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(S1) 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 무수물(4,4'-(Hexafluoroisopropylidene)diphthalic anhydride, 6FDA), 4,4'-메틸렌디사이클로헥산아민(4,4'-Methylenedicyclohexanamine, MCA) 및 메틸피롤리돈(N-methyl-2-pyrrolidone, NMP)를 혼합하여 하기 [화학식 2]로 표시되는 화합물을 제조하는 단계; 및(S2) 상기 [화학식 2]로 표시되는 화합물에 온도 감지 무기인광물질 및 응력 감지 무기인광물질을 첨가하고, 열이미드화 반응을 수행하여 [화학식 1]로 표시되는 화합물을 제조하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 온도 및 응력 감지 필름의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 (S1) 단계는(S1a) 상기 MCA 및 NMP를 혼합하는 단계; 및(S1b) 상기 혼합물에 6FDA를 첨가하여 상기 [화학식 1]로 표시되는 화합물을 제조하는 단계;로 구성되고,상기 6FDA : MCA는 1 : 0
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제1항에 있어서,상기 (S2) 단계는(S2a) 상기 [화학식 2]로 표시되는 화합물에 온도 감지 무기인광물질 및 응력 감지 무기인광물질을 첨가하여 혼합물을 제조하는 단계;(S2b) 상기 혼합물을 커버 슬립 상에 코팅하는 단계; 및(S2c) 상기 코팅된 혼합물을 120 내지 350℃의 온도에서 열이미드화 반응을 수행하여 온도 및 응력 감지 필름을 제조하는 단계;로 구성되고,상기 무기인광물질은 상기 [화학식 1]로 표시되는 화합물의 총 질량% 대비 1 내지 20 중량%로 첨가되는 것을 특징으로 하는 온도 및 응력 감지 필름의 제조 방법
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제어 신호를 출력하는 신호 발생기;상기 신호 발생기의 제어 신호에 의해 제어되는 여기 광원;상기 여기 광원으로부터의 여기 광(excitation light)을 방출 광(emission light)으로 방출시키기 위해 온도 및 응력 감지 필름이 부착된 타겟 물질; 및상기 방출 광을 인광 감쇠 신호로 추출하기 위한 신호 처리부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 온도 및 응력 감지 시스템
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제4항에 있어서,상기 신호 발생기는 여기 광원이 5 ns 내지 50 ms 의 펄스 폭을 갖도록 하는 제어 신호를 내보내는 온도 및 응력 감지 시스템
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제4항에 있어서,상기 신호 발생기는 여기 광원이 10 내지 1000 ms 의 펄스 주기를 갖도록 하는 제어 신호를 내보내는 온도 및 응력 감지 시스템
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제4항에 있어서,상기 신호 처리부는 인광 필터가 장착되고,상기 인광 필터는 620 내지 670 ㎚ 파장 대역을 통과하는 것을 특징으로 하는 온도 및 응력 감지 시스템
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제4항에 있어서,상기 신호 처리부는 온도 관련 인광 감쇠 신호를 얻기 위한 검출기가 장착되고,상기 온도 관련 인광 감쇠 신호는 하기 [수학식 1]을 사용하여 온도 대 인광 수명의 교정 곡선으로 변환되는 것을 특징으로 하는 온도 및 응력 감지 시스템:[수학식 1]I(t) = I0 × exp(-t/τ) + b상기 식에서, 상기 I(t)는 시간에 따른 인광 강도, I0은 완전히 여기된 상태의 인광 강도, t는 감쇠 시간, τ는 인광 감쇠 상수, b는 노이즈이다
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제4항에 있어서,상기 신호 처리부는 응력 관련 인광 감쇠 신호를 얻기 위한 검출기가 장착되고,상기 응력 관련 인광 감쇠 신호는 하기 [수학식 2]를 사용하여 응력 대 강도 비율의 교정 곡선으로 변환되는 것을 특징으로 하는 온도 및 응력 감지 시스템:[수학식 2]ε = IM / Ia상기 식에서, 상기 IM은 응력이 부하된 후 기록된 기계 발광의 강도이고, Ia는 응력이 부하되기 전에 기록된 잔광의 강도이다
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