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복수 개의 컬러필터소자를 포함하는 컬러필터에 있어서, 상기 컬러필터소자는, 서로 마주보게 제공되는 복수 개의 금속층;상기 금속층 사이에 제공되고, 빛을 투과시킬 수 있는 물질로 제공되는 유전체층; 및상기 유전체층의 상측 또는 하측에 제공되고, IGZO를 포함하는 액티브층을 포함하는IGZO(Indium-Gallium-Zinc-Oxide)를 포함하는 컬러필터
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제1 항에 있어서,상기 액티브층에 제공된 IGZO의 전하 농도에 따라 상기 컬러필터소자에 나타나는 구조색이 변경되는IGZO(Indium-Gallium-Zinc-Oxide)를 포함하는 컬러필터
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제1 항에 있어서,상기 유전체층은 이산화규소로 제공되고,상기 금속층은 은으로 제공되는IGZO(Indium-Gallium-Zinc-Oxide)를 포함하는 컬러필터
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제1 항에 있어서,상기 유전체층은 40nm 내지 180nm으로 제공되고, 액티브층은 20nm 내지 60nm으로 제공되는IGZO(Indium-Gallium-Zinc-Oxide)를 포함하는 컬러필터
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제1 항에 있어서,상기 액티브층은 빛을 투과시킬 수 있게 투명하게 제공되는IGZO(Indium-Gallium-Zinc-Oxide)를 포함하는 컬러필터
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제1 항에 있어서,상기 액티브층은 가시광선 영역에서 흡광계수가 0 내지 0
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제1 항에 있어서,상기 컬러필터는 복수 개의 컬러필터소자를 포함하고,복수 개의 컬러필터소자 중 적어도 일부는 두께가 서로 다르게 제공되는IGZO(Indium-Gallium-Zinc-Oxide)를 포함하는 컬러필터
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제1 항에 있어서,상기 컬러필터는 복수 개의 컬러필터소자를 포함하고,복수 개의 컬러필터소자 중 적어도 일부는 IGZO의 전하 농도가 서로 다르게 제공되는IGZO(Indium-Gallium-Zinc-Oxide)를 포함하는 컬러필터
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제1 항에 있어서,상기 컬러필터소자에 가시광선 파장영역의 빛이 조사되는 경우, 복수 개의 금속층 사이에서 공명이 발생하는IGZO(Indium-Gallium-Zinc-Oxide)를 포함하는 컬러필터
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제8 항에 있어서,상기 컬러필터소자는 전고체로 제공되는IGZO(Indium-Gallium-Zinc-Oxide)를 포함하는 컬러필터
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하나의 금속층을 제조하는 단계(S1);상기 금속층의 일측에 유전체층이 적층되는 단계(S2);상기 유전체층의 일측에 IGZO를 포함하는 액티브층이 적층되는 단계(S3);상기 액티브층의 일측에 다른 하나의 금속층을 적층하는 단계(S4)를 포함하고,상기 유전체층의 일측에 IGZO를 포함하는 액티브층을 적층하는 단계(S3)는,Ar 분위기에서 IGZO 타겟을 이용한 RF 스퍼터링에 의해 실행되는IGZO(Indium-Gallium-Zinc-Oxide)를 포함하는 컬러필터의 제조방법
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제11 항에 있어서,상기 금속층의 일측에 유전체층이 적층되는 단계(S2)와 상기 유전체층의 일측에 IGZO를 포함하는 액티브층이 적층되는 단계(S3) 사이에,유전체층의 두께가 다른 부분이 제공될 수 있도록 유전체층에 대해 FIB 밀링 공정이 실행되는 단계를 포함하는IGZO(Indium-Gallium-Zinc-Oxide)를 포함하는 컬러필터의 제조방법
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제11 항에 있어서,상기 IGZO 타겟의 조성비는 In:Ga:Zn 1:1:1 mol % 로 제공되는IGZO(Indium-Gallium-Zinc-Oxide)를 포함하는 컬러필터의 제조방법
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제1 항에 있어서,상기 컬러필터소자를 투과하는 가시광선 파장영역의 빛의 공명 파장은 55nm 내지 65nm인 IGZO(Indium-Gallium-Zinc-Oxide)를 포함하는 컬러필터
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