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용매, 티타늄 전구체 및 하기 화학식 1 로서 표현되는 유기 촉매를 사용하여 비정질 이산화티타늄 입자를 형성하는 단계;상기 비정질 이산화티타늄 입자를 비활성 기체 분위기에서 1 차 열처리하여 탄소 함유 루타일상 이산화티타늄 입자를 형성하는 단계; 및상기 탄소 함유 루타일상 이산화티타늄 입자를 2 차 열처리하여 구형 루타일상 이산화티타늄 입자를 형성하는 단계;를 포함하는,구형 이산화티타늄 입자의 제조 방법:[화학식 1](상기 화학식 1 에서,R 은 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 의 선형 또는 분지형의 알킬기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20의 아릴기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 의 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 의 알케닐기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 의 알키닐기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 의 사이클로알킬기, 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 의 헤테로아릴기임)
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제 1 항에 있어서,상기 비정질 이산화티타늄 입자의 내부에는 상기 유기 촉매가 포함된 것인, 구형 이산화티타늄 입자의 제조 방법
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제 2 항에 있어서,상기 유기 촉매는 상기 1 차 열처리에 의해 탄화(carbonization)되는 것인, 구형 이산화티타늄 입자의 제조 방법
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제 3 항에 있어서,상기 탄화된 유기 촉매는 상기 2 차 열처리에 의해 제거되는 것인, 구형 이산화티타늄 입자의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 유기 촉매의 탄소는 상기 비정질 이산화티타늄 입자의 결정립의 성장(grain growth)을 억제하는 것인, 구형 이산화티타늄 입자의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 비정질 이산화티타늄 입자의 직경은 100 nm 내지 1,000 nm 인, 구형 이산화티타늄 입자의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 탄소 함유 루타일상 이산화티타늄 입자의 직경은, 상기 비정질 이산화티타늄 입자의 직경의 50% 내지 90% 인, 구형 이산화티타늄 입자의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 1 차 열처리는 비활성기체 분위기에서 700℃ 내지 900℃ 에서 열처리되는 것인, 구형 이산화티타늄 입자의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 2 차 열처리는 상기 탄소 함유 루타일상 이산화티타늄 입자의 루타일상 이산화티타늄 결정의 성장 또는 재결정화를 억제하는 것인, 구형 이산화티타늄 입자의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 2 차 열처리는 500℃ 내지 700℃ 에서 열처리되는 것인, 구형 이산화티타늄 입자의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 용매는 아세토나이트릴(acetonitrile), 메탄올, 에탄올, 프로판올, H2O, 아세톤, 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택된 것을 포함하는 것인, 구형 이산화티타늄 입자의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 비정질 이산화티타늄 입자의 제조 방법은 졸-겔법(sol-gel process), 밀링(milling), 균질화(Homogenization), 전기분무(electrospray), 자기조립(self-assembly), 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택된 것을 포함하는 것인, 구형 이산화티타늄 입자의 제조 방법
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제 1 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 따른 방법에 의해 제조된 것인, 구형 이산화티타늄 입자
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제 13 항에 있어서,상기 구형 이산화티타늄 입자의 직경은 100 nm 내지 600 nm 인, 구형 이산화티타늄 입자
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제 13 항에 있어서,상기 구형 이산화티타늄 입자의 굴절률(refractive index)은 2
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제 13 항에 따른 구형 이산화티타늄 입자를 포함하는, 화장품
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제 16 항에 있어서,상기 화장품은 자외선 차단제, 미백제, 썬크림, 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택된 것을 포함하는 것인, 화장품
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