트 생성 저해제의 제조방법
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제8항에 있어서, 상기 혼합물에 물, 메탄올, 에탄올, n-프로판올, 이소프로판올, 에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜, 포름산염 칼륨, 메틸아크릴아미드, 아크릴아미드, N-부틸아크릴아미드, 염화나트륨, 폴리비닐리돈, 이온성 액체, 아미노산, 에틸렌글리콜, 글리세롤, 말론산(malonic acid), 벤조산(benzoic acid), 글리세린(glycine), TBAB(테트라부틸암모늄 브로마이드), TBAC(테트라부틸암모늄 클로라이드), Et2(EtOH)ACl(diethylethanolammonium chloride) 중에서 선택된 하나 이상의 물질을 더 부가하는 하이드레이트 생성 저해제의 제조방법
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제1항 내지 제7항 중 어느 한 항의 하이드레이트 생성 저해제를 포함하는 하이드레이트 생성 저해제 조성물
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제12항에 있어서, 상기 하이드레이트 생성 저해제 조성물이 물, 메탄올, 에탄올, n-프로판올, 이소프로판올, 에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜, 포름산염 칼륨, 메틸아크릴아미드, 아크릴아미드, N-부틸아크릴아미드, 염화나트륨, 폴리비닐리돈, 이온성 액체, 아미노산, 에틸렌글리콜, 글리세롤, 말론산(malonic acid), 벤조산(benzoic acid), 글리세린(glycine), TBAB(테트라부틸암모늄 브로마이드), TBAC(테트라부틸암모늄 클로라이드), Et2(EtOH)ACl(diethylethanolammonium chloride) 중에서 선택된 하나 이상을 더 포함하는 하이드레이트 생성 저해제 조성물
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제12항의 하이드레이트 생성 저해제 조성물을 이용하여 가스 하이드레이트 생성을 억제하는 방법
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제14항에 있어서, 상기 하이드레이트 생성 저해제 조성물의 함량은 조성물 총중량을 기준으로 하여 0
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