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전기적 신호 인가를 이용한 기판의 휨 측정 시스템 및 방법

  • 기술번호 : KST2022019752
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 실시예들은 챔버 내에 위치하는 정전척에 전기 신호를 인가하고 전기 신호의 경로에 따른 임피던스의 변화를 이용하여 기판 홀더에 위치하는 기판의 상태를 측정할 수 있는 기판의 휨 측정 시스템 및 방법을 제공한다.
Int. CL H01L 21/67 (2006.01.01) H01L 21/683 (2006.01.01) H02N 13/00 (2006.01.01) B23Q 3/15 (2006.01.01) H01J 37/32 (2006.01.01)
CPC H01L 21/67288(2013.01) H01L 21/6831(2013.01) H02N 13/00(2013.01) B23Q 3/15(2013.01) H01J 37/32183(2013.01) H01J 37/3244(2013.01) H01J 37/32532(2013.01)
출원번호/일자 1020210042756 (2021.04.01)
출원인 광운대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2022-0136729 (2022.10.11) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2021.04.01)
심사청구항수 15

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 광운대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 노원구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 권기청 경기도 성남시 분당구
2 김우재 서울특별시 노원구
3 신기원 서울특별시 노원구
4 김지환 경기도 고양시 덕양구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인우인 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 ***, *층(역삼동, 중평빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2021.04.01 수리 (Accepted) 1-1-2021-0384956-35
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2021.12.15 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2022.02.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2022-0176184-86
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2022.10.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2022-0778178-97
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판의 휨 측정 시스템에 있어서,챔버;상기 챔버의 내부 상단에 위치하는 제1 전극;상기 챔버의 내부 하단에 위치하며 제2 전극 및 정전척을 포함하는 기판 홀더;상기 정전척에 연결되며 상기 정전척에 전원을 공급하는 정전척 전원 공급기; 및상기 정전척에 연결되며 상기 정전척에 전기 신호를 인가하고 상기 전기 신호의 경로에 따른 임피던스의 변화를 이용하여 상기 기판 홀더에 위치하는 기판의 상태를 측정하는 휨 측정 장치를 포함하는 기판의 휨 측정 시스템
2 2
제1항에 있어서,상기 제1 전극에 형성되어 상기 챔버의 내부에 가스를 공급하는 제1 가스 분배기; 및상기 제1 가스 분배기에 연결되어 상기 제1 가스 분배기에 상기 가스를 공급하는 제1 가스 공급기를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판의 휨 측정 시스템
3 3
제1항에 있어서,상기 제2 전극에 형성되어 상기 기판 홀더에 위치하는 기판에 가스를 공급하는 제2 가스 분배기; 및상기 제2 가스 분배기에 연결되어 상기 제2 가스 분배기에 상기 가스를 공급하는 제2 가스 공급기를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판의 휨 측정 시스템
4 4
제1항에 있어서,상기 제1 전극에 연결되어 전압과 전류의 위상을 제어하는 제1 임피던스 매칭부; 및 상기 제1 임피던스 매칭 장치에 연결되어 전력을 공급하는 제1 전력 공급기를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판의 휨 측정 시스템
5 5
제1항에 있어서,상기 제2 전극에 연결되어 전압과 전류의 위상을 제어하는 제2 임피던스 매칭부; 및 상기 제2 임피던스 매칭 장치에 연결되어 전력을 공급하는 제2 전력 공급기를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판의 휨 측정 시스템
6 6
제1항에 있어서,상기 챔버의 내부 압력을 조절하는 진공 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판의 휨 측정 시스템
7 7
제1항에 있어서,상기 휨 측정 장치는 상기 정전척 및 상기 휨 측정 장치에 연결되어 상기 전기 신호를 필터링하는 필터를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판의 휨 측정 시스템
8 8
제1항에 있어서,상기 휨 측정 장치는 단일 주파수를 기반으로 하는 전기 신호를 인가하여 상기 기판의 휨 유무를 판단하는 것을 특징으로 하는 기판의 휨 측정 시스템
9 9
제1항에 있어서,상기 휨 측정 장치는 이중 주파수를 기반으로 하는 전기 신호를 인가하여 상기 기판의 휨 형상을 구분하는 것을 특징으로 하는 기판의 휨 측정 시스템
10 10
제9항에 있어서,상기 휨 측정 장치는 (i) 위로 볼록하게 휘는 형상에 해당하는 제1 유형, (ii) 아래로 볼록하게 휘는 형상에 해당하는 제2 유형, (iii) 일부는 위가 볼록하게 다른 일부는 아래가 볼록하게 휘는 형상에 해당하는 제3 유형으로 구분하는 것을 특징으로 하는 기판의 휨 측정 시스템
11 11
제9항에 있어서,상기 휨 측정 장치는 (i) 상기 기판의 부하, (ii) 상기 챔버의 공정 영역의 부하, (iii) 상기 기판과 상기 기판 홀더 간의 공간의 부하에 따른 임피던스의 변화를 미리 저장된 테이블과 비교하여 상기 기판의 휨 형상을 구분하는 것을 특징으로 하는 기판의 휨 측정 시스템
12 12
기판의 휨 측정 방법에 있어서,챔버 내에 위치하는 정전척에 전기 신호를 인가하는 단계; 및상기 전기 신호의 경로에 따른 임피던스의 변화를 이용하여 기판 홀더에 위치하는 기판의 상태를 측정하는 단계를 포함하는 기판의 휨 측정 방법
13 13
제12항에 있어서,상기 전기 신호를 인가하는 단계는 이중 주파수를 기반으로 하는 전기 신호를 인가하고,상기 기판의 상태를 측정하는 단계는 상기 기판의 휨 형상을 구분하는 것을 특징으로 하는 기판의 휨 측정 방법
14 14
제13항에 있어서,상기 기판의 상태를 측정하는 단계는 (i) 위로 볼록하게 휘는 형상에 해당하는 제1 유형, (ii) 아래로 볼록하게 휘는 형상에 해당하는 제2 유형, (iii) 일부는 위가 볼록하게 다른 일부는 아래가 볼록하게 휘는 형상에 해당하는 제3 유형으로 구분하는 것을 특징으로 하는 기판의 휨 측정 방법
15 15
제13항에 있어서,상기 기판의 상태를 측정하는 단계는 (i) 상기 기판의 부하, (ii) 상기 챔버의 공정 영역의 부하, (iii) 상기 기판과 상기 기판 홀더 간의 공간의 부하에 따른 임피던스의 변화를 미리 저장된 테이블과 비교하여 상기 기판의 휨 형상을 구분하는 것을 특징으로 하는 기판의 휨 측정 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 산업통상자원부 광운대학교 산학협력단 소재부품산업미래성장동력 절연체 식각 공정용 극저온 장치 기술에 관한 연구