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기재의 표면에 박막을 증착하는 장치로서,내부 공간을 설계 압력으로 유지하는 메인 챔버;상기 내부 공간 내에 위치하되 상기 기재를 지지하고 스캔 방향으로 이동 가능하도록 구성된 스테이지;상기 스테이지 상에 상기 기재의 표면으로부터 소정 간격 이격되어 배치되고 수직제한슬릿이 형성된 수직제한부재;상기 스테이지를 상기 스캔 방향으로 이동시키도록 구성된 구동부;상기 메인 챔버의 내측에 고정되고 타겟을 구비하여 상기 타겟의 입자를 상기 기재를 향해 방출하도록 구성된 스퍼터링부;상기 스퍼터링부와 상기 수직제한부재 사이에 고정되고 수평제한슬릿이 형성된 수평제한부재를 포함하되,상기 수직제한슬릿은 소정 높이로 상기 스캔 방향을 따라 연장되고, 상기 수평제한슬릿은 상기 스캔 방향으로 소정 폭을 가지며,상기 스퍼터링부에서 방출한 입자가 상기 수평제한슬릿 및 상기 수직제한슬릿을 통과하여 상기 표면에 증착되는 것을 특징으로 하는 박막 증착 장치
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제 1항에 있어서,상기 스퍼터링부는,마그네트론 스퍼터링에 의해 입자를 방출하도록 구성된 스퍼터건;상기 스퍼터건의 말단에 장착되는 상기 타겟; 및상기 타겟을 개방 및 폐쇄하도록 구성된 셔터를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 증착 장치
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제 1 항에 있어서,상기 스퍼터링부는 각각 말단에 타겟을 구비한 복수의 스퍼터건을 포함하고,상기 복수의 스퍼터건에서 방출한 입자들은 하나의 수평제한슬릿을 통과하여 상기 표면에 증착되는 것을 특징으로 하는 박막 증착 장치
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제 3 항에 있어서,상기 스퍼터링부는 2개의 스퍼터건을 포함하고, 상기 2개의 스퍼터건은 상기 수평제한부재에 대하여 서로 반대 방향으로 0~90도의 각도를 이루는 것을 특징으로 하는 박막 증착 장치
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제 4 항에 있어서,상기 2개의 스퍼터건은 상기 수평제한부재에 대하여 서로 반대 방향으로 70도의 각도를 이루는 것을 특징으로 하는 박막 증착 장치
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제 3 항에 있어서,상기 복수의 스퍼터건 각각에 장착된 타겟은 상이한 물질을 함유하는 것을 특징으로 하는 박막 증착 장치
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제 1 항에 있어서,상기 수평제한슬릿은 상기 스퍼터링부에서 방출한 입자가 상기 기재의 표면에 증착되는 범위를 스캔 방향으로 제한하는 것을 특징으로 하는 박막 증착 장치
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제 1 항에 있어서,상기 기재를 로딩하기 위한 로드락 챔버를 더 포함하되,상기 로드락 챔버의 내부 공간은 상기 메인 챔버의 내부 공간에 비해 작은 부피를 갖고, 상기 로드락 챔버의 내부 공간은 개폐 가능한 개구부에 의해 상기 메인 챔버의 내부 공간에 연통하는 것을 특징으로 하는 박막 증착 장치
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제 1 항에 있어서,상기 수직제한부재는 상기 기재의 표면으로부터 0
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제 9 항에 있어서,상기 기재의 표면으로부터의 간격은 0
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제 1 항에 있어서,상기 수평제한부재는 상기 기재가 상기 수평제한슬릿 앞을 지날 때 상기 기재의 표면으로부터 2~10 mm의 간격을 갖는 것을 특징으로 하는 박막 증착 장치
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제 11 항에 있어서,상기 기재의 표면으로부터의 간격은 5 mm인 것을 특징으로 하는 박막 증착 장치
