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미세 전극 표면에 나노다공성 금 형성방법

  • 기술번호 : KST2022017464
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 미세 전극 표면에 나노다공성 금 형성방법에 관한 것으로, 구체적으로 직경이 50 ㎛ 이하인 로드형태의 금 전극을 준비하는 단계; 상기 금 전극을 염소이온을 포함한 전해질 용액에 침지하는 단계; 상기 금 전극에 염소이온을 포함한 전해질 용액에서 10 mVs-1 이하의 속도로 시작 전위에서 종결 전위까지 전위를 인가하며 스캔하는 단계;를 포함하는 미세 전극 표면에 나노다공성 금 형성방법을 제공한다. 본 발명에 따르면, 짧은 시간에 간단한 방법으로 초미세 전극 표면에 나노다공성 금 구조를 형성할 수 있는 효과가 있다. 본 발명에 따라 표면적이 큰 나노다공성 구조가 형성된 초미세 전극은 다양한 전기화학적 조사 및 분석에 응용될 수 있는 장점이 있다.
Int. CL G01N 27/327 (2006.01.01) G01N 27/414 (2006.01.01) C23C 14/14 (2006.01.01) C23C 14/58 (2006.01.01) B82Y 25/00 (2017.01.01) B82Y 40/00 (2017.01.01)
CPC G01N 27/3278(2013.01) G01N 27/4146(2013.01) C23C 14/14(2013.01) C23C 14/58(2013.01) B82Y 25/00(2013.01) B82Y 40/00(2013.01)
출원번호/일자 1020210027145 (2021.03.02)
출원인 충북대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2022-0123788 (2022.09.13) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2021.03.02)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 충북대학교 산학협력단 대한민국 충청북도 청주시 서원구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김종원 서울특별시 서초구
2 이시연 세종특별자치시 시

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이원희 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 성지하이츠빌딩*차 ***호 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2021.03.02 수리 (Accepted) 1-1-2021-0240819-56
2 특허고객번호 정보변경(경정)신고서·정정신고서
 2021.08.09 수리 (Accepted) 4-1-2021-5213510-18
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2022.04.15 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
직경이 50 ㎛ 이하인 로드형태의 금 전극을 준비하는 단계;상기 금 전극을 염소이온을 포함한 전해질 용액에 침지하는 단계;상기 금 전극에 염소이온을 포함한 전해질 용액에서 10 mVs-1 이하의 속도로 시작 전위에서 종결 전위까지 전위를 인가하며 스캔하는 단계;를 포함하는, 미세전극 표면에 나노다공성 금 형성방법
2 2
제1항에 있어서,상기 전위 스캔 단계는 상기 시작 전위가 0
3 3
제1항에 있어서,상기 전위 스캔 단계는 상기 종결 전위가 1
4 4
제1항에 있어서,상기 로드 형태의 전극의 직경은 1 ㎛ 내지 30 ㎛ 인 것인, 미세 전극 표면에 나노다공성 금 형성방법
5 5
제1항에 있어서,상기 전위 스캔 속도는 0
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.