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챔버;상기 챔버 내부에 배치되어, 피증착물을 장착하는 기판 장착부;아르곤 가스(Ar)를 저장하는 제1 탱크, 크립톤 가스(Kr)를 저장하는 제2 탱및 산소 가스(O2)l를 포함하는 가스 저장부;상기 챔버 내부에 가스를 공급하는 가스 공급부;상기 제1 탱크, 상기 제2 탱크 및 상기 제3 탱크에서 공급되는 가스를 일정 비율로 혼합하여 상기 가스 공급부에 제공하기 위한 가스 조절부;상기 챔버 내부에 배치되며, 각각이 제1 타겟 및 제2 타겟의 배면에 배치되는 제1 자석부와 제2 자석부; 및상기 챔버 내부의 가스를 배출시키는 진공펌프;를 포함하는 대향 타겟식 스퍼터링 장치
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제1 항에 있어서,상기 기판 장착부는 상기 제1 자석부와 상기 제2 자석부 사이를 왕복운동할 수 있도록 구성된 것을 특징으로 하는 대향 타겟식 스퍼터링 장치
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제1 항 또는 제2 항 중, 어느 한 상에 의한 대향 타겟식 스퍼터링 장치를 이용한 ITO 제조방법으로서,상기 가스 조절부를 통해서, 상기 제1 탱크의 아르곤 가스와 상기 제2 탱크의 크립톤 가스를 설정된 비율로 혼합하여 상기 가스 공급부에 제공하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 ITO 제조방법
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제1 항 또는 제2 항 중, 어느 한 상에 의한 대향 타겟식 스퍼터링 장치를 이용한 ITO 제조방법으로서,상기 가스 조절부를 통해서, 상기 제2 탱크의 크립톤 가스와 상기 제3 탱크의 산소 가스를 설정된 비율로 혼합하여 상기 가스 공급부에 제공하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 ITO 제조방법
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제1 항 또는 제2 항 중, 어느 한 상에 의한 대향 타겟식 스퍼터링 장치를 이용한 ITO 제조방법으로서,요청되는 특성을 만족하는 ITO에 대응되는 가스의 혼합비율을 데이터베이스로부터 추출하는 단계; 및상기 제1 탱크의 아르곤 가스, 상기 제2 탱크의 크립톤 가스 및 상기 제3 탱크의 산소 가스의 혼합비율에 따라 상기 가스조절부를 제어하는 단계;를 포함하는 ITO 제조방법
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