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제 1 항에 있어서,상기 수직제한부재와 상기 수평제한부재 중 적어도 하나는 교체 가능하게 고정되는 것을 특징으로 하는 박막 증착 장치
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제 1 항에 있어서,상기 구동부는 상기 스테이지의 이동 속도를 조절하여 이동시키도록 구성되는 것을 특징으로 하는 박막 증착 장치
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제 1 항에 있어서,상기 기재의 표면의 평탄도 오차를 측정하도록 구성된 센서부; 및상기 센서부에 의해 측정된 상기 표면의 평탄도 오차에 근거하여 상기 구동부와 상기 스퍼터링부 중 적어도 하나의 동작을 제어하도록 구성된 제어부를 더 포함하는 박막 증착 장치
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기재의 표면에 박막을 증착하는 장치로서,내부 공간을 설계 압력으로 유지하는 메인 챔버;상기 내부 공간 내에 위치하되 상기 기재를 지지하고 스캔 방향으로 이동 가능하도록 구성되며, 상면에 상기 스캔 방향을 따라 연장되는 홈이 형성된 스테이지;상기 스테이지 상에 상기 기재의 표면으로부터 소정 간격 이격되어 배치되고 수직제한슬릿이 형성된 수직제한부재;상기 스테이지를 상기 스캔 방향으로 이동시키도록 구성된 구동부;상기 메인 챔버의 내측에 고정되고 타겟을 구비하여 상기 타겟의 입자를 상기 기재를 향해 방출하도록 구성된 스퍼터링부;상기 스퍼터링부와 상기 수직제한부재 사이에 고정되고 수평제한슬릿이 형성되며, 상기 스테이지에 대하여 상대적으로 슬라이딩 가능하도록 상기 홈에 삽입되는 수평제한부재를 포함하는 박막 증착 장치
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17
내부 공간을 설계 압력으로 유지하는 메인 챔버, 상기 내부 공간 내에 위치하되 상기 기재를 지지하고 스캔 방향으로 이동 가능하도록 구성된 스테이지, 상기 스테이지 상에 상기 기재의 표면으로부터 소정 간격 이격되어 배치되고 수직제한슬릿이 형성된 수직제한부재, 상기 메인 챔버의 내측에 고정되고 타겟을 구비하여 상기 타겟의 입자를 상기 기재를 향해 방출하도록 구성된 스퍼터링부, 및 상기 스퍼터링부와 상기 수직제한부재 사이에 고정되고 수평제한슬릿이 형성된 수평제한부재를 포함하는 박막 증착 장치를 이용하여 기재의 표면에 박막을 증착하는 방법으로서,상기 스테이지를 이동시키면서 상기 스퍼터링부로부터 상기 기재를 향해 상기 타겟의 입자를 방출하는 단계를 포함하되,상기 수직제한슬릿은 소정 높이로 상기 스캔 방향을 따라 연장되고, 상기 수평제한슬릿은 상기 스캔 방향으로 소정 폭을 가지며,상기 스퍼터링부에서 방출한 입자가 상기 수평제한슬릿 및 상기 수직제한슬릿을 통과하여 상기 표면에 증착되는 것을 특징으로 하는 박막 증착 방법
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제 17 항에 있어서,상기 스퍼터링부는 각각 말단에 타겟을 구비한 복수의 스퍼터건을 포함하고,상기 복수의 스퍼터건에서 방출한 입자들은 하나의 수평제한슬릿을 통과하여 상기 표면에 증착되는 것을 특징으로 하는 박막 증착 방법
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19
제 18 항에 있어서,상기 스퍼터링부는 2개의 스퍼터건을 포함하고, 상기 2개의 스퍼터건은 상기 수평제한부재에 대하여 서로 반대 방향으로 0~90도의 각도를 이루는 것을 특징으로 하는 박막 증착 방법
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20
제 18 항에 있어서,상기 복수의 스퍼터건 각각에 장착된 타겟은 상이한 물질을 함유하는 것을 특징으로 하는 박막 증착 방법
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제 17 항에 있어서,상기 타겟의 입자를 방출하는 단계 이전에,내부가 상기 메인 챔버의 내부 공간에 비해 작은 부피를 가진 로드락 챔버에 상기 기재를 로딩하는 단계;상기 로드락 챔버와 상기 메인 챔버 사이의 개구부를 개방하는 단계; 및상기 개구부를 통해 상기 기재를 상기 로드락 챔버의 내부로부터 상기 메인 챔버의 내부 공간으로 이송하는 단계를 더 포함하는 박막 증착 방법
