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폴리 이미드 필름을 포함하는 이형 필름에 라디칼 스캐빈저를 도포하여 라디칼 스캐빈저층을 형성하는 단계;고분자 막을 준비하는 단계; 및전사 롤러를 구동하여 상기 고분자 막에 상기 이형 필름의 라디칼 스캐빈저층을 전사하는 단계;를 포함하며,상기 고분자 막에 상기 이형 필름의 라디칼 스캐빈저층을 전사하는 단계는,상기 이형 필름에 상기 전사 롤러를 구비하고, 상기 전사 롤러를 구동하여 상기 이형 필름으로부터 상기 라디칼 스캐빈저층을 박리하면서 상기 전사 롤러의 표면으로 상기 박리되는 라디칼 스캐빈저층을 롤 형태로 이동시켜 형성하는 단계; 및상기 라디칼 스캐빈저층이 롤 형태로 형성된 전사 롤러를 상기 고분자 막에 구비하고, 상기 전사 롤러를 구동하여 상기 전사 롤러의 표면에 형성된 롤 형태의 라디칼 스캐빈저층을 상기 고분자 막에 전사하는 단계;를 포함하는, 고분자 막의 라디칼 스캐빈저층 전사 방법
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청구항 1에 있어서,상기 고분자 막에 상기 이형 필름의 라디칼 스캐빈저층을 전사하는 단계는,상기 라디칼 스캐빈저층이 상기 고분자 막과 마주보도록 상기 고분자 막의 상면 및/또는 하면에 상기 이형 필름을 구비하는 단계;상기 이형 필름에 상기 전사 롤러의 가압력을 제공하여 상기 고분자 막에 상기 라디칼 스캐빈저층을 전사하는 단계; 및상기 이형 필름을 제거하는 단계;를 포함하는, 고분자 막의 라디칼 스캐빈저층 전사 방법
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청구항 1에 있어서,상기 이형 필름의 라디칼 스캐빈저층은, 상기 이형 필름의 표면에 스프레이 방식으로 라디칼 스캐빈저 입자를 도포하여 코팅되는, 고분자 막의 라디칼 스캐빈저층 전사 방법
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청구항 1 또는 청구항 4에 있어서,상기 이형 필름의 라디칼 스캐빈저층은, 50nm 이하의 두께로 형성되는, 고분자 막의 라디칼 스캐빈저층 전사 방법
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청구항 1에 있어서,상기 전사 롤러의 표면은 PDMS(Polydimethylsiloxane)를 포함하는, 고분자 막의 라디칼 스캐빈저층 전사 방법
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청구항 1에 있어서,상기 라디칼 스캐빈저는, CeO2와 같은 세리아(Cerium Oxide) 입자를 포함하는, 고분자 막의 라디칼 스캐빈저층 전사 방법
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청구항 1의 전사 방법으로 라디칼 스캐빈저층이 형성된 고분자 막; 및상기 고분자 막의 양측 표면에 각각 구비되는 캐소드(cathod) 전극 및 애노드(anode) 전극;을 포함하는, 막-전극 어셈블리(Membrane-Electrode Assembly)
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청구항 8에 있어서,상기 캐소드 전극은 Pt/C을 포함하고, 상기 애노드 전극은 IrO2을 포함하는, 막-전극 어셈블리
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