| 1 |
1
산화그래핀 및 세라믹 물질로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상을 포함하는 원료 물질; 및 에탄올을 포함하고,상기 원료 물질의 함량은 상기 원료 물질과 에탄올 전체 함량의 25 중량% 내지 35 중량%인,2차원 물질을 이용한 반죽 형태의 원료
|
| 2 |
2
제1항에 있어서,상기 세라믹 물질은 M2X, M3X2 및 M4X3으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상을 포함하며,상기 M은 전이금속이고, X는 C 또는 N인 것을 특징으로 하는,2차원 물질을 이용한 반죽 형태의 원료
|
| 3 |
3
제2항에 있어서,상기 M은 Ti, V, Nb, Mo 또는 W이고,상기 X는 C인 것을 특징으로 하는,2차원 물질을 이용한 반죽 형태의 원료
|
| 4 |
4
삭제
|
| 5 |
5
삭제
|
| 6 |
6
제1항에 있어서,상기 반죽 형태의 원료는 탄소나노튜브, 산화철 및 니켈로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 전도성 나노소재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는,2차원 물질을 이용한 반죽 형태의 원료
|
| 7 |
7
산화그래핀 및 세라믹 물질로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상을 포함하는 원료 물질을 포함하는 원료 용액을 3분 내지 8분 동안 급속 냉각시킨 후 1일 내지 5일간 동결 건조시켜 폼 형태의 원료를 제조하는 단계; 및상기 폼 형태의 원료에 에탄올을 투입하여 반죽 형태의 원료를 제조하는 단계를 포함하고,상기 반죽 형태의 원료를 제조하는 단계에서, 에탄올은 상기 원료의 함량이 상기 원료와 에탄올 전체 함량의 25 중량% 내지 35 중량%가 되도록 투입하는,2차원 물질을 이용한 반죽 형태의 원료 제조방법
|
| 8 |
8
제7항에 있어서,상기 원료 용액에 포함된 원료 물질의 함량은 상기 원료 용액의 전체 함량의 0
|
| 9 |
9
제7항에 있어서,상기 반죽 형태의 원료를 제조하는 단계에서 탄소나노튜브, 산화철 및 니켈로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 전도성 나노소재를 더 투입하는 것을 특징으로 하는,2차원 물질을 이용한 반죽 형태의 원료 제조방법
|
| 10 |
10
제9항에 있어서,상기 반죽 형태의 원료를 제조하는 단계에서, 탄소나노튜브를 분말 형태로 투입하는 것을 특징으로 하는,2차원 물질을 이용한 반죽 형태의 원료 제조방법
|
| 11 |
11
산화그래핀 및 세라믹 물질 각각을 원료 물질로서 포함하는 원료 용액을 3분 내지 8분 동안 급속 냉각시킨 후 1일 내지 5일간 동결 건조시켜 폼 형태의 원료를 제조하는 단계;상기 폼 형태의 원료 각각에 에탄올을 투입하여 반죽 형태의 원료를 제조하는 단계; 및상기 제조된 반죽 형태의 산화그래핀과 반죽 형태의 세라믹 물질을 혼합하여 혼합 반죽을 제조하는 단계를 포함하며,상기 반죽 형태의 원료를 제조하는 단계에서, 에탄올은 상기 원료의 함량이 상기 원료와 에탄올 전체 함량의 25 중량% 내지 35 중량%가 되도록 투입하는,2차원 물질을 이용한 반죽 형태의 원료 제조방법
|
| 12 |
12
제11항에 있어서,상기 혼합 반죽은 산화그래핀 반죽과 세라믹 물질 반죽의 중량비가 5:1 내지 1:5인 것을 특징으로 하는,2차원 물질을 이용한 반죽 형태의 원료 제조방법
|
| 13 |
13
제1항에 따른 반죽 형태의 원료를 이용하여 제조한 전자 소재
|
| 14 |
14
제13항에 있어서,제1항에 따른 반죽 형태의 원료를 원하는 구조로 성형하는 단계;20 ℃ 내지 3000 ℃에서 열처리하는 단계를 포함하여 제조되는 것을 특징으로 하는,전자 소재
|
| 15 |
15
제14항에 있어서,상기 열처리하는 단계 이전에 50 ℃ 내지 80 ℃의 온도에서 건조시키는 단계를 더 포함하여 제조되는 것을 특징으로 하는,전자 소재
|
| 16 |
16
제14항에 있어서,상기 반죽 형태의 원료를 5 ㎛ 내지 500 ㎛ 두께의 필름으로 성형하는 것을 특징으로 하는,전자 소재
|
| 17 |
17
제16항에 있어서,상기 전자 소재의 밀도는 1
|
