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각각이 유동화 기체를 주입받는 복수의 유동층 반응기와 복수의 유동층 반응기 각각으로부터 배출되는 기체와 고체를 분리하는 복수의 사이클론을 포함하는 순환 유동층 시스템으로서,상기 복수의 유동층 반응기는 적어도 제1 유동층 반응기 및 제2 유동층 반응기를 포함하고,상기 제1 유동층 반응기로부터 배출된 고체 입자가 유입되어 상기 제2 유동층 반응기로 배출되는 상부 루프실,상기 제2 유동층 반응기로부터 배출된 고체 입자를 상기 제1 유동층 반응기로 배출하여 순환시키는 하부 루프실을 포함하고,상기 하부 루프실은, 중력 방향에서 서로 다른 높이에 배치되는 제1 하부 루프실 및 제2 하부 루프실을 포함하는 순환 유동층 시스템
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제1항에서, 상기 제1 하부 루프실은 상기 제2 유동층 반응기로부터 고체 입자가 배출되는 제1 하부 유입관을 포함하고,상기 제2 하부 루프실은 상기 제2 유동층 반응기로부터 고체 입자가 배출되는 제2 하부 유입관을 포함하며,상기 제2 하부 유입관은 상기 제1 하부 유입관에 비해 중력 방향에서 하부에 위치하는 순환 유동층 시스템
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제2항에서, 상기 제2 유동층 반응기 내부에 존재하는 고체가 이루는 고체층의 높이는, 상기 제2 유동층 반응기 내부의 바닥면으로부터 상기 제2 하부 유입관까지의 높이 이상이고, 상기 제2 유동층 반응기 내부의 바닥면으로부터 상기 제1 하부 유입관까지의 높이 이하인 순환 유동층 시스템
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제3항에서, 상기 제1 하부 루프실은 상기 제1 하부 유입관과 순차로 연결된 제1 하부 하강관, 제1 하부 상승관 및 제1 하부 배출관을 포함하고,상기 제2 하부 루프실은 상기 제2 하부 유입관과 순차로 연결된 제2 하부 하강관, 제2 하부 상승관 및 제2 하부 배출관을 포함하고,상기 제1 하부 배출관은 상기 제2 하부 배출관과 연결되어 있는 순환 유동층 시스템
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제4항에서, 상기 하부 루프실에 주입되는 유동화 기체는, 상기 제1 하부 하강관과 상기 제1 하부 상승관 사이, 및 상기 제2 하부 하강관과 상기 제2 하부 하강관 사이에 각각 주입될 수 있는 순환 유동층 시스템
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제5항에서,상기 하부 루프실에 주입되는 유동화 기체의 유량 제어를 통해 상기 고체 입자의 순환 속도를 조절하는 순환 유동층 시스템
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제5항에서, 상기 제2 유동층 반응기 내부에 존재하는 고체가 이루는 고체층의 높이가, 상기 제2 유동층 반응기 내부의 바닥면으로부터 상기 제1 하부 유입관까지의 높이와 동일하거나 높은 경우,상기 제1 하부 루프실에 유동화 기체를 주입하여 상기 제2 유동층 반응기로부터 상기 제1 하부 유입관으로 고체를 배출시키는 순환 유동층 시스템
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제5항에서, 상기 제2 유동층 반응기 내부에 존재하는 고체가 이루는 고체층의 높이가, 상기 제2 유동층 반응기 내부의 바닥면으로부터 상기 제1 하부 유입관까지의 높이보다 낮을 경우,상기 제2 하부 루프실에 유동화 기체를 주입하여 상기 제2 유동층 반응기로부터 상기 제2 하부 유입관으로 고체를 배출시키는 순환 유동층 시스템
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제5항에서, 상기 제1 하부루프실과 제2 하부 루프실 모두에 유동화 기체를 주입하여 고체 순환 속도를 향상시키는 순환 유동층 시스템
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제1항에서, 상기 상부 루프실은, 고체가 유입되는 상부 고체 하강관, 상기 상부 고체 하강관과 연결되는 상부 고체 상승관 및 상기 상부 고체 상승관과 연결되어 상기 제2 유동층 반응기로 고체를 배출하는 상부 고체 배출관을 포함하고,상기 제2 유동층 반응기에서 상기 상부 고체 배출관은 상기 하부 루프실보다 상부에 배치되는 순환 유동층 시스템
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