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실리콘 제조방법으로, 실리카 및 탄소를 함유하는 원료를 반응기 내로 로딩하는 단계; 및상기 로딩된 원료에 레이저 빔을 조사하여 상기 실리카를 환원하여 실리콘을 제조하는 단계를 포함하며,상기 로딩하는 단계 후, 상기 반응기 내의 압력을 진공조건으로 만드는 단계와, 상기 실리카를 환원하는 단계 전에 상기 반응기의 내부를 불활성 가스 분위기로 조성하는 단계를 더 포함하며,상기 레이저 빔 조사시 형성된 불활성가스에 의하여 실리콘카바이드만이 형성되는 것이 방지되며, 상기 제조된 실리콘은 상기 불활성가스에 의하여 반응기에 증착되지 않고 외부로 배출되는 것을 특징으로 하는 실리콘 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 실리콘 제조방법은,상기 반응기 외부로 배출된 기체에 산소를 공급한 후, 상기 실리콘산화물을 산화시켜 실리카 입자로 회수하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 실리콘 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 원료에서 실리카와 탄소 비율은 1:1 내지 1:20인 것을 특징으로 하는 실리콘 제조방법
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실리콘 제조장치로서, 실리카 및 탄소를 포함하는 원료가 로딩되는 원료컨테이너;상기 원료컨테이너가 내부에 수용되는 반응챔버;상기 반응챔버 내의 상기 원료컨테이너에 레이저를 조사하는 레이저발생장치; 및상기 레이저발생장치로부터 레이저가 조사됨에 따라 발생하는 기체를 상기 반응챔버 외부로 배출하기 위한 진공수단;상기 반응챔버 내부를 불활성 가스 분위기로 조성하도록 상기 반응챔버에 연결되어 불활성 가스가 주입되는 주입라인을 포함하며, 상기 레이저발생장치로부터 레이저를 조사될 때, 상기 반응챔버 내부는 상기 주입라인으로부터 주입되는 불활성 가스에 의하여 불활성 가스 분위기가 형성되며, 상기 레이저 조사에 따라 제조된 실리콘은 상기 주입되는 불활성 가스에 의하여 상기 진공수단을 통하여 외부로 배출되는 것을 특징으로 하는 실리콘 제조장치
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제 9항에 있어서, 상기 실리콘 제조장치는,상기 반응챔버 외부로 배출되는 기체에 산소를 공급하고 이를 냉각하여 실리카를 제조하는 응축장치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 실리콘 제조장치
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제 9항에 있어서,상기 레이저가 조사됨에 따라 상기 원료컨테이너의 원료는 섭씨 2000도까지 국소 가열되는 것을 특징으로 하는 실리콘 제조장치
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제 9항에 있어서,상기 원료에서 실리카와 탄소 비율은 1:1 내지 1:20인 것을 특징으로 하는 실리콘 제조장치
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