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음극 집전체 및 이를 포함하는 금속 전지

  • 기술번호 : KST2022018353
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요약 본 발명은, 음극 집전체 및 금속 전지에 관한 것으로, 보다 구체적으로, 상기 집전체 기재의 적어도 일면의 적어도 일부분에 형성되고, 원자 두께의 이차원 물질층; 및 상기 이차원 물질층 상의 적어도 일부분에 형성된 금속층; 을 포함하는 것인, 음극 집전체 및 이를 포함하는 금속 전지에 관한 것이다. 또한, 본 발명은, 상기 음극 집전체의 제조방법을 더 제공할 수 있다.
Int. CL H01M 4/66 (2006.01.01) H01M 4/134 (2010.01.01) H01M 10/052 (2010.01.01) H01M 12/08 (2015.01.01) C23C 28/00 (2006.01.01) H01M 4/02 (2006.01.01)
CPC H01M 4/667(2013.01) H01M 4/661(2013.01) H01M 4/669(2013.01) H01M 4/134(2013.01) H01M 10/052(2013.01) H01M 12/08(2013.01) C23C 28/34(2013.01) C23C 28/322(2013.01) H01M 2004/027(2013.01)
출원번호/일자 1020210018524 (2021.02.09)
출원인 울산과학기술원, 연세대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2022-0114916 (2022.08.17) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2021.02.09)
심사청구항수 20

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 울산과학기술원 대한민국 울산광역시 울주군
2 연세대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 서대문구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 신현석 울산광역시 울주군
2 이상영 서울특별시 서대문구
3 김승혁 울산광역시 울주군
4 김민수 울산광역시 울주군

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 무한 대한민국 서울특별시 강남구 언주로 ***, *층(역삼동,화물재단빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2021.02.09 수리 (Accepted) 1-1-2021-0166743-60
2 [출원서 등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2022.04.22 수리 (Accepted) 1-1-2022-0437916-86
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
집전체 기재;상기 집전체 기재의 적어도 일면의 적어도 일부분에 형성되고, 원자 두께의 이차원 물질층; 및상기 이차원 물질층 상의 적어도 일부분에 형성된 금속층;을 포함하는 것인,음극 집전체
2 2
제1항에 있어서,상기 집전체 기재는, Ni, Cu, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Zn, Mo, W, Ag, Au, Ru, Pt, Ir, Li, Al, Sn, Bi, Sb 및 이들의 합금; 소성탄소; 및 스테인리스(stainless);로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나 이상을 포함하는 것인, 음극 집전체
3 3
제1항에 있어서,상기 집전체 기재는, Cu, Ni, Ti, 스테인리스(stainless) 또는 Al을 포함하는 제1 성분; 및 Ni, Cu, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Zn, Mo, W, Ag, Au, Ru, Pt, Ir, Li, Al, Sn, Bi, Sb 및 이들의 합금으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나 이상을 포함하는 제2 성분(제1 성분과 동일한 원소는 제외); 을 포함하는 것인,음극 집전체
4 4
제1항에 있어서,상기 집전체 기재는, 5 μm 내지 100 μm의 두께를 갖는 포일(foil)인 것인, 음극 집전체
5 5
제1항에 있어서,상기 이차원 물질은, 그래핀(graphene), 육방정계 질화붕소(hexagonal boron nitride) 및 전이금속 화합물 중 적어도 하나 이상을 포함하는 것인, 음극 집전체
6 6
제1항에 있어서,상기 이차원 물질층의 두께는, 0
7 7
제1항에 있어서,상기 금속층은, 상기 이차원 물질층 상에서 증착법으로 직성장되고,상기 금속층은, 전기증착법으로 직성장된 것인, 음극 집전체
8 8
제1항에 있어서,상기 금속층은, 리튬(Li), 나트륨(Na), 알루미늄(Al), 칼슘(Ca), 은(Ag), 금(Au), 나트륨(Na), 아연(Zn), 마그네슘(Mg), 및 칼륨(K)으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나 이상의 금속; 상기 금속을 포함하는 황화물; 할로겐화물; 산화물; 금속간 화합물; 및 합금;으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나 이상을 포함하는 것인, 음극 집전체
9 9
제1항에 있어서,상기 금속층은, 금속 함유 덴드라이트 구조-프리(free)이고,상기 금속층은, 평면막(planar flim)인 것인, 음극 집전체
10 10
제1항에 있어서,상기 금속층의 두께는, 1 nm 내지 100 μm인 것인, 음극 집전체
11 11
제1항에 있어서,상기 금속층은, 리튬 금속, 황화리튬, 할로겐화 리튬, 리튬합금 또는 이 둘을 포함하는 것인, 음극 집전체
12 12
제11항에 있어서,상기 리튬합금은, 리튬; 및 나트륨(Na), 알루미늄(Al), 칼슘(Ca), 은(Ag), 금(Au), 나트륨(Na), 아연(Zn), 마그네슘(Mg), 및 칼륨(K)로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나 이상;을 포함하는 것인, 음극 집전체
13 13
음극부; 양극부; 및 상기 음극부 및 상기 양극부 사이의 전해질;을 포함하고,상기 음극부는, 음극 집전체를 포함하고,상기 음극 집전체는,집전체 기재;상기 집전체 기재의 적어도 일면의 적어도 일부분에 형성되고, 원자 두께의 이차원 물질층; 및상기 이차원 물질층 상의 적어도 일부분에 형성된 금속층;을 포함하는 것인, 금속 전지
14 14
제13항에 있어서,상기 전해질은, 액체 전해질, 고체 전해질 또는 이 둘을 포함하는 것인,금속 전지
15 15
제13항에 있어서,상기 음극 집전체는,상기 금속층 상에 전해질이 접촉하는, 무음극향 집전체인 것인, 금속 전지
16 16
제13항에 있어서,상기 금속 전지는, 리튬 금속전지인 것인, 금속 전지
17 17
집전체 기재를 준비하는 단계; 상기 집전체 기재의 적어도 일면의 적어도 일부분에 원자 두께의 이차원 물질층을 형성하는 단계; 및 상기 이차원 물질층 상의 적어도 일부분에 금속층을 형성하는 단계;를 포함하는,음극 집전체의 제조방법
18 18
제17항에 있어서,상기 이차원 물질층을 형성하는 단계는, 상기 집전체 상에 이차원 물질층을 전사하는 단계;를 포함하는 것인, 음극 집전체의 제조방법
19 19
제17항에 있어서,상기 이차원 물질층을 형성하는 단계는, 상기 집전체 상에서 증착법으로 이차원 물질층을 직성장시키는 단계;를 포함하는 것인, 음극 집전체의 제조방법
20 20
제17항에 있어서,상기 금속층을 형성하는 단계는, 상기 이차원 물질층 상에 증착법으로 금속층을 직성장시키는 것인,음극 집전체의 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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1 과학기술정보통신부 울산과학기술원 집단연구지원(R&D) 2차원 반데르발스 구조체 재료화학 연구실