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(a) 탄소 분말을 준비하는 단계;(b) 상기 탄소 분말을 은이온이 포함된 용액에 침지하고 혼합하는 단계;(c) 상기 (b) 단계에서 수득된 혼합용액에 염기용액을 부가하고 여과하는 단계; (d) 상기 (c) 단계에서 수득된 여과물을 가열 및 건조하는 단계; 및 (e) 상기 (d) 단계에서 수득된 은이 코팅된 탄소 분말을 이용하여 전극을 제조하는 단계를 포함하는 은 코팅 탄소 전극의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 (a) 단계에서 사용되는 탄소 분말은 활성탄, 그래핀, 탄소 나노튜브, 탄소 섬유로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 은 코팅 탄소 전극의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 (b) 단계는 은이온이 포함된 용액의 농도가 10~100mM이고, 10~300분간 교반하여 수행되는 것을 특징으로 하는 은 코팅 탄소 전극의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 (b) 단계에서 은이온이 포함된 용액은 질산은, 염화은, 황산은, 수산화은으로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 은 코팅 탄소 전극의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 (b) 단계는 UV를 조사하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 은 코팅 탄소 전극의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 (c) 단계에서 염기용액은 수산화나트륨, 수산화암모늄, 수산화칼륨, 탄산나트륨으로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 은 코팅 탄소 전극의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 (d) 단계에서 가열 및 건조는 110~130℃에서 수행되는 것을 특징으로 하는 은 코팅 탄소 전극의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 은 코팅 탄소 전극이 축전식 탈염 공정 또는 유가 금속 이온 회수 공정용으로 사용되는 것을 특징으로 하는 은 코팅 탄소 전극의 제조방법
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제1항에 내지 제8항 중 어느 한 항에 따른 제조방법으로 제조된 은 코팅 탄소 전극
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