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RF 이온빔보조 마그네트론 스퍼터링장치.

  • 기술번호 : KST2022017912
  • 담당센터 : 광주기술혁신센터
  • 전화번호 : 062-360-4654
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명에 따른 RF 이온빔보조 마그네트론 스퍼터링장치는 박막형성공간을 가지는 챔버와, 상기 챔버의 박막형성공간에 위치되어 측면에 피증착물을 고정하기 위한 피증착물장착부가 구비된 홀더유닛과, 상기 피증착물장착부의 수평중심축에 대해 하부측의 삼사분면과 사사분면측에 위치되어 하부측으로부터 상기 피증착물장착부의 수평중심측으로 타겟물질을 상향 방출하기 위한 마그네트론 스퍼터소스들과, 상기 수평중심축의 상부측의 챔버에 설치되어 상기 피증착물장착부의 중심을 향하여 이온빔을 하향조사하는 적어도 하나의 RF이온빔소스, 상기 챔버의 박막형성공간을 진공시키기 위한 진공퍼지유닛과, 상기 홀더유닛의 상부에 설치되어 상기 마그네트론 스퍼터소스와 RF이온빔소스의 초기 구동으로인 한 불완전한 증착을 방지할 수 있는 셔터부를 구비한다.
Int. CL C23C 14/35 (2006.01.01) C23C 14/46 (2006.01.01) C23C 14/56 (2006.01.01) C23C 14/50 (2006.01.01) C23C 14/54 (2018.01.01)
CPC C23C 14/354(2013.01) C23C 14/46(2013.01) C23C 14/564(2013.01) C23C 14/505(2013.01) C23C 14/541(2013.01)
출원번호/일자 1020210026399 (2021.02.26)
출원인 한국광기술원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2022-0122151 (2022.09.02) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2021.02.26)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국광기술원 대한민국 광주광역시 북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 강희영 광주광역시 광산구
2 김태영 경상북도 영천시
3 황보창권 인천광역시 연수구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이재량 대한민국 광주광역시 광산구 하남산단*번로 ***, *층(도천동, 광주경제고용진흥원)(가온특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2021.02.26 수리 (Accepted) 1-1-2021-0235682-70
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2021.03.24 수리 (Accepted) 4-1-2021-5095035-96
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2021.11.16 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
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번호 청구항
1 1
박막형성공간을 가지는 챔버와, 상기 챔버의 박막형성공간에 위치되어 측면에 피증착물을 고정하기 위한 피증착물장착부가 구비된 홀더유닛과, 상기 피증착물장착부의 수평중심축에 대해 하부측의 삼사분면과 사사분면측에 위치되어 하부측으로부터 상기 피증착물장착부의 수평중심측으로 타겟물질을 상향 방출하기 위한 마그네트론 스퍼터소스들과, 상기 수평중심축의 상부측의 챔버에 설치되어 상기 피증착물장착부의 중심을 향하여 이온빔을 하향조사하는 적어도 하나의 RF이온빔소스와, 상기 챔버의 박막형성공간을 진공시키기 위한 진공퍼지유닛과, 상기 홀더유닛의 상부에 설치되어 상기 마그네트론 스퍼터소스와 RF이온빔소스의 초기 구동으로인 한 불완전한 증착을 방지할 수 있는 셔터부를 구비한 것을 특징으로 하는 RF 이온빔보조 마그네트론 스퍼터링장치
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제 1항에 있어서, 상기 챔버에는 홀더유닛를 공전, 자전 및 승강시키기 위한 구동부를 더 구비하며, 상기 구동부는 챔버와 결합되는 베이스부재에 설치되어 홀더유닛을 지지하는 축수부와 상기 축수부의 내부에 설치되는 공전축 및 자전축과, 상기 공전축을 구동시켜 상기 홀더유닛을 회전시키기 위한 공전모터와, 상기 자전축과 연결되어 홀더유닛에 설치된 피증착물장착부를 홀더유닛에 대해 회전시키기 위한 자전모터와, 상기 홀더유닛을 승강시키기 위한 승강모터를 구비하며, 상기 공전축은 홀더유닛과 축수부의 내부에 설치된 공전축을 이용하여 홀더유닛을 회전시키는 구조를 가지며, 상기 자전축은 공전축에 상대회전가능하게 지지되며 상기 피증착물장착부를 회전시킬 수 있도록 피증착물 장착무의 회전축과 동력전달유닛에 의해 연결된 것을 특징으로 하는 RF 이온빔보조 마그네트론 스퍼터링장치
3 3
제 1항에 있어서, 상기 셔터부는 마그네트론 스퍼터소스들, RF이온빔소스들과, 피증착물장착부의 사이에 설치되는 차단부재와, 상기 챔버에 설치되어 차단부재를 전후진 시키기 위한 액튜에이터를 구비한 것을 특징으로 하는 RF 이온빔보조 마그네트론 스퍼터링장치
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제 1항에 있어서, 상기 홀더장착부에 장착된 피증착대상물을 가열하기 위한 히터를 가진 가열부가 더 구비된 것을 특징으로 하는 RF 이온빔보조 마그네트론 스퍼터링장치
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제 1항에 있어서, 상기 피증착물장착부의 수평중식축의 중심에 대하여 상기 삼사분면과 사사분면에 위치되는 마그네트론 스퍼터소스의 설치경사각은 30도를 유지하며 상기 피증착물장착부의 수평중심축에 대해 RF이온빔소스의 설치 경사각은 25도를 유지하며, 상기 수평중심축에 대해 마그네트론 스퍼터소스들의 배열각도는 34
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 중소벤처기업부 (주)인포비온 중소기업기술혁신개발(R&D) Defect-free 극자외선 blank mask 제작을 위한 대면적 ion beam sputter source 국산화 개발