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1
나노 패턴 구조를 형성하는 제1 돌출부가 표면에 형성된 소수성 섬유의 집합으로 이루어진 소수성 부직포를 포함하는 외부필터;나노 패턴 구조를 형성하는 제2 돌출부가 표면에 형성된 멜트 블로운 섬유의 집합으로 이루어진 멜트 블로운 부직포를 포함하는 중간필터; 및나노 패턴 구조를 형성하는 제3 돌출부가 표면에 형성된 친수성 섬유의 집합으로 이루어진 친수성 부직포를 포함하는 내부필터;를 구비하는 초발수 항비말 마스크
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2
제1 항에 있어서,상기 소수성 부직포는 상기 소수성 섬유의 집합을 웹을 형성하도록 고정하며, 나노 패턴 구조를 형성하는 제4 돌출부가 표면에 형성된 소수성 본딩부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 초발수 항비말 마스크
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| 3 |
3
제1 항에 있어서,상기 소수성 부직포를 포함하는 외부필터는 외부필터 표면의 접촉각이 160°이상인 것을 특징으로 하는 초발수 항비말 마스크
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4
제1 항에 있어서,상기 제1 돌출부는 나노 벽 또는 나노 기둥의 나노 패턴 구조를 형성하는 것을 특징으로 하는 초발수 항비말 마스크
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5
제1 항에 있어서,상기 제1 돌출부는 플라즈마 처리에 의해 형성된 것을 특징으로 하는 초발수 항비말 마스크
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6
제5 항에 있어서,상기 제1 돌출부의 플라즈마 처리는 O2, CF4, Ar, N2, 및 H2 중 선택된 1종 이상의 가스 존재 하에서 이루어진 것을 특징으로 하는 초발수 항비말 마스크
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7
제1 항에 있어서,상기 제2 돌출부는 나노 벽 또는 나노 기둥의 나노 패턴 구조를 형성하는 것을 특징으로 하는 초발수 항비말 마스크
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8
제1 항에 있어서,상기 제2 돌출부는 플라즈마 처리에 의해 형성된 것을 특징으로 하는 초발수 항비말 마스크
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9
제8 항에 있어서,상기 제2 돌출부의 플라즈마 처리는 O2, CF4, Ar, N2, 및 H2 중 선택된 1종 이상의 가스 존재 하에서 이루어진 것을 특징으로 하는 초발수 항비말 마스크
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10
제1 항에 있어서,상기 제3 돌출부는 나노 벽 또는 나노 기둥의 나노 패턴 구조를 형성하는 것을 특징으로 하는 초발수 항비말 마스크
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11
제1 항에 있어서,상기 제3 돌출부는 플라즈마 처리에 의해 형성된 것을 특징으로 하는 초발수 항비말 마스크
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12
제11 항에 있어서,상기 제3 돌출부의 플라즈마 처리는 O2, CF4, Ar, N2, 및 H2 중 선택된 1종 이상의 가스 존재 하에서 이루어진 것을 특징으로 하는 초발수 항비말 마스크
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13
제2 항에 있어서,상기 제4 돌출부는 나노 벽 또는 나노 기둥의 나노 패턴 구조를 형성하는 것을 특징으로 하는 초발수 항비말 마스크
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14
제2 항에 있어서,상기 제4 돌출부는 플라즈마 처리에 의해 형성된 것을 특징으로 하는 초발수 항비말 마스크
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15
제14 항에 있어서,상기 제4 돌출부의 플라즈마 처리는 O2, CF4, Ar, N2, 및 H2 중 선택된 1종 이상의 가스 존재 하에서 이루어진 것을 특징으로 하는 초발수 항비말 마스크
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16
나노 패턴 구조를 형성하는 제1 돌출부가 표면에 형성된 소수성 섬유의 집합으로 이루어진 소수성 부직포를 포함하는 외부필터; 및나노 패턴 구조를 형성하는 제3 돌출부가 표면에 형성된 친수성 섬유의 집합으로 이루어진 친수성 부직포를 포함하는 내부필터;를 구비하는 초발수 항비말 마스크
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제16 항에 있어서,상기 소수성 부직포는 상기 소수성 섬유의 집합을 웹을 형성하도록 고정하며, 나노 패턴 구조를 형성하는 제4 돌출부가 표면에 형성된 소수성 본딩부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 초발수 항비말 마스크
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나노 패턴 구조를 형성하는 제1 돌출부가 표면에 형성된 소수성 섬유의 집합으로 이루어진 소수성 부직포를 포함하는 외부필터;멜트 블로운 섬유의 집합으로 이루어진 멜트 블로운 부직포를 포함하는 중간필터; 및나노 패턴 구조를 형성하는 제3 돌출부가 표면에 형성된 친수성 섬유의 집합으로 이루어진 친수성 부직포를 포함하는 내부필터;를 구비하는 초발수 항비말 마스크
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제18 항에 있어서,상기 소수성 부직포는 상기 소수성 섬유의 집합을 웹을 형성하도록 고정하며, 나노 패턴 구조를 형성하는 제4 돌출부가 표면에 형성된 소수성 본딩부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 초발수 항비말 마스크
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