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원자층 증착법에 기반하는 광학 소자의 제조방법

  • 기술번호 : KST2022020209
  • 담당센터 : 대구기술혁신센터
  • 전화번호 : 053-550-1450
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 원자층 증착법에 기반하는 광학 소자의 제조방법에 관한 것으로, 일실시예에 따른 광학 소자의 제조방법은 기설정된 갭(gap)을 두고 서로 이격된 복수의 도파관(waveguide)이 형성된 기판을 챔버로 로딩하는 단계 및 원자층 증착법을 통해 복수의 도파관 각각에 금속 산화물을 증착하는 단계를 포함한다.
Int. CL B81C 1/00 (2006.01.01) G02B 6/132 (2006.01.01) B81B 7/00 (2017.01.01) C23C 16/40 (2006.01.01) C23C 16/455 (2006.01.01) G02B 6/12 (2022.01.01)
CPC B81C 1/00206(2013.01) G02B 6/132(2013.01) B81B 7/00(2013.01) C23C 16/40(2013.01) C23C 16/45555(2013.01) G02B 2006/12166(2013.01)
출원번호/일자 1020220023575 (2022.02.23)
출원인 재단법인대구경북과학기술원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2022-0122523 (2022.09.02) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020210026828   |   2021.02.26
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2022.02.23)
심사청구항수 11

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 재단법인대구경북과학기술원 대한민국 대구 달성군 현

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 한상윤 대구광역시 달성군 현풍읍 테크노중앙대로 ***, 대구
2 박영재 인천광역시 서구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김연권 대한민국 서울특별시 송파구 법원로 ***, ****/****호(문정동, 문정대명벨리온)(시안특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2022.02.23 수리 (Accepted) 1-1-2022-0203437-41
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2022.04.15 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 특허고객번호 정보변경(경정)신고서·정정신고서
2022.07.29 수리 (Accepted) 4-1-2022-5178676-45
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번호 청구항
1 1
기설정된 갭(gap)을 두고 서로 이격된 복수의 도파관(waveguide)이 형성된 기판을 챔버로 로딩하는 단계 및 원자층 증착법을 통해 상기 복수의 도파관 각각에 금속 산화물을 증착하는 단계를 포함하는 광학 소자의 제조방법
2 2
제1항에 있어서,상기 복수의 도파관은, 실리콘(Si) 물질에 기초하여 형성되는 제1 도파관 및 제2 도파관을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 소자의 제조방법
3 3
제2항에 있어서,상기 제1 도파관은,400nm의 폭(width)과 220nm의 두께(thickness)로 형성되는 것을 특징으로 하는 광학 소자의 제조방법
4 4
제2항에 있어서,상기 제2 도파관은, 350nm의 폭(width)과 220nm의 두께(thickness)로 형성되는 것을 특징으로 하는 광학 소자의 제조방법
5 5
제1항에 있어서,상기 금속 산화물을 증착하는 단계는, 상기 기판 상에 금속 전구체를 노출시키는 단계;상기 금속 전구체를 상기 챔버로부터 퍼지시키는 단계; 상기 기판 상에 반응 가스를 노출시키는 단계; 및상기 반응 가스를 상기 챔버로부터 퍼지시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 소자의 제조방법
6 6
제5항에 있어서,상기 금속 전구체는, 실리콘(Si), 하프늄(Hf), 탄탈륨(Ta), 알루미늄(Al), 란타넘(La), 이트륨(Y), 지르코늄(Zr), 마그네슘(Mg), 스트론튬(Sr), 납(Pb), 티타늄(Ti), 니오븀(Nb), 세륨(Ce), 루테늄(Ru), 바륨(Ba), 칼슘(Ca), 인듐(In), 게르마늄(Ge), 주석(Sn), 바나듐(V), 비소(As), 프라세오디뮴(Pr), 안티모니(Sb) 및 인(P) 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 광학 소자의 제조방법
7 7
제5항에 있어서,상기 반응 가스는 산소(O2), 오존(O3), 일산화 질소(NO) 및 이산화 질소(N2O) 중 적어도 하나를 포함하는 가스인 것을 특징으로 광학 소자의 제조방법
8 8
상기 금속 산화물은, Al2O3, SiO2, HfO2, Ta2O5, La2O3, Y2O3, ZrO2, MgO, SrO, PbO, TiO2, Nb2O5, CeO2, SrTiO3, PbTiO3, SrRuO3, (Ba, Sr)TiO3, Pb(Zr, Ti)O3, (Pb, La)(Zr, Ti)O3, (Sr, Ca)RuO3, In2O3, RuO2, B2O3, GeO2, SnO2, PbO2, Pb3O4, V2O3, As2O5, As2O3, Pr2O3, Sb2O3, Sb2O5, CaO, P2O5, AlON, 및 SiON 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 소자의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 기판은, 규소(Si, silicon), 산화규소(SiO2, silicon oxide), 산화알루미늄(Al2O3, aluminium oxide), 산화마그네슘(MgO, magnesium oxide), 탄화규소(SiC, silicon carbide), 질화규소(SiN, silicon nitride), 유리(glass), 석영(quartz), 사파이어(sapphire), 그래파이트(graphite), 그래핀(g raphene), 폴리이미드(PI, polyimide), 폴리에스테르(PE, polyester) 폴리에틸렌 나프탈레이트(PEN, poly(2,6-ethylenenaphthalate)), 폴리메틸 메타크릴레이트(PMMA, polymethyl methacrylate), 폴리우레탄(PU, polyurethane), 플루오르폴리머(FEP, fluoropolymers) 및 폴리에틸렌 테레프탈레이트(polyethyleneterephthalate, PET) 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 소자의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 금속 산화물을 증착하는 단계는,상기 금속 산화물을 상기 복수의 도파관 각각에 20nm 내지 50nm의 폭(width)으로 증착하여, 상기 복수의 도파관에 대한 유효 굴절율(effective index)이 2
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제1항에 있어서,상기 금속 산화물을 증착하는 단계는,상기 금속 산화물을 상기 복수의 도파관 각각에 20nm 내지 50nm의 폭(width)으로 증착하여, 상기 복수의 도파관에 대한 위상 시프트(phase shift)가 0 내지 4 Rad가 되도록 하는 것을 특징으로 하는 광학 소자의 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 과학기술정보통신부 한국과학기술원 미래국방혁신기술개발사업 실리콘 위상배열 기반 스마트 3D 영상센서 개발