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소정의 반복율을 가지는 레이저 광원을 방출하는 레이저 발생기;상기 레이저 발생기에서 방출된 상기 레이저 광원을 제1 레이저 및 제2 레이저로 분기하는 분기부;상기 제1 레이저가 조사되며, 상기 제1 레이저에 의해 발생되는 전자빔을 방출하는 광전자총; 및상기 분기부에서 분기된 상기 제2 레이저 및 상기 광전자총에서 방출된 전자빔이 충돌하여 광원을 방출하는 광원 발생기를 포함하는,광원 발생 장치
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제 1 항에 있어서,상기 광전자총은 상기 제1 레이저의 주파수와 동일한 전자빔을 발생시키는,광원 발생 장치
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제 1 항에 있어서,상기 레이저 광원은 MHz급 또는 GHz급 주파수를 갖는,광원 발생 장치
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제 1 항에 있어서,상기 광원 발생기에서 발생된 광원은, 상기 제2 레이저가 상기 전자빔과 충돌하여 레이저 콤프톤 스캐터링(Laser Compton Scattering) 반응에 의해 발생하는,광원 발생 장치
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제 4 항에 있어서,상기 광원의 파장은 상기 제2 레이저의 에너지에 비례하고, 상기 전자빔의 로렌츠 인자의 제곱 반비례하는,광원 발생 장치
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제 1 항에 있어서,상기 광원 발생기에서 발생된 광원은 상기 제2 레이저가 상기 전자빔의 에너지를 받아 발생된 광원인,광원 발생 장치
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제 1 항에 있어서,상기 제2 레이저 및 상기 전자빔은 소정의 각도를 가지며 충돌되는,광원 발생 장치
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제 7 항에 있어서,상기 제2 레이저와 상기 전자빔의 충돌 각도는 90도 초과 180도 미만인,광원 발생 장치
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제 1 항에 있어서,상기 레이저 발생기는, 레이저 언줄레이터(Laser Undulator)인,광원 발생 장치
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