| 1 |
1
특정 파장의 여기 광 조사에 따라 특정 파장의 방출 광을 방출하는 특수물질을 인식하는 방법에 있어서,인식 장치가, 제1 여기 광을 조사하여 특수물질로부터 제1 방출 광을 방출시키고, 상기 제1 방출 광의 잔광 시간(Decay Time) 내에 제2 여기 광을 조사하여 특수물질로부터 제2 방출 광을 방출시키는 여기 광 조사 단계; 및상기 인식 장치가, 상기 제1 방출 광의 잔광이 상기 제2 방출 광에 합쳐져 광 세기가 조절된 방출 광을 수광하는 방출 광 수집 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 특수물질 인식 방법
|
| 2 |
2
제 1 항에 있어서,상기 여기 광 조사 단계는,상기 제1 방출 광 또는 상기 제2 방출 광의 잔광 시간 내에 상기 제1 여기 광 또는 상기 제2 여기 광의 조사를 반복적으로 수행하여 상기 방출 광의 세기를 누적적으로 점차 증가시키는 것을 특징으로 하는 보안 요소 인식 방법
|
| 3 |
3
제 1 항에 있어서,상기 여기 광 조사 단계는,주기적인 펄스 형태의 여기 광에서 선택된 상기 제1 여기 광과 상기 제2 여기 광으로 상기 특수 물질을 조사하되,상기 제1 방출 광 또는 상기 제2 방출 광의 잔광 시간을 기초로 상기 펄스 형태의 여기 광에 대한 조사 주기를 조절하는 것을 특징으로 하는 특수물질 인식 방법
|
| 4 |
4
제1 항에 있어서,상기 방출 광 수집 단계는,상기 여기 광 조사 단계의 수행에 따른 광 세기 조절을 통해 검출 가능 세기의 방출 광이 수광되며,상기 인증장치가, 조사된 여기 광과 수광된 방출 광의 특성을 기초로 상기 특수물질을 인식하는 특수물질 인식 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 특수물질 인식 방법
|
| 5 |
5
제 1 항에 있어서,상기 여기 광 조사 단계는,제1 조사 파장을 갖는 제1 여기 광의 조사에 따라 제1 특수 물질로부터 제1 발광 파장을 갖는 방출 광의 잔광 시간 내에 제2 조사 파장을 갖는 제2 여기 광을 조사하여 제2 특수 물질로부터 제1 발광 파장을 갖는 방출 광을 방출시키며, 상기 방출 광 수집 단계는,상기 제1 특수 물질로부터 방출된 제1 발광 파장의 잔광이 상기 제2 특수 물질로부터 방출된 제1 발광 파장의 방출 광에 합쳐져 광 세기 조절을 통해 검출 가능 세기의 방출 광으로 수광되는 것을 특징으로 하는 특수물질 인식 방법
|
| 6 |
6
제 5 항에 있어서,상기 인증장치가, 조사된 상기 제1 여기 광과 상기 제2 여기 광의 특성 및 수광된 상기 제1 특수물질의 방출 광과 상기 제2 특수물질의 방출 광의 특성을 기초로 상기 제1 특수물질과 상기 제2 특수물질을 인식하는 특수물질 인식 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 특수물질 인식 방법
|
| 7 |
7
제 4 항 또는 제 6 항에 있어서,상기 인증장치가, 특수물질에 대한 인식을 기초로 보안 요소에 대한 인증을 수행하는 보안 요소 인증 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 특수물질 인식 방법
|
| 8 |
8
여기 광을 조사하여 특수물질로부터 방출되는 방출 광을 인식하는 장치로서,제1 여기 광을 조사하여 특수물질로부터 제1 방출 광을 방출시키고, 상기 제1 방출 광의 잔광 시간(Decay Time) 내에 제2 여기 광을 조사하여 특수물질로부터 제2 방출 광을 방출시키는 여기 광 조절 수단; 및상기 제1 방출 광의 잔광이 상기 제2 방출 광에 합쳐져 광 세기가 조절된 방출 광을 수광하여 특수물질을 인식하는 인식 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 특수 물질 인식 장치
|
| 9 |
9
제 8 항에 있어서,상기 여기 광 조절 수단은,상기 제1 방출 광의 잔광 시간 내에 제2 여기 광을 조사하고 상기 제2 방출 광의 잔광 시간 내에 상기 제1 여기 광을 조사하여 상기 방출 광의 세기를 누적적으로 점차 증가시키는 것을 특징으로 하는 특수 물질 인식 장치
|
| 10 |
10
제 8 항에 있어서,상기 여기 광 조절 수단은,여기 광을 생성하는 발광부;여기 광의 조사 주기 또는 조사 시점을 조절하는 여기 광 조절부; 및여기 광을 방출하는 여기 광 방출부를 포함하는 것을 특징으로 하는 특수 물질 인식 장치
|
| 11 |
11
제 10 항에 있어서,상기 여기 광 조절부는,펄스파를 생성하는 펄스 제너레이터; 및펄스파의 주기를 조절하는 변조부를 포함하며,상기 여기 광 방출부는,주기가 조절된 펄스파를 기초로 여기 광을 방출하는 것을 특징으로 하는 특수 물질 인식 장치
|
| 12 |
12
제 8 항에 있어서,상기 인식 수단의 특수물질에 대한 인식을 기초로 보안 요소에 대한 인증을 수행하는 인증 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 특수 물질 인식 장치
|
