| 1 |
1
하기 화학식 1로 표시되는 산 무수물기반 에폭시 화합물
|
| 2 |
2
제 1항에 있어서,상기 화학식 1에서 R1 내지 R2는 서로 독립적으로 수소 또는 메틸이며;R3 내지 R6은 서로 독립적으로 수소 또는 C1-C7알킬이고;R1 및 R2는 동시에 수소가 아닌, 산 무수물기반 에폭시 화합물
|
| 3 |
3
제 1항에 있어서,상기 화학식 1에서 Y는C5-C60알킬렌, C3-C60시클로알킬렌, C6-C60아릴렌 또는 C3-C60헤테로아릴렌이고;상기 Y의 알킬렌, 시클로알킬렌, 아릴렌 및 헤테로아릴렌은 하이드록시, 할로겐, 나이트릴, 나이트로, 시아노, 아미노, 카복실, 카복실산염, C1-C20알킬, C1-C20알케닐, C1-C20할로알킬, C1-C20알콕시, C1-C20알콕시카보닐, C3-C30시클로알킬, C6-C30아릴C1-C20알킬, C6-C30아릴 및 C3-C30헤테로아릴에서 선택되는 하나 이상으로 더 치환될 수 있는 것인, 산 무수물기반 에폭시 화합물
|
| 4 |
4
제 1항에 있어서,상기 화학식 1의 산 무수물기반 에폭시 화합물은 하기 화학식 2로 표시되는 산 무수물기반 에폭시 화합물
|
| 5 |
5
제 4항에 있어서,상기 화학식 2에서 Y는C5-30알킬렌, C3-C30시클로알킬렌, C6-C30아릴렌 또는 C3-C 30헤테로아릴렌이고;상기 알킬렌, 시클로알킬렌, 아릴렌 및 헤테로아릴렌은 하이드록시, 할로겐, 나이트릴, 나이트로, 시아노, 아미노, 카복실, 카복실산염, C1-C10알킬, C1-C10알케닐, C1-C10할로알킬, C1-C10알콕시, C1-C10알콕시카보닐, C3-C20시클로알킬, C6-C20아르C1-C10알킬, C6-C20아릴 및 C3-C20헤테로아릴기에서 선택되는 하나 이상으로 더 치환될 수 있는 것인, 산 무수물기반 에폭시 화합물
|
| 6 |
6
제 4항에 있어서,상기 화학식 2의 산 무수물기반 에폭시 화합물은 하기 화학식 3 내지 4로 표시되는 것인 산 무수물기반 에폭시 화합물
|
| 7 |
7
하기 화학식 1로 표시되는 산 무수물기반 에폭시 화합물을 포함하는 에폭시 수지 조성물
|
| 8 |
8
제 7항에 있어서,상기 산 무수물기반 에폭시 화합물은 주제 또는 강인화제로 사용되는 에폭시 수지 조성물
|
| 9 |
9
제 7항에 있어서,상기 에폭시 수지 조성물은 베이스 에폭시 수지, 경화제 및 경화촉진제를 더 포함하는 것인 에폭시 수지 조성물
|
| 10 |
10
제 9항에 있어서,상기 베이스 에폭시 수지와 산 무수물기반 에폭시 화합물은 1 내지 9: 9 내지 1의 몰비로 포함되는 에폭시 수지 조성물
|
| 11 |
11
제 7항 내지 제 10항에서 선택되는 어느 한 항의 에폭시 수지 조성물의 경화물
|
| 12 |
12
하기 화학식 5로 표시되는 산 무수물기반 화합물
|
