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집전체상에 시드층을 형성하는 단계;상기 시드층을 프리 리튬화(pre-lithiation) 하는 단계;상기 프리 리튬화된 시드층에 전류를 인가하여 리튬을 증착(plating)하는 단계;를 포함하는 초박형 리튬메탈 음극 제조방법
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제1항에 있어서,상기 시드층을 프리 리튬화(pre-lithiation) 하는 단계;는자가방전을 통해 이루어지는 것을 특징으로 하는, 초박형 리튬메탈 음극 제조방법
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제1항에 있어서,상기 시드층을 프리 리튬화(pre-lithiation) 하는 단계;는상기 프리 리튬화(pre-lithiation)를 통해 리튬실리사이드 또는 리튬실리케이트 화합물을 형성하는 것을 특징으로 하는, 초박형 리튬메탈 음극 제조방법
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제1항에 있어서,상기 시드층은 리튬 친화성(lithiophilic) 입자를 포함하는, 초박형 리튬메탈 음극 제조방법
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제1항에 있어서,상기 시드층은 실리콘(Si)상(Phase)을 갖는 입자를 포함하는, 초박형 리튬메탈 음극 제조방법
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제4항에 있어서,상기 리튬 친화성 입자의 크기는 50nm 이하인 것을 특징으로 하는, 초박형 리튬메탈 음극 제조방법
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제4항에 있어서,상기 시드층 전체 함량 대비 상기 리튬 친화성 입자의 함량은 ~ 내지 ~ wt%인 것을 특징으로 하는, 초박형 리튬메탈 음극 제조방법
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제1항에 있어서,상기 시드층은 천연 흑연, 인조 흑연, 카본 블랙, 아세틸렌 블랙, 케첸블랙 및 탄소섬유로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것을 포함하는, 초박형 리튬메탈 음극 제조방법
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제1항에 있어서,집전체상에 시드층을 형성하는 단계;에서상기 시드층의 두께는 10㎛ 이하인 것을 특징으로 하는, 초박형 리튬메탈 음극 제조방법
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제1항에 있어서,상기 프리 리튬화된 시드층에 전류를 인가하여 리튬을 증착(plating)하는 단계;에서상기 증착 두께는 5 내지 100 ㎛인 것을 특징으로 하는, 초박형 리튬메탈 음극 제조방법
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제1항에 있어서,상기 프리 리튬화된 시드층에 전류를 인가하여 리튬을 증착(plating)하는 단계;에서 전류밀도는 30mA/cm2 이하인 것을 특징으로 하는, 초박형 리튬메탈 음극 제조방법
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제1항에 있어서,상기 프리 리튬화된 시드층에 전류를 인가하여 리튬을 증착(plating)하는 단계;이후에증착된 리튬상에 보호막층을 형성하는 단계;를 더 포함하는, 초박형 리튬메탈 음극 제조방법
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제11항에 있어서,상기 보호막층은 충방전(Formation)과정을 통해 형성되는 고체 전해질 계면(Solid Electrolyte Interface; SEI)인 것을 특징으로 하는, 초박형 리튬메탈 음극 제조방법
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제1항의 제조방법에 따라 제조된 초박형 리튬메탈 음극
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제14항에 따른 초박형 리튬메탈 음극을 포함하는 전고체 전지
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