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아연티타늄 산화물(ZnxTiyO) 복합막의 제조 방법 및 이를 통해 제조된 아연티타늄 산화물(ZnxTiyO) 복합막

  • 기술번호 : KST2022018278
  • 담당센터 : 대구기술혁신센터
  • 전화번호 : 053-550-1450
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 아연티타늄 산화물(ZnxTiyO) 복합막의 제조 방법 및 이를 통해 제조된 아연티타늄 산화물(ZnxTiyO) 복합막을 개시한다. 본 발명의 실시예에 따른 아연티타늄 산화물(ZnxTiyO) 복합막의 제조 방법은 기판 상에 제1 서브 사이클을 이용하여 티타늄 산화물막을 형성하는 단계; 상기 티타늄 산화물막 상에 제2 서브 사이클을 이용하여 아연 산화물막을 형성하는 단계; 상기 제1 서브 사이클 및 상기 제2 서브 사이클은 복수회 반복 진행하여 티타늄 산화물막/아연 산화물막 적층 구조물을 형성하는 단계; 및 상기 티타늄 산화물막/아연 산화물막 적층 구조물을 열처리하여 아연티타늄 산화물(ZnxTiyO) 복합막을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
Int. CL H01L 31/18 (2006.01.01) H01L 31/0224 (2006.01.01) H01L 31/032 (2006.01.01) C23C 16/40 (2006.01.01) C23C 16/455 (2006.01.01) C23C 16/56 (2006.01.01)
CPC H01L 31/1884(2013.01) H01L 31/022483(2013.01) H01L 31/0322(2013.01) C23C 16/40(2013.01) C23C 16/45529(2013.01) C23C 16/45553(2013.01) C23C 16/56(2013.01) Y02E 10/541(2013.01)
출원번호/일자 1020220019923 (2022.02.16)
출원인 재단법인대구경북과학기술원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2022-0117171 (2022.08.23) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020210020219   |   2021.02.16
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2022.02.16)
심사청구항수 14

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 재단법인대구경북과학기술원 대한민국 대구 달성군 현

