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직조형 구조체;상기 직조형 구조체의 양면에 코팅된 고체전해질; 및상기 고체전해질의 외면에 형성된 이온전도성 고분자막;을 포함하고,상기 고체전해질은 산화물계 고체전해질 물질 및 바인더를 포함하고,상기 고체전해질 전체 중량 대비, 상기 산화물계 고체전해질 물질이 75 중량% 이상 포함되는 것을 특징으로 하는, 전해질 복합체
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제1항에 있어서,상기 산화물계 고체전해질은 하기 화학식 1에 따른 가넷형(garnet-type) 산화물계 고체전해질인 것을 특징으로 하는, 전해질 복합체
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제1항에 있어서,상기 산화물계 고체전해질 물질은 1 내지 30μm의 입경을 갖는 입자인 것을 특징으로 하는, 전해질 복합체
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제1항에 있어서,상기 이온전도성 고분자막은 폴리비닐리덴 플루오라이드-헥사 플루오로 프로필렌(PVDF-HFP) 복합 다공성 중합체막, PVDF 및 그 공중합체막으로부터 선택되는 1종인 것을 특징으로 하는, 전해질 복합체
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제1항에 있어서, 상기 직조형 구조체는 폴리올레핀, 나일론, 테프론 또는 폴리에스터계 재질로 구성되는 것을 특징으로 하는, 전해질 복합체
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제1항에 있어서, 상기 직조형 구조체는 직조에 의해 형성된 30 내지 150μm 크기를 갖는 복수의 기공을 포함하는 것을 특징으로 하는, 전해질 복합체
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제1항에 있어서,상기 바인더는 폴리비닐리덴 플루오라이드-헥사 플루오로 프로필렌(PVDF-HFP) 복합 다공성 중합체, PVDF 및 그 공중합체로부터 선택되는 1종인 것을 특징으로 하는, 전해질 복합체
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제1항에 있어서,상기 고체전해질의 두께에 대한 상기 이온전도성 고분자막의 두께의 합의 비는 1:0
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제1항에 있어서,상기 전해질 복합체의 두께는 80 내지 300μm인 것을 특징으로 하는, 전해질 복합체
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제1항에 있어서,상기 고체 전해질은 리튬염 및 가소제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 전해질 복합체
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제10항에 있어서,상기 가소제는 숙시노니트릴(succinonitrile, SCN), 에틸렌카보네이트, 프로필렌카보네이드, 부틸렌카보네이트, 비닐렌카보네이트, 디메틸카보네이트, 디에틸카보네이트, 메틸에틸카보네이트, 감마-부틸로락톤, 설포란, 1,2-디메톡시에탄, 1,2-디에톡시에탄, 1,2-에톡시메톡시에탄, 테트라히드로푸란, 2-메틸-1,3-디옥소란, 4-메틸-1,3-디옥소란, 디메틸에테르, 디에틸에테르 및 프로피온산메틸로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는, 전해질 복합체
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제1항에 있어서,상기 전해질 복합체는 5 x 10-5 S/m 이상의 이온전도도를 갖는 것을 특징으로 하는, 전해질 복합체
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양극;음극; 및전해질을 포함하고,상기 전해질은 제1항의 전해질 복합체인 것을 특징으로 하는, 전고체 전지
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직조형 구조체를 준비하는 단계;상기 직조형 구조체의 양면에 고체전해질을 코팅하는 단계;고체전해질이 코팅된 직조형 구조체를 리튬염 용액에 함침시키는 단계; 및상기 고체전해질의 외면에 이온전도성 고분자막을 형성하는 단계;를 포함하고,상기 고체전해질은 산화물계 고체전해질 물질 및 바인더를 포함하고,상기 고체전해질 전체 중량 대비, 상기 산화물계 고체전해질 물질이 75 중량% 이상 포함되는 것을 특징으로 하는, 전해질 복합체의 제조방법
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제14항에 있어서,상기 고체전해질이 코팅된 직조형 구조체를 리튬염 용액에 함침시키는 단계 이후, 가압하여 가압 전 두께 대비 50 내지 80%의 두께로 박막화하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 전해질 복합체의 제조방법
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