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가스 소스가 제공되는 내부 공간을 가지는, 반응 챔버;상기 반응 챔버 내부 공간에 전기장을 유도하고, 상기 전기장에 의해 상기 가스 소스로부터 유도 결합 플라즈마를 형성하는, 상부 코일부;상기 상부 코일부에 대향하되, 상기 유도 결합 플라즈마에 의해 식각되는 피식각체가 배치되는, 탑재부; 및상기 탑재부의 하 측에 마련되되, 상기 유도 결합 플라즈마를 이루되 식각에 관여하는 이온 및 중성 활성종 중에서 적어도 어느 하나를, 상기 탑재부에 배치된 피식각체 방향으로 유도하는, 하부 전극부;를 포함하되,상기 하부 전극부의 주파수는 상기 상부 코일부의 주파수 보다 낮은, 유도 결합 플라즈마 식각 장치
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제1 항에 있어서, 상기 상부 코일부에 고주파 전력을 인가하는, 고주파 전력 공급원;상기 하부 전극부에 저주파 전력을 인가하는, 저주파 전력 공급원;상기 고주파 전력 공급원과 상기 상부 코일부 사이의 전력 공급 라인에 마련된, 고주파 전력 매칭부; 및상기 저주파 전력 공급원과 상기 하부 전극부 사이의 전력 공급 라인에 마련된, 저주파 전력 매칭부;를 더 포함하되,상기 저주파 전력 공급원은, 상기 하부 전극부에 상기 저주파 전력을 펄스로 인가하는, 유도 결합 플라즈마 식각 장치
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제1 항에 있어서, 상기 반응 챔버 내부 공간에, 상기 가스 소스를 제공하는, 가스 공급 유닛을 더 포함하되, 상기 가스 공급 유닛은, 상온에서 액상 상태인 액상 소스를 보관하는, 액상 소스 보관부;상기 액상 소스 보관부를 둘러싸며, 상기 액상 소스 보관부에 보관된 액상 소스를 가열하여, 상기 액상 소스로부터 상기 가스 소스를 형성하는, 히팅부;상기 가스 소스를 운반하기 위한, 캐리어 가스;상기 가스 소스 및 상기 캐리어 가스 중에서 적어도 어느 하나의 유량을 조절하는, 유량 조절부; 및상기 캐리어 가스에 의해 운반된 상기 가스 소스를 상기 반응 챔버 내부 공간으로 공급하는, 가스 소스 공급부;로 구성된, 유도 결합 플라즈마 식각 장치
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제3 항에 있어서,상기 가스 공급 유닛은,상온에서 가스 상태인 가스 소스를 보관하는, 가스 소스 보관부를 더 포함하는, 유도 결합 플라즈마 식각 장치
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제1 항에 있어서,상기 상부 코일부의 하 측에 배치된 유전체 판; 및상기 반응 챔버 내부 공간의 압력을 조절하는, 압력 조절부;를 더 포함하는, 유도 결합 플라즈마 식각 장치
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제1 항에 있어서,상기 피식각체가 식각되어 상기 피식각체에 형성된 패턴은, 상기 상부 코일부를 향하는 층으로 정의되는 상층 및 상기 하부 전극부를 향하는 층으로 정의되는 하층에서, 상기 하층의 상기 상층에 대한 CD(Critical Dimension) 비율 범위가 0
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반응 챔버 내부 공간 하 측에 피식각체를 배치하는 단계;상기 반응 챔버 내부 공간에 가스 소스를 제공하는 단계;상기 반응 챔버 내부 공간 상부 코일부에 의해, 상기 반응 챔버 내부 공간에 전기장을 유도하고, 상기 전기장에 의해 상기 가스 소스로부터 유도 결합 플라즈마를 형성하는 단계; 및상기 상부 코일부에 대향하는 하부 전극부에 의해, 상기 유도 결합 플라즈마를 이루되 식각에 관여하는 이온 및 중성 활성종 중에서 적어도 어느 하나를, 상기 피식각체 방향으로 유도하여, 상기 피식각체를 식각하는 단계;를 포함하되,상기 하부 전극부의 주파수는 상기 상부 코일부의 주파수 보다 낮은 것을 포함하는, 유도 결합 플라즈마 식각 방법
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제 7항에 있어서,상기 하부 전극의 주파수는, 상기 상부 코일부의 주파수 보다 낮되,400 kHz 이상 내지 13
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제7 항에 있어서,상기 피식각체를 식각하는 단계는,상기 하부 전극부에 저주파 전력을 펄스로 인가하여 이온 에너지를 조절하는 것을 포함하는, 유도 결합 플라즈마 식각 방법
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제7 항에 있어서,상기 가스 소스를 제공하는 단계는,상온에서 액상 상태인 액상 소스를 보관하는 단계;상기 보관된 액상 소스를 가열하여, 상기 액상 소스로부터 상기 가스 소스를 형성하는 단계;상기 가스 소스에, 상기 가스 소스를 운반하기 위한 캐리어 가스를 제공하는 단계; 및상기 캐리어 가스에 의해 운반된 상기 가스 소스를 상기 반응 챔버 내부 공간으로 공급하는 단계;를 포함하되,상기 캐리어 가스를 제공하는 단계 및 상기 가스 소스를 상기 반응 챔버 내부 공간으로 공급하는 단계 중에서 적어도 어느 하나의 단계에서, 상기 가스 소스 및 상기 캐리어 가스 중에서 적어도 어느 하나의 유량을 조절되는 것을 포함하는, 유도 결합 플라즈마 식각 방법
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