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Bi2WO6를 포함하는 코어; 및 상기 코어를 감싼 질소-도핑 산화그래핀 양자점(Nitrogen-doped Graphene Oxide Quantum Dots, NGQD) 및 C3N4 를 포함하는 쉘;을 포함하는 가시광선 감응형 광촉매제
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청구항 1에 있어서, 상기 C3N4는 나노 시트 형태인, 가시광선 감응형 광촉매제
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청구항 1에 있어서, 상기 쉘은 무정형인, 가시광선 감응형 광촉매제
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질소-도핑 산화그래핀 양자점(Nitrogen-doped Graphene Oxide Quantum Dots, NGQD)와 C3N4의 복합체; Na2WO4·2H2O; 및 Bi(NO3)3·5H2O;의 분산액을 열처리하는 단계; 및상기 열처리된 분산액을 건조시키고, 생성물을 분쇄하는 단계;를 포함하는 가시광선 감응형 광촉매제의 제조 방법
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청구항 4에 있어서, 상기 분산액은 NGQD를 더 포함하는 가시광선 감응형 광촉매제의 제조 방법
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청구항 4에 있어서, 상기 분산액은 빙초산을 더 포함하는 가시광선 감응형 광촉매제의 제조 방법
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청구항 4에 있어서, 상기 열처리는 120 내지 200℃, 10 내지 20 시간 동안 수행되는 것인, 가시광선 감응형 광촉매제의 제조 방법
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청구항 4에 있어서, 질소-도핑 산화그래핀 양자점(Nitrogen-doped Graphene Oxide Quantum Dots, NGQD)과 요소(urea)의 혼합물을 하소시켜, 상기 NGQD와 C3N4의 복합체를 얻는 단계를 더 포함하는 가시광선 감응형 광촉매제의 제조 방법
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청구항 8에 있어서, 상기 하소는 400 내지 700℃의 온도 조건에서 수행되는 것인, 가시광선 감응형 광촉매제의 제조 방법
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청구항 8에 있어서, 상기 NGQD와 C3N4의 복합체를 분쇄하고 재하소시켜, NGQD와 C3N4 나노시트의 복합체를 얻는 단계를 더 포함하는 가시광선 감응형 광촉매제의 제조 방법
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청구항 1 내지 4 중 어느 한 항의 가시광선 감응형 광촉매제를 포함하는 폐수 내 유기탄소 제거용 조성물
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