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연속식 반응기에 염기성 용액을 투입하는 단계;연속식 반응기에 금속 이온을 함유하는 용액, 착화제 및 음이온 함유 용액을 투여하여 침전 반응시키는 단계;생성물을 열처리 및 건조시켜 하기 화학식 1의 무기 분말을 제조하는 단계; 및상기 무기 분말의 표면 거칠기를 높이거나 표면에 기공을 형성하는 표면 처리 단계;를 포함하는, 마이크로미터 크기를 갖는 무기 분말 제조 방법:[화학식 1]MX(상기 화학식 1에서,상기 M은 은(Ag), 칼슘(Ca), 알루미늄(Al), 아연(Zn), 니켈(Ni), 텅스텐(W) 및 구리(Cu) 중에서 선택된 금속이고,상기 X는 산소이온 (O2-), 인산 이온(phosphate)(PO43-), 수소인산 이온(hydrogen phosphate)(HPO42-), 이수소인산 이온(dihydrogen phosphate)(H2PO4-), 탄산 이온(carbonate)(CO3), 규산 이온(silicate)(SiO42-), 황산 이온(sulphate)(SO42-), 수산화 이온(hydroxide)(OH-), 질산 이온(nitrate)(NO3-) 및 아질산 이온(nitrite)(NO2-) 중에서 선택된 음이온이다
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제1항에 있어서,상기 음이온 함유 용액은 상기 금속 이온과 반응하는 반응물(Reactant)이면서 반응 용액의 pH를 조절하는 물질인 것을 특징으로 하는,마이크로미터 크기를 갖는 무기 분말 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 음이온 함유 용액은 반응 용액의 pH 가 8 내지 13 이 되도록 지속적으로 투입하는 것을 특징으로 하는,마이크로미터 크기를 갖는 무기 분말 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 금속 이온을 함유하는 용액의 농도는 0
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제1항에 있어서,상기 반응시키는 단계는 40 내지 60℃ 의 온도로 4 시간 이상 12 시간 이하로 수행하는 것을 특징으로 하는,마이크로미터 크기를 갖는 무기 분말 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 열처리는 대기 혹은 산소 분위기 하에서, 300 내지 1000℃ 의 온도로 1 내지 10 시간 동안 수행하는 것을 특징으로 하는,마이크로미터 크기를 갖는 무기 분말 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 표면 처리 단계는,무기 분말을 약산성의 구리 양이온 함유 용액과 혼합시켜 표면 거칠기를 높이는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는,마이크로미터 크기를 갖는 무기 분말 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 표면 처리 단계는,무기 분말을 질산구리염(CuNO3) 또는 황산구리염(CuSO4) 용액과 혼합시켜 표면을 산 처리하는 단계를 포함하며, 상기 산 처리를 통해 무기 분말의 표면에 나노 기공을 형성하고, 표면 거칠기를 높이는 것을 특징으로 하는,마이크로미터 크기를 갖는 무기 분말 제조 방법
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제1항에 있어서,표면 처리된 무기 분말을 대기 혹은 산소 분위기 하에서, 300 내지 1000 ℃의 온도로 30분 내지 10시간 동안 열처리하는 단계;를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는,마이크로미터 크기를 갖는 무기 분말 제조 방법
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연속식 반응기에 염기성 용액을 투입하는 단계;연속식 반응기에 금속 이온을 함유하는 용액, 착화제 및 음이온 함유 용액을 투여하여 침전 반응시키는 단계;생성물을 열처리 및 건조시켜 하기 화학식 2의 무기 분말을 제조하는 단계; 및상기 무기 분말의 표면 거칠기를 높이거나 표면에 기공을 형성하는 표면 처리 단계;를 포함하는, 마이크로미터 크기를 갖는 무기 분말 제조 방법:[화학식 2]MX1X2(상기 화학식 2에서,상기 M은 은(Ag), 칼슘(Ca), 알루미늄(Al), 아연(Zn), 니켈(Ni), 텅스텐(W) 및 구리(Cu) 중에서 선택된 금속이고,상기 X1 및 X2 는 서로 독립적으로, 산소이온 (O2-), 인산 이온(phosphate)(PO43-), 수소인산 이온(hydrogen phosphate)(HPO42-), 이수소인산 이온(dihydrogen phosphate)(H2PO4-), 탄산 이온(carbonate)(CO3), 규산 이온(silicate)(SiO42-), 황산 이온(sulphate)(SO42-), 수산화 이온(hydroxide)(OH-), 질산 이온(nitrate)(NO3-) 및 아질산 이온(nitrite)(NO2-) 중에서 선택된 음이온이다