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제 17 항에 있어서,상기 타겟의 입자를 방출하는 단계는, 상기 스테이지의 이동 속도를 조절하면서 수행되는 것을 특징으로 하는 박막 증착 방법
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23
제 17 항에 있어서,상기 타겟의 입자를 방출하는 단계 이전에,상기 기재의 상기 표면의 평탄도 오차를 측정하는 단계를 더 포함하고,상기 타겟의 입자를 방출하는 단계는, 상기 표면의 평탄도 오차가 소정 임계치 이하가 되도록 상기 측정된 평탄도 오차에 근거하여 상기 스테이지의 이동 속도와 상기 스퍼터링부의 입자 방출량 중 적어도 하나를 조절하면서 수행되는 것을 특징으로 하는 박막 증착 방법
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24
제 23 항에 있어서,상기 기재의 상기 표면의 평탄도 오차를 측정하는 단계 이전에,상기 표면에 적층된 물질 또는 상기 타겟과 동일한 물질로 소정 두께의 예비 피막을 형성하는 단계를 더 포함하는 박막 증착 방법
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25
제 24 항에 있어서,상기 예비 피막은 0
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제 19 항에 있어서,상기 2개의 스퍼터건은 상기 수평제한부재에 대하여 서로 반대 방향으로 70도의 각도를 이루는 것을 특징으로 하는 박막 증착 방법
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27
제 17 항에 있어서,상기 수직제한부재는 상기 기재의 표면으로부터 0
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28
제 27 항에 있어서,상기 기재의 표면으로부터의 간격은 0
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제 17 항에 있어서,상기 수평제한부재는 상기 기재가 상기 수평제한슬릿 앞을 지날 때 상기 기재의 표면으로부터 2~10 mm의 간격을 갖는 것을 특징으로 하는 박막 증착 장치
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제 29 항에 있어서,상기 기재의 표면으로부터의 간격은 5 mm인 것을 특징으로 하는 박막 증착 장치
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내부 공간을 설계 압력으로 유지하는 메인 챔버, 상기 내부 공간 내에 위치하되 상기 기재를 지지하고 스캔 방향으로 이동 가능하도록 구성되며, 상면에 상기 스캔 방향을 따라 연장되는 홈이 형성된 스테이지, 상기 스테이지 상에 상기 기재의 표면으로부터 소정 간격 이격되어 배치되고 수직제한슬릿이 형성된 수직제한부재, 상기 메인 챔버의 내측에 고정되고 타겟을 구비하여 상기 타겟의 입자를 상기 기재를 향해 방출하도록 구성된 스퍼터링부, 및 상기 스퍼터링부와 상기 수직제한부재 사이에 고정되고 수평제한슬릿이 형성되며, 상기 스테이지에 대하여 상대적으로 슬라이딩 가능하도록 상기 홈에 삽입되는 수평제한부재를 포함하는 박막 증착 장치를 이용하여 기재의 표면에 박막을 증착하는 방법으로서,상기 스테이지를 이동시키면서 상기 스퍼터링부로부터 상기 기재를 향해 상기 타겟의 입자를 방출하는 단계를 포함하되,상기 수직제한슬릿은 소정 높이로 상기 스캔 방향을 따라 연장되고, 상기 수평제한슬릿은 상기 스캔 방향으로 소정 폭을 가지며,상기 스퍼터링부에서 방출한 입자가 상기 수평제한슬릿 및 상기 수직제한슬릿을 통과하여 상기 표면에 증착되는 것을 특징으로 하는 박막 증착 방법
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제17항 내지 제30항 중 어느 한 항의 방법을 수행하기 위한 명령어들의 조합이 유형적으로 구현되어 있으며 디지털 정보 처리 장치에 의해 판독 가능한 프로그램이 기록된 기록 매체
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