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애노드(Anode) 전극 및 캐소드(Cathode) 전극이 각각 배치된 막-전극 접합체(Membrane Electrode Assembly, MEA);상기 막-전극 접합체의 양단에 배치되어, 애노드 전극의 산화반응에 의해 발생된 전자를 캐소드 전극 쪽으로 전달하는 가스 확산층(Gas Diffusion Layer);상기 막-전극 접합체의 반응 영역 외주에 배치되어 반응 기체 및 냉각수의 누출을 방지하는 개스킷(Gasket);상기 개스킷의 외측에 배치되어, 반응 가스를 상기 가스 확산층에 공급하는 한 쌍의 양극판; 및상기 양극판과 소정 간격 이격 배치되는 앤드 플레이트;를 포함하고,상기 앤드 플레이트 및 양극판은, 전기 화학 셀 내부로 X-ray를 투과시키도록 통공된 슬릿 형상의 투과창;을 포함하는 것을 특징으로 하는 실제 구동 조건에서 X-ray 분석이 가능한 전기화학 셀
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제 1항에 있어서,상기 양극판 및 상기 앤드 플레이트 사이에 구비되어, 전기 화학 셀 내부의 기체 및 액체의 누출을 방지하는 유체누출방지부재;를 포함하는 것을 특징으로 하는 실제 구동 조건에서 X-ray 분석이 가능한 전기화학 셀
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제 2항에 있어서,상기 유체누출방지부재는,일면이 상기 양극판과 인접한 폴리이미드 필름(Polyimide film); 및일면이 상기 폴리이미드 필름과 인접하고, 타면이 상기 앤드 플레이트와 인접한 고무 재질의 유체누출방지개스킷;을 포함하는 것을 특징으로 하는 실제 구동 조건에서 X-ray 분석이 가능한 전기화학 셀
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제 1항에 있어서,상기 투과창은,상기 투과창의 폭 길이가 상기 투과창의 높이 길이보다 크게 구성되어 상기 투과창의 종횡비가 1이하로 형성되는 것을 특징으로 하는 실제 구동 조건에서 X-ray 분석이 가능한 전기화학 셀
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제 2항에 있어서,상기 양극판은,상기 개스킷과 이웃하고, 일면에 유동 채널이 형성된 제1분리판; 및일면이 상기 제1분리판과 대향 배치되며, 상기 앤드 플레이트와 인접한 타면에 상기 유체누출방지부재의 삽입을 위한 삽입홈이 형성된 제2분리판;을 포함하고,상기 제1분리판 및 상기 제2분리판은,각각 상기 투과창을 포함하는 것을 특징으로 하는 실제 구동 조건에서 X-ray 분석이 가능한 전기화학 셀
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제 5항에 있어서,상기 제1분리판은,상기 유동 채널의 양단에 연결되고, 상기 유동 채널과 소정 각도 굴곡진 대각선 형상의 유도선로;를 포함하는 것을 특징으로 하는 실제 구동 조건에서 X-ray 분석이 가능한 전기화학 셀
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제 1항에 있어서,상기 앤드 플레이트 및 상기 양극판은,상기 X-ray가 전기화학 셀을 투과하여 정보를 얻는 투과모드(Transmission Mode)시 적용되는 투과모드 타입 및 전기화학 셀에 반사되어 나온 신호를 받아 정보를 얻는 형광모드(Fluorescence Mode)시에 적용되는 형광모드 타입으로 구성되는 것을 특징으로 하는 실제 구동 조건에서 X-ray 분석이 가능한 전기화학 셀
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제 7항에 있어서,상기 양극판은,투과모드시, 양극판의 두께 10mm, 유동 채널의 폭 2mm, 유동 채널의 깊이 2mm 및 투과창의 높이가 2mm로 구성되는 것을 특징으로 하는 실제 구동 조건에서 X-ray 분석이 가능한 전기화학 셀
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제 7항에 있어서,상기 양극판은,형광모드시, 양극판의 두께 6mm, 유동 채널의 폭 2mm, 유동 채널의 깊이 2mm 및 투과창의 높이 4mm로 구성되는 것을 특징으로 하는 실제 구동 조건에서 X-ray 분석이 가능한 전기화학 셀
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제 7항에 있어서,상기 앤드 플레이트의 투과창은,형광모드 타입시 폭의 길이가 투과모드 타입시 폭의 길이보다 더 길게 구성되는 것을 특징으로 하는 실제 구동 조건에서 X-ray 분석이 가능한 전기화학 셀
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제 7항에 있어서,상기 앤드 플레이트의 투과창은,폭의 길이가 투과모드시 20mm, 형광모드시 50mm로 구성되는 것을 특징으로 하는 실제 구동 조건에서 X-ray 분석이 가능한 전기화학 셀
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제 7항에 있어서,상기 앤드 플레이트는,앤드 플레이트의 두께가 투과 모드시 15mm로 구성되고, 형광 모드시 10mm로 구성되는 것을 특징으로 하는 실제 구동 조건에서 X-ray 분석이 가능한 전기화학 셀
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