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시간에 따라 반복하여 광을 출력하는 광 생성부;상기 광 생성부에서 출력된 광의 일부를 반사하는 광섬유 브래그 격자들이 광섬유로 연결되어 이산된 간격 위치에 분포되는 광 센서부;상기 광 센서부에서 반사된 광을 측정하여 수신된 시간에 따른 이산된 간격 위치에서의 외력의 위치와 세기 정보로 변환하는 광 수신부;상기 광 수신부에서 변환된 이산된 간격 위치에서의 외력의 위치와 세기 정보를 바탕으로 이산된 간격 사이의 연속된 위치에서의 외력의 위치와 세기를 수치화하여 출력하는 신호 분석부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 이산 분포된 광섬유 브래그 격자를 이용한 연속 분포 외력 측정 시스템
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제 1 항에 있어서, 광 생성부는 시간에 따라 반복하여 중심파장이 변화하는 광을 출력하고,광 수신부는 상기 광 센서부에서 반사된 광의 시간에 따른 중심파장을 측정하여 수신된 시간에 따른 외력의 위치와 세기 정보로 변환하는 것을 특징으로 하는 이산 분포된 광섬유 브래그 격자를 이용한 연속 분포 외력 측정 시스템
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제 1 항에 있어서, 광 생성부는 시간에 따라 반복하여 능동모드 잠금을 제어하는 전기신호의 주파수를 변화하는 광을 출력하고,광 수신부는 상기 광 센서부에서 반사된 광의 시간에 따른 능동모드 잠금에 해당하는 전기신호의 주파수를 측정하여 수신된 시간에 따른 외력의 위치와 세기 정보로 변환하는 것을 특징으로 하는 이산 분포된 광섬유 브래그 격자를 이용한 연속 분포 외력 측정 시스템
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제 1 항에 있어서, 광 센서부는,2개 이상의 광섬유 브래그 격자를 가지는 광섬유 브래그 격자 배열을 포함하며, 각각의 광섬유 브래그 격자들은 매개체로 둘러 쌓여 이산된 간격에 위치하는 형태를 유지하는 것을 특징으로 하는 이산 분포된 광섬유 브래그 격자를 이용한 연속 분포 외력 측정 시스템
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제 4 항에 있어서, 매개체는,외력이 가해질 경우 2개 이상의 위치의 광섬유 브래그 격자로 상기 외력의 위치와 세기 정보를 나누어 전달하는 것을 특징으로 하는 이산 분포된 광섬유 브래그 격자를 이용한 연속 분포 외력 측정 시스템
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제 1 항에 있어서, 신호 분석부는,광섬유 브래그 격자센서가 놓여 진 매개체 위치에서의 세기 정보를 바탕으로 상기 광섬유 브래그 격자가 놓여 지지 않은 이산된 간격 사이의 연속된 위치에서의 세기정보를 추정하는 추정부를 포함하는 것을 특징으로 하는 이산 분포된 광섬유 브래그 격자를 이용한 연속 분포 외력 측정 시스템
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제 6 항에 있어서, 추정부는,이산된 간격으로 분포된 광섬유 브래그 격자가 놓여 진 매개체의 물성과 광 수신부의 신호를 바탕으로 이산된 간격 사이의 연속된 위치에서의 외력의 위치와 세기를 연산하는 연산부를 포함하는 것을 특징으로 하는 이산 분포된 광섬유 브래그 격자를 이용한 연속 분포 외력 측정 시스템
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제 6 항에 있어서, 추정부는,이산된 간격 위치에서 측정된 외력의 위치와 세기를 바탕으로 이산된 간격 사이의 연속된 위치의 외력의 위치와 세기를 학습하는 학습부을 포함하는 것을 특징으로 하는 이산 분포된 광섬유 브래그 격자를 이용한 연속 분포 외력 측정 시스템
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제 1 항에 있어서, 외력이 가해지는 지점은 같으나 외력의 크기가 다른 경우에는,서로 이산된 광섬유 브래그 격자들이 파장의 변화가 같은 비율로 반응하고, 가해지는 외력이 큰 경우에 파장의 변화가 더 많이 일어나는 것을 특징으로 하는 이산 분포된 광섬유 브래그 격자를 이용한 연속 분포 외력 측정 시스템
