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히스티딘 표지(His-tag)된 포름산 탈수소효소(Formate Dehydrogenase)
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청구항 1에 있어서, 상기 포름산 탈수소효소는 메틸로박테리움 속 미생물로부터 유래된 것인, 포름산 탈수소효소
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청구항 1에 있어서, 상기 포름산 탈수소효소는 메틸로박테리움 엑스토르쿠엔스(Methylobacterium extorquens) AM1으로부터 유래된 것인, 포름산 탈수소효소
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청구항 1에 있어서, 상기 포름산 탈수소효소는 유전자 재조합으로 제조된 것인, 포름산 탈수소효소
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청구항 1에 있어서, 상기 포름산 탈수소효소는 메틸로박테리움 엑스토르쿠엔스(Methylobacterium extorquens) AM1 유래 FDH1(Formate Dehydrogenase 1)으로서,상기 메틸로박테리움 엑스토르쿠엔스 AM1은 FDH1α(Formate Dehydrogenase 1 alpha subunit)를 코딩하는 내인성 유전자 및 FDH1β(Formate Dehydrogenase 1 beta subunit)를 코딩하는 내인성 유전자가 결실되고,메틸로박테리움 엑스토르쿠엔스 AM1 유래 FDH1 및 히스티딘 표지(His-tag)를 코딩하는 외인성 유전자가 도입된 재조합 미생물인, 포름산 탈수소효소
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청구항 1에 있어서, 상기 포름산 탈수소효소는 서열번호 10 및 11의 아미노산 서열로 이루어진 폴리펩티드인, 포름산 탈수소효소
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Ni-NTA(Nickel-Nitrilotriacetic Acid)에 고정화된 히스티딘 표지(His-tag)된 포름산 탈수소효소(Formate Dehydrogenase)
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청구항 7에 있어서, 상기 Ni-NTA는 Ni-NTA agarose bead인, 포름산 탈수소효소
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히스티딘 표지(His-tag)된 포름산 탈수소효소(Formate Dehydrogenase)를 포함하는 개미산 제조용 조성물
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청구항 9에 있어서, 상기 포름산 탈수소효소는 Ni-NTA(Nickel-Nitrilotriacetic Acid)에 고정화된 것인, 개미산 제조용 조성물
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11
청구항 9에 있어서, 상기 조성물의 pH는 5
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히스티딘 표지(His-tag)된 포름산 탈수소효소(Formate Dehydrogenase)를 포함하는 개미산 제조용 전기화학반응 시스템
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13
청구항 12에 있어서, 상기 포름산 탈수소효소는 Ni-NTA(Nickel-Nitrilotriacetic Acid)에 고정화된 것인, 개미산 제조용 전기화학반응 시스템
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14
히스티딘 표지(His-tag)된 포름산 탈수소효소(Formate Dehydrogenase)를 포함하는 개미산 제조용 장치
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청구항 14에 있어서, 상기 포름산 탈수소효소는 Ni-NTA(Nickel-Nitrilotriacetic Acid)에 고정화된 것인, 개미산 제조용 장치
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16
히스티딘 표지(His-tag)된 포름산 탈수소효소(Formate Dehydrogenase)를 포함하는 이산화탄소 제거용 필터
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청구항 16에 있어서, 상기 포름산 탈수소효소는 Ni-NTA(Nickel-Nitrilotriacetic Acid)에 고정화된 것인, 이산화탄소 제거용 필터
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히스티딘 표지(His-tag)된 포름산 탈수소효소(Formate Dehydrogenase)에 이산화탄소를 포함하는 기체 및 전자전달체를 접촉시키는 단계를 포함하는 개미산의 제조 방법
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청구항 18에 있어서, 상기 포름산 탈수소효소는 Ni-NTA(Nickel-Nitrilotriacetic Acid)에 고정화된 것인, 개미산의 제조 방법
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청구항 18에 있어서, 상기 전자전달체는 바이올로젠(viologen)기를 갖는 화합물인, 개미산의 제조 방법
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청구항 18에 있어서, 상기 접촉하는 단계는 전기화학반응 시스템 내에서 이루어지는 것인, 개미산의 제조 방법
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청구항 18에 있어서, 상기 이산화탄소를 포함하는 기체는 산소를 포함하는 것인, 개미산의 제조 방법
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