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제10항에 있어서,상기 음이온 함유 용액은 상기 금속 이온과 반응하는 반응물(Reactant)이면서 반응 용액의 pH를 조절하는 물질인 것을 특징으로 하는,마이크로미터 크기를 갖는 무기 분말 제조 방법
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제10항에 있어서,상기 음이온 함유 용액은 반응 용액의 pH 가 8 내지 13 이 되도록 지속적으로 투입하는 것을 특징으로 하는,마이크로미터 크기를 갖는 무기 분말 제조 방법
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제10항에 있어서,상기 금속 이온을 함유하는 용액의 농도는 0
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제10항에 있어서,상기 반응시키는 단계는 40 내지 60℃ 의 온도로 4 시간 이상 12 시간 이하로 수행하는 것을 특징으로 하는,마이크로미터 크기를 갖는 무기 분말 제조 방법
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제10항에 있어서,상기 열처리는 대기 혹은 산소 분위기 하에서, 300 내지 1000℃ 의 온도로 1 내지 10 시간 동안 수행하는 것을 특징으로 하는,마이크로미터 크기를 갖는 무기 분말 제조 방법
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제10항에 있어서,상기 표면 처리 단계는,무기 분말을 약산성의 구리 양이온 함유 용액과 혼합시켜 표면 거칠기를 높이는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는,마이크로미터 크기를 갖는 무기 분말 제조 방법
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제10항에 있어서,상기 표면 처리 단계는,무기 분말을 질산구리염(CuNO3) 또는 황산구리염(CuSO4) 용액과 혼합시켜 표면을 산 처리하는 단계를 포함하며, 상기 산 처리를 통해 무기 분말의 표면에 나노 기공을 형성하고, 표면 거칠기를 높이는 것을 특징으로 하는,마이크로미터 크기를 갖는 무기 분말 제조 방법
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제10항에 있어서,표면 처리된 무기 분말을 대기 혹은 산소 분위기 하에서, 300 내지 1000 ℃의 온도로 30분 내지 10시간 동안 열처리하는 단계;를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는,마이크로미터 크기를 갖는 무기 분말 제조 방법
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제1항 내지 제18항 중 어느 한 항에 따른 방법으로 제조된 무기 분말 입자로서,상기 무기 분말 입자는 1 내지 100 ㎛ 의 크기를 갖고, 무기 분말 입자의 표면에 1 내지 100 nm 의 기공이 형성되어 항균성 및 항바이러스성 특성을 갖는 것인,항균성 및 항바이러스성 무기 분말 입자
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제19항에 따른 항균성 및 항바이러스성 무기 분말 입자를 포함하는 수용액 및 바인더 물질을 포함하는 항균성 및 항바이러스성 코팅 조성물
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제20항에 있어서,상기 항균성 및 항바이러스성 무기 분말 입자를 포함하는 수용액의 농도는 0
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제20항에 있어서,상기 바인더 물질은 폴리불화비닐리덴, 폴리비닐알코올, 카르복시메틸 셀룰로우즈(CMC), 전분, 히드록시프로필셀룰로우즈, 재생 셀룰로우즈, 폴리비닐피롤리돈, 테트라플루오로에틸렌, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 에틸렌-프로필렌-디엔 테르 폴리머(EPDM), 술폰화 EPDM, 스티렌 브티렌 고무 및 불소 고무 중에서 선택된 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는,항균성 및 항바이러스성 코팅 조성물
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제20항 내지 제22항 중 어느 한 항에 따른 코팅 조성물을 마스크 필터, 항균성 필름 또는 공기청정기 필터의 표면에 분산시킴을 포함하는 항균성 및 항바이러스성 물품 제조 방법
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