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이재백 대구광역시 달성군 현풍읍
2 김대환 대구광역시 수성구
3 성시준 대구광역시 수성구
4 강진규 대구광역시 수성구
5 박시내 대구광역시 북구
6 양기정 대구광역시 수성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김연권 대한민국 서울특별시 송파구 법원로 ***, ****/****호(문정동, 문정대명벨리온)(시안특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
최종권리자 정보가 없습니다
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2022.02.16 수리 (Accepted) 1-1-2022-0171755-60
2 특허고객번호 정보변경(경정)신고서·정정신고서
2022.07.29 수리 (Accepted) 4-1-2022-5178676-45
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번호 청구항
1 1
기판 상에 제1 서브 사이클을 이용하여 티타늄 산화물막을 형성하는 단계; 상기 티타늄 산화물막 상에 제2 서브 사이클을 이용하여 아연 산화물막을 형성하는 단계;상기 제1 서브 사이클 및 상기 제2 서브 사이클을 포함하는 증착 사이클을 복수회 반복 진행하여 티타늄 산화물막/아연 산화물막 적층 구조물을 형성하는 단계; 및 상기 티타늄 산화물막/아연 산화물막 적층 구조물을 열처리하여 아연티타늄 산화물(ZnxTiyO) 복합막을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 아연티타늄 산화물(ZnxTiyO) 복합막의 제조 방법
2 2
제1항에 있어서,상기 티타늄 산화물막/아연 산화물막 적층 구조물을 열처리하여 아연티타늄 산화물(ZnxTiyO) 복합막을 형성하는 단계는,상기 티타늄 산화물막/아연 산화물막 적층 구조물에 포함된 티타늄 원소 및 아연 원소를 확산 및 재분포시키는 것을 특징으로 하는 아연티타늄 산화물(ZnxTiyO) 복합막의 제조 방법
3 3
제1항에 있어서,상기 제1 서브 사이클은,상기 기판 상에 티타늄 전구체를 노출시키는 단계;상기 티타늄 전구체를 챔버로부터 퍼지(purge)시키는 단계;상기 기판 상에 반응 가스를 노출시키는 단계; 및상기 반응 가스를 상기 챔버로부터 퍼지시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 아연티타늄 산화물(ZnxTiyO) 복합막의 제조 방법
4 4
제3항에 있어서,상기 티타늄 전구체는 티타늄 테트라 이소프로폭시드(TTIP)를 포함하는 것을 특징으로 하는 아연티타늄 산화물(ZnxTiyO) 복합막의 제조 방법
5 5
제3항에 있어서,상기 반응 가스는 H2O를 포함하는 것을 특징으로 하는 아연티타늄 산화물(ZnxTiyO) 복합막의 제조 방법
6 6
제1항에 있어서,상기 제2 서브 사이클은,상기 기판 상에 아연 전구체를 노출시키는 단계;상기 아연 전구체를 챔버로부터 퍼지시키는 단계;상기 기판 상에 반응 가스를 노출시키는 단계; 및상기 반응 가스를 상기 챔버로부터 퍼지시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 아연티타늄 산화물(ZnxTiyO) 복합막의 제조 방법
7 7
제6항에 있어서,상기 아연 전구체는 다이에틸징크(DEZn)를 포함하는 것을 특징으로 하는 아연티타늄 산화물(ZnxTiyO) 복합막의 제조 방법
8 8
제1항에 있어서,상기 증착 사이클은 150회 내지 300회 진행하는 특징으로 하는 아연티타늄 산화물(ZnxTiyO) 복합막의 제조 방법
9 9
제1항에 있어서,상기 티타늄 산화물막 또는 아연 산화물막의 두께는 10 Å 내지 50 Å 인 것을 특징으로 하는 아연티타늄 산화물(ZnxTiyO) 복합막의 제조 방법
10 10
제1항에 있어서,상기 아연티타늄 산화물(ZnxTiyO) 복합막의 두께는 50nm 내지 70nm인 것을 특징으로 하는 아연티타늄 산화물(ZnxTiyO) 복합막의 제조 방법
11 11
제1항에 있어서,상기 티타늄 산화물막/아연 산화물막 적층 구조물을 열처리하여 아연티타늄 산화물(ZnxTiyO) 복합막을 형성하는 단계는,150℃ 내지 260℃의 온도에서 진행되는 것을 특징으로 하는 아연티타늄 산화물(ZnxTiyO) 복합막의 제조 방법
12 12
제1항에 있어서,상기 기판은 소다석회유리(soda lime glass, SLG), 규소(Si, silicon), 금속 산화물(SiO2, silicon oxide), 산화알루미늄(Al2O3, aluminium oxide), 산화마그네슘(MgO, magnesium oxide), 탄화규소(SiC, silicon carbide), 질화규소(SiN, silicon nitride), 유리(glass), 석영(quartz), 사파이어(sapphire), 그래파이트(graphite), 그래핀(g raphene), 폴리이미드(PI, polyimide), 폴리에스테르(PE, polyester) 폴리에틸렌 나프탈레이트(PEN, poly(2,6-ethylenenaphthalate)), 폴리메틸 메타크릴레이트(PMMA, polymethyl methacrylate), 폴리우레탄(PU, polyurethane), 플루오르폴리머(FEP, fluoropolymers) 및 폴리에틸렌 테레프탈레이트(polyethyleneterephthalate, PET) 중 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 아연티타늄 산화물(ZnxTiyO) 복합막의 제조 방법
13 13
제1항에 따른 아연티타늄 산화물(ZnxTiyO) 복합막의 제조 방법으로 제조되는 것을 특징으로 하는 아연티타늄 산화물 ZnxTiyO) 복합막
14 14
기판 상에 제1 전극을 형성하는 단계;상기 제1 전극 상에 광흡수층을 형성하는 단계;상기 광흡수층 상에 버퍼층을 형성하는 단계;상기 버퍼층 상에 윈도우층을 형성하는 단계; 및상기 윈도우층 상에 제2 전극을 형성하는 단계;를 포함하고,상기 윈도우층은 제1항에 따른 아연티타늄 산화물(ZnxTiyO) 복합막의 제조 방법으로 형성되는 것을 특징으로 하는 CIGS 박막 태양전지의 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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