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속도 가변 틸팅 레이저 광학계를 포함하는 레이저 클리닝 장치에 있어서,상기 속도 가변 틸팅 레이저 광학계는,레이저를 발생하는 레이저 소스;상기 레이저 소스에서 발생된 레이저의 클리닝 대상 표면 측과의 반응 각도를 조절하는 틸팅 미러;상기 틸팅 미러를 회전시키는 구동장치;를 포함하고,상기 반응 각도는 상기 레이저 클리닝 장치의 진행 속도에 따라 조절되는, 레이저 클리닝 장치
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청구항 1에 있어서,상기 반응 각도는 상기 클리닝 대상 표면에 대한 상기 레이저의 입사각도인, 레이저 클리닝 장치
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청구항 2에 있어서,상기 반응 각도는 상기 레이저 클리닝 장치의 진행 속도가 빠를수록 커지는, 레이저 클리닝 장치
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청구항 1에 있어서,상기 틸팅 미러는,수직축을 중심으로 회전 가능한 제 1 미러; 및 수평축을 중심으로 회전 가능한 제 2 미러;를 포함하는, 레이저 클리닝 장치
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청구항 4에 있어서,상기 구동 장치는,상기 제 1 미러를 상기 수직축을 중심으로 회전시키는 제 1 모터; 및상기 제 2 미러를 상기 수평축을 중심으로 회전시키는 제 2 모터;를 포함하는, 레이저 클리닝 장치
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청구항 1에 있어서,상기 속도 가변 틸팅 레이저 광학계는, 상기 틸팅 미러와 상기 클리닝 대상 표면의 사이에 배치되는 렌즈를 더 포함하는, 레이저 클리닝 장치
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레이저를 발생하는 레이저 소스;상기 레이저 소스에서 발생된 레이저의 클리닝 대상 표면 측과의 반응 각도를 조절하는 틸팅 미러;상기 틸팅 미러를 회전시키는 구동장치;를 포함하고,상기 반응 각도는 상기 속도 가변 틸팅 레이저 광학계의 진행 속도에 따라 조절되는, 속도 가변 틸팅 레이저 광학계
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청구항 7에 있어서,상기 반응 각도는 상기 클리닝 대상 표면에 대한 상기 레이저의 입사각도인, 속도 가변 틸팅 레이저 광학계
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청구항 8에 있어서,상기 반응 각도는 상기 레이저 클리닝 장치의 진행 속도가 빠를수록 커지는, 속도 가변 틸팅 레이저 광학계
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청구항 7에 있어서,상기 틸팅 미러는,수직축을 중심으로 회전 가능한 제 1 미러; 및 수평축을 중심으로 회전 가능한 제 2 미러;를 포함하는, 속도 가변 틸팅 레이저 광학계
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청구항 11에 있어서,상기 구동 장치는,상기 제 1 미러를 상기 수직축을 중심으로 회전시키는 제 1 모터; 및상기 제 2 미러를 상기 수평축을 중심으로 회전시키는 제 2 모터;를 포함하는, 속도 가변 틸팅 레이저 광학계
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12
청구항 7에 있어서,상기 속도 가변 틸팅 레이저 광학계는, 상기 틸팅 미러와 상기 클리닝 대상 표면의 사이에 배치되는 렌즈를 더 포함하는, 속도 가변 틸팅 레이저 광학계
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