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기 설정된 복수의 에너지에 각각 대응되는 복수의 타겟과 필라멘트, 애노드 및 전자석을 이용하여 다중 에너지의 엑스선을 발생시키도록 제어하는 다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치로서,상기 필라멘트에 전압을 인가하는 필라멘트 전압원과,상기 애노드에 전압을 인가하는 애노드 전압원과,상기 전자석에 전압을 인가하는 전자석 전압원과,상기 복수의 타겟 중 발산하려는 에너지에 대응되는 어느 하나의 타겟에 전자빔이 충돌하여 엑스선이 발생되도록 상기 필라멘트 전압원, 상기 애노드 전압원 및 상기 전자석 전압원에서의 전압 인가 타이밍을 제어하는 타이밍 제어부를 포함하는다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치
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제 1 항에 있어서,상기 타이밍 제어부는,상기 전자빔이 형성되도록 상기 필라멘트 전압원 및 상기 애노드 전압원이 턴온 또는 턴오프 되도록 제어하고,상기 전자빔의 방향이 조절되도록 상기 전자석 전압원이 턴온 또는 턴오프 되도록 제어하는다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치
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제 1 항에 있어서,상기 전자석 전압원은,상기 전자석의 음극 및 양극에 연결되고,상기 타이밍 제어부는,조절하려는 전자빔의 방향에 따라 상기 전자석 전압원에서 상기 전자석의 음극 또는 상기 전자석의 양극에 전압을 인가하도록 제어하거나, 상기 전자석에 전압이 인가되지 않도록 제어하는다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치
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제 1 항에 있어서,상기 복수의 타겟은,제 1 에너지, 제 2 에너지, 제 3 에너지에 각각 대응되고,상기 전자석 전압원은,상기 전자석의 음극 및 양극에 연결되고,상기 타이밍 제어부는,상기 제 1 에너지에 대응되는 타겟에 전자빔이 충돌하여 엑스선이 발생되도록 제어할 경우, 상기 필라멘트 전압원을 턴온 시키고, 상기 필라멘트 전압원이 턴온되는 중에 상기 전자석의 양극에 전압이 인가되도록 상기 전자석 전압원을 턴온시킨 후, 상기 애노드 전압원이 턴온되도록 제어하는,다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치
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제 4 항에 있어서,상기 타이밍 제어부는,상기 제 2 에너지에 대응되는 타겟에 전자빔이 충돌하여 엑스선이 발생되도록 제어할 경우, 상기 전자석 전압원은 턴오프 시키면서 상기 필라멘트 전압원을 턴온 시키고, 상기 필라멘트 전압원이 턴온되는 중에 상기 애노드 전압원이 턴온되도록 제어하는다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치
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제 4 항에 있어서,상기 타이밍 제어부는,상기 제 3 에너지에 대응되는 타겟에 전자빔이 충돌하여 엑스선이 발생되도록 제어할 경우, 상기 필라멘트 전압원을 턴온 시키고, 상기 필라멘트 전압원이 턴온되는 중에 상기 전자석의 음극에 전압이 인가되도록 상기 전자석 전압원을 턴온시킨 후, 상기 애노드 전압원이 턴온되도록 제어하는다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치
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제 1 항에 있어서,상기 복수의 타겟은,서로 다른 물질을 포함하며, 제 1 에너지와 대응되는 제 1 타겟, 제 2 에너지와 대응되는 제 2 타겟 및 제 3 에너지와 대응되는 제 3 타겟을 포함하고,상기 전자석 전압원은,상기 전자석의 음극 및 양극에 연결되고,상기 타이밍 제어부는,상기 전자빔의 방향이 상측으로 휘어짐에 따라 상기 상측으로 휘어진 전자빔이 상기 제 1 타겟에 충돌하여 제 1 엑스선이 발생되도록 상기 전자석 전압원에서 상기 전자석의 양극에 전압이 인가되도록 제어하고,상기 전자빔이 휘어지지 않고 직선으로 발생됨에 따라 상기 직선으로 발생되는 전자빔이 상기 제 2 타겟에 충돌하여 제 2 엑스선이 발생되도록 상기 전자석 전압원에서 전압이 인가되지 않도록 제어하고, 상기 전자빔의 방향이 하측으로 휘어짐에 따라 상기 하측으로 휘어진 전자빔이 상기 제 3 타겟에 충돌하여 제 3 엑스선이 발생되도록 상기 전자석의 음극에 전압이 인가되도록 제어하는다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치
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제 7 항에 있어서,상기 제 1 엑스선, 제 2 엑스선 및 제 3 엑스선은,서로 상이한 에너지 및 투과율을 가지는다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치
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제 1 항에 있어서,상기 타이밍 제어부는,상기 필라멘트 전압원, 상기 애노드 전압원 및 상기 전자석 전압원 각각에서 상기 필라멘트, 상기 애노드 및 상기 전자석에 전압이 인가되는 시간을 고려하여 상기 필라멘트 전압원, 상기 애노드 전압원 및 상기 전자석 전압원에서 인가하는 전압을 제어하는다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치
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10
기 설정된 복수의 에너지에 각각 대응되는 복수의 타겟과 필라멘트, 애노드 및 전자석을 이용하여 다중 에너지의 엑스선을 발생시키도록 제어하는 다중 에너지 엑스선 발생 제어 장치에 의해 수행되는 다중 에너지 엑스선 발생 제어 방법에 있어서,상기 복수의 타겟 중 발산하려는 에너지에 대응되는 어느 하나의 타겟에 전자빔이 충돌하여 엑스선이 발생되도록 상기 필라멘트, 상기 애노드 및 상기 전자석 각각에 전압을 인가하는 필라멘트 전압원, 애노드 전압원 및 전자석 전압원에서의 전압 인가 타이밍을 제어하는 단계와,상기 제어하는 단계에서의 상기 제어에 기초하여 상기 필라멘트 전압원, 상기 애노드 전압원 및 상기 전자석 전압원 각각이 턴온 또는 턴오프되는 단계를 포함하는다중 에너지 엑스선 발생 제어 방법
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