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제 1 항에 있어서, 같은 크기의 외력이 다른 지점에서 가해지는 경우에는,외력이 가해지는 위치에 더 가까운 광섬유 브래그 격자에 더 많은 파장 변화가 일어나는 것을 특징으로 하는 이산 분포된 광섬유 브래그 격자를 이용한 연속 분포 외력 측정 시스템
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제 1 항에 있어서, 가해지는 외력의 크기에 따라 광섬유 브래그 격자들의 총 파장 변화량이 달라지고,외력이 가해지는 위치 변화에 따라 광섬유 브래그 격자들 간의 파장 변화의 비율이 달라지는 것을 특징으로 하는 이산 분포된 광섬유 브래그 격자를 이용한 연속 분포 외력 측정 시스템
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광 생성부에서 광이 출력되어 광 센서부로 입사되는 단계;광 센서부로 입사된 광이 외력에 의해 광신호의 변화를 발생시키는 단계;상기 광신호의 변화를 광 수신부에서 이산된 간격 위치에서의 외력의 위치와 세기로 변환하는 단계;신호 분석부의 추정부가 연산부를 통해 연속된 위치에서의 외력의 위치와 강도를 수학적으로 추정하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 이산 분포된 광섬유 브래그 격자를 이용한 연속 분포 외력 측정 방법
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광 생성부에서 광이 출력되어 광 센서부로 입사되는 단계;광 센서부로 입사된 광이 외력에 의해 광신호의 변화를 발생시키는 단계;상기 광신호의 변화를 광 수신부에서 이산된 간격 위치에서의 외력의 위치와 세기로 변환하는 단계;신호 분석부의 학습부에서 임의의 신호를 학습하는 단계;신호 분석부의 추정부가 상기 학습부의 학습된 정보를 통해 연속된 위치에서의 외력의 위치와 강도를 추정하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 이산 분포된 광섬유 브래그 격자를 이용한 연속 분포 외력 측정 방법
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제 13 항에 있어서, 광 센서부에 특정 외력을 입력하고 광 수신부에서 신호를 수집하여 학습 데이터 셋을 구축하고,학습 데이터 셋이 구축되면 학습부에서 데이터셋을 바탕으로 학습을 하는 학습부의 학습 과정을 먼저 수행하는 것을 특징으로 하는 이산 분포된 광섬유 브래그 격자를 이용한 연속 분포 외력 측정 방법
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제 12 항 또는 제 13 항에 있어서, 외력이 가해지는 지점은 같으나 외력의 크기가 다른 경우에는,서로 이산된 광섬유 브래그 격자들이 파장의 변화가 같은 비율로 반응하고, 가해지는 외력이 큰 경우에 파장의 변화가 더 많이 일어나는 것을 특징으로 하는 이산 분포된 광섬유 브래그 격자를 이용한 연속 분포 외력 측정 방법
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제 12 항 또는 제 13 항에 있어서, 같은 크기의 외력이 다른 지점에서 가해지는 경우에는,외력이 가해지는 위치에 더 가까운 광섬유 브래그 격자에 더 많은 파장 변화가 일어나는 것을 특징으로 하는 이산 분포된 광섬유 브래그 격자를 이용한 연속 분포 외력 측정 방법
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제 12 항 또는 제 13 항에 있어서, 가해지는 외력의 크기에 따라 광섬유 브래그 격자들의 총 파장 변화량이 달라지고,외력이 가해지는 위치 변화에 따라 광섬유 브래그 격자들 간의 파장 변화의 비율이 달라지는 것을 특징으로 하는 이산 분포된 광섬유 브래그 격자를 이용한 연속 분포 외력 측정 방법
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