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금속 또는 고분자 물질을 포함하는 다공성 프레임;상기 다공성 프레임의 양면을 덮고, 상기 다공성 프레임의 기공을 채우는 고체전해질입자들; 및상기 고체전해질입자들 사이의 바인더를 포함하는 고체전해질막
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제 1항에 있어서,상기 다공성 프레임의 두께는 1um 내지 200um인 고체전해질막
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제 1항에 있어서,상기 다공성 프레임은 금속을 포함하고,상기 다공성 프레임의 상기 양면 및 상기 기공의 내면을 덮는 절연층을 더 포함하는 고체전해질막
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제 3항에 있어서,상기 절연층의 두께는 상기 다공성 프레임의 두께보다 얇은 고체전해질막
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제 4항에 있어서,상기 절연층의 두께는 10nm 내지 10um인 고체전해질막
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제 3항에 있어서,상기 절연층은 금속산화막을 포함하는 고체전해질막
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제 1항에 있어서,상기 고체전해질입자들 및 상기 바인더의 조성비는 중량 기준 20:80 내지 99:1인 고체전해질막
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제 1항에 있어서,상기 기공은 원형이며,상기 기공의 지름은 0
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고체전해질입자들 및 바인더를 포함하는 혼합물을 교반하는 단계;다공성 프레임의 표면 상에 상기 혼합물을 제공하는 단계; 및상기 혼합물이 제공된 상기 다공성 프레임을 압착하는 단계를 포함하되,상기 다공성 프레임은 금속 또는 고분자 물질을 포함하며,상기 고체전해질입자들 및 상기 바인더는 상기 다공성 프레임의 양면을 덮고 상기 다공성 프레임의 기공을 채우는 고체전해질막의 제조방법
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제 9항에 있어서,상기 혼합물은 공용매를 더 포함하며,상기 공용매는 헥산, 헵탄, 노난, 데칸, 벤젠, 톨루엔, 자일렌, 아니솔, 사이클로헥사논, 메틸에틸케톤, 테트라하이드로퓨란, N-메틸피롤리돈, 헥사메틸포스포아미드, 디옥산, 테트라메틸우레아, 트리에틸포스페이트, 트리메틸포스페이트, 다이메틸포름아마이드, 다이메틸설폭사이드, 다이메틸아세트아마이드 중 적어도 하나를 포함하는 것인 고체전해질막의 제조방법
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제 10항에 있어서,상기 다공성 프레임의 표면 상에 상기 혼합물을 제공하는 단계는 상기 다공성 프레임의 상기 양면 및 상기 기공의 내면 상에 상기 혼합물을 직접 코팅하는 것을 포함하는 고체전해질막의 제조방법
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제 10항에 있어서,상기 혼합물을 캐스팅하는 단계; 및상기 혼합물의 상기 공용매를 건조하여 고체전해질 필름을 제조하는 단계를 더 포함하며,상기 다공성 프레임의 표면 상에 상기 혼합물을 제공하는 단계는 상기 다공성 프레임의 양면 및 기공의 내면 상에 상기 고체전해질 필름을 라미네이션하는 것을 포함하는 고체전해질막의 제조방법
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제 9항에 있어서,상기 고체전해질입자들 및 상기 바인더를 포함하는 혼합물의 교반 후, 상기 혼합물에 비양자성 용매를 추가하는 단계를 더 포함하며,상기 비양자성 용매는 헥산, 벤젠, 톨루엔, 자일렌, 사이클로헥사논, 메틸에틸케톤 중 적어도 하나를 포함하는 것인 고체전해질막의 제조방법
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제 13항에 있어서,상기 혼합물 및 상기 비양자성 용매의 조성비는 중량 기준 1:0
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제 14항에 있어서,상기 다공성 프레임의 표면 상에 상기 혼합물을 제공하는 단계는 상기 다공성 프레임의 상기 양면 및 상기 기공의 내면 상에 상기 비양자성 용매가 추가된 상기 혼합물을 직접 코팅하는 것을 포함하는 고체전해질막의 제조방법
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제 14항에 있어서,상기 비양자성 용매가 추가된 상기 혼합물을 캐스팅하는 단계; 및상기 혼합물을 냉각하여 고체전해질 필름을 제조하는 단계를 더 포함하며,상기 다공성 프레임의 표면 상에 상기 혼합물을 제공하는 단계는 상기 다공성 프레임의 양면 및 기공의 내면 상에 상기 고체전해질 필름을 라미네이션하는 것을 포함하는 고체전해질막의 제조방법
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양극;음극; 및고체전해질을 포함하고,상기 고체전해질은 제 1항 내지 제 8항 중 어느 한 항에 따른 고체전해질막인 전고체전지
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