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방전 가스를 제공받는 유전체 방전 튜브;상기 유전체 방전 튜브를 감싸도록 배치되고 헬리콘 플라즈마 빔을 형성하는 헬리콘 안테나;상기 헬리콘 안테나에 RF 전력을 제공하는 RF 전원;상기 유전체 방전 튜브의 중심축 방향인 제1 방향의 자기장을 인가하는 메인 자석; 및상기 유전체 방전 튜브의 일단에 연결되고 극자외선을 수집하는 극자외선 챔버를 포함하는 것을 특징으로 하는 헬리콘 플라즈마 극자외선 발생 장치
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제1 항에 있어서,상기 헬리콘 안테나는 상기 메인 자석의 중심에서 상기 유전체 방전 튜브의 중심축 방향으로 이격되어 배치되고,상기 유전체 방전 튜브의 일단 주위에 배치되고 상기 헬리콘 플라즈마 빔을 상기 제1 방향에 수직한 제2 방향 성분을 가진 편향 자기장으로 국부적으로 편향시키는 편향 자석을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 헬리콘 플라즈마 극자외선 발생 장치
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제2 항에 있어서,상기 유전체 방전 튜브의 타단에 배치되고 상기 유전체 방전 튜브의 직경보다 작은 직경을 가지고 상기 헬리콘 플라즈마빔의 직경보다 큰 직경을 가지는 보조 방전 튜브를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 헬리콘 플라즈마 극자외선 발생 장치
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제2 항에 있어서,상기 유전체 방전 튜브의 일단에 결합하는 제1 보조 챔버; 및상기 제1 보조 챔버와 상기 극자외선 챔버를 서로 연결하고 상기 유전체 방전 튜브의 직경보다 작은 직경을 가지는 제2 보조 챔버;를 더 포함하고,상기 편향 자석은 상기 제2 보조 챔버의 주위에 배치되는 것을 특징으로 하는 헬리콘 플라즈마 극자외선 발생 장치
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제4 항에 있어서,상기 제1 보조 챔버에 배치되는 금속 그리드를 더 포함하고,상기 금속 그리드는 철(Fe), 주석(Sn), 리튬(Li), 니켈(Ni), 구리(Cu) 및 타이타늄(Ti) 중에서 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 헬리콘 플라즈마 극자외선 발생 장치
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제4 항에 있어서,상기 금속 그리드를 일정한 속도로 이동시키는 한 쌍의 롤러를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 헬리콘 플라즈마 극자외선 발생 장치
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제5 항에 있어서,상기 제2 보조 챔버는 상기 제1 보조 챔버 방향으로 직경이 증가하도록 테이퍼진 것을 특징으로 하는 헬리콘 플라즈마 극자외선 발생 장치
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제1 항에 있어서,상기 유전체 방전 튜브의 타단을 감싸도록 배치되고 속이빈 금속 파이프 형태의 제1 도파관;상기 제1 도파관과 연속적으로 연결되고 진행하는 초고주파의 임피던스를 매칭하는 임피던스 매칭부;상기 임피던스 매칭부와 연속적으로 연결되는 제2 도파관; 및상기 제2 도파관에 장착된 초고주파 발생부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 헬리콘 플라즈마 극자외선 발생 장치
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제1 항에 있어서,상기 메인 자석은 서로 이격되어 배치된 한 쌍의 솔레노이드 전자석을 포함하고,상기 헬리콘 안테나는 한 쌍의 솔레노이드 전자석 사이에 배치되는 것을 특징으로 하는 헬리콘 플라즈마 극자외선 발생 장치
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10
제1 항에 있어서,상기 유전체 방전 튜브의 타단에 배치된 금속 증기 발생기를 더 포함하고,상기 금속 증기 발생기는 철(Fe), 주석(Sn), 리튬(Li), 니켈(Ni), 구리(Cu) 및 타이타늄(Ti) 중에서 적어도 하나를 금속을 포함하고,상기 금속 증기 발생기는 상기 금속을 가열하거나 스퍼터링하여 금속 증기를 발생시키는 것을 특징으로 하는 헬리콘 플라즈마 극자외선 발생 장치
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제1 항에 있어서,상기 유전체 방전 튜브의 타단에 배치된 극자외선을 반사하는 거울을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 극자외선 발생 장치
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