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기재층 상에 배치되고 고분자 매트릭스에 무기 물질이 분산된 굴절률 조정층; 및상기 굴절률 조정층 상에 배치되는 다층 투명 전도막을 포함하고,상기 다층 투명 전도막은 제1 산화물층, 금속층 및 제2 산화물층을 포함하는 플렉서블 디스플레이용 투명 전도성 산화물 다층막
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제1항에 있어서,상기 굴절률 조정층은, PDMS(polydimethylsiloxane) 매트릭스에 TiO2 나노 입자가 분산된 것을 특징으로 하는 플렉서블 디스플레이용 투명 전도성 산화물 다층막
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제1항에 있어서,상기 굴절률 조정층은 PDMS-OH(Hydroxy terminated Polydimethylsiloxane) 및 TIP(Titanium isopropoxide)로부터 제조되는 것을 특징으로 하는 플렉서블 디스플레이용 투명 전도성 산화물 다층막
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제3항에 있어서,상기 TIP:PDMS-OH 몰비는 1 내지 2 : 1 내지 4인 것을 특징으로 하는 플렉서블 디스플레이용 투명 전도성 산화물 다층막
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제1항에 있어서,상기 제1 산화물층 및 제2 산화물층은 Mn-SnO2를 포함하는 것을 특징으로 하는 플렉서블 디스플레이용 투명 전도성 산화물 다층막
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제1항에 있어서,상기 금속층은 Ag를 포함하는 것을 특징으로 하는 플렉서블 디스플레이용 투명 전도성 산화물 다층막
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제1항에 따른 플렉서블 디스플레이용 투명 전도성 산화물 다층막을 포함하는 디스플레이
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기재층 상에 굴절률 조정층을 형성하는 단계;상기 굴절률 조정층 상에 제1 산화물층을 형성하는 단계;상기 제1 산화물층 상에 금속층을 형성하는 단계; 및상기 금속층 상에 제2 산화물층을 형성하는 단계를 포함하고,상기 굴절률 조정층을 형성하는 단계는,폴리머 전구체 및 무기 물질 전구체를 혼합하여 스핀 코팅으로 형성하는 것을 특징으로 하는 플렉서블 디스플레이용 투명 전도성 산화물 다층막의 제조 방법
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제8항에 있어서,상기 폴리머 전구체는 PDMS-OH(Hydroxy terminated Polydimethylsiloxane)이고,상기 무기 물질 전구체는 TIP(Titanium isopropoxide)인 것을 특징으로 하는 플렉서블 디스플레이용 투명 전도성 산화물 다층막의 제조 방법
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제9항에 있어서,상기 TIP:PDMS-OH 몰비는 1 내지 2 : 1 내지 4인 것을 특징으로 하는 플렉서블 디스플레이용 투명 전도성 산화물 다층막의 제조 방법
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