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1) 플라즈마 처리되어 오존 또는 분해부산물을 함유하는 가스 유체가 배출되는 단계;2) 상기 배출된 가스 유체가 루이스 산 또는 루이스 염기가 포함된 촉매부를 통과하는 단계; 및3) 상기 촉매부를 통과하여 오존 및 분해부산물이 제거된 기체를 배출하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 공정 중 발생하는 유해물질 제거방법
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제1항에 있어서, 상기 촉매부는 제 1촉매 및 제 2촉매를 포함하는 것을 특징으로 하는 제거방법
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제1항에 있어서, 상기 2) 단계는 상기 가스 유체가 제 1촉매를 포함하는 제 1촉매부를 통과하는 단계; 및 상기 제 1촉매부를 통과한 가스 유체가 제 2촉매를 포함하는 제 2촉매부를 통과하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 제거방법
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제1항에 있어서, 상기 분해부산물은 질산암모늄(NH4NO3), 아질산암모늄(NH4NO2), 아황산(H2SO3), 황산(H2SO4), 메탄(CH4), 포름산(HCOOH), 아세트산(CH3COOH), 일산화탄소(CO), 일산화질소(NO) 또는 염소(Cl2)를 포함하는 것을 특징으로 하는 제거방법
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제2항에 있어서, 상기 제 1촉매 및 상기 제 2촉매는 수용액 형태인 것을 특징으로 하는 제거방법
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제1항에 있어서, 상기 루이스산은 AlCl3, AlBr3, AlF3, FeCl3, FeBr3, BCl3, BF3, B(OH)3, TiCl4, TiBr4, ZnCl2, ZnBr2, SnCl4, SnBr4, BBr3, MgCl2, MgBr2, Mg(OTf)2, ZrCl4, ZrBr4, Zn(OTf)2, ScCl3, Sc(OTf)3, CuCl2, Cu(OTf)2, CoCl3, CoBr3, InCl3, InBr3 및 In(OTf)3로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 제거방법
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제1항에 있어서, 상기 루이스 염기는 LiOH, NaOH, KOH, Mg(OH)2, Ba(OH)2, Ca(OH)2, Na3PO4, KH2PO4, Ca3(PO4)2, (NH4)3PO4, CH3NH2, (CH3)2NH, N(CH3)3, N(CH2CH3)3, N(CH3(CH2)3)3, K2CO3, Na2CO3 및 SOCl2로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 제거방법
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제1항에 있어서, 상온에서 처리되는 것을 특징으로 하는 제거방법
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플라즈마 처리 후 오존 또는 분해부산물을 함유하는 가스 유체가 배출되는 배출부; 상기 배출부를 통과한 상기 가스 유체가 통과되는 촉매부; 및 루이스 산 또는 루이스 염을 포함하는 상기 촉매부로부터 오존 또는 분해부산물이 제거된 기체가 배출되는 배출구;를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 공정 중 발생하는 유해물질 제거장치
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제9항에 있어서, 상기 촉매부는 제 1촉매가 포함된 제 1촉매부; 제 2촉매가 포함된 제 2촉매부; 및 상기 제 1촉매부에서 배출된 상기 가스 유체가 상기 제 2촉매부로 유입되는 통로부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 유해물질 제거장치
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제10항에 있어서, 상기 제 1촉매 및 상기 제 2촉매는 수용액인 것을 특징으로 하는 유해물질 제거장치
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