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무기 입자를 포함하는 수분산액

  • 기술번호 : KST2022022202
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명에 따른 수분산액에 포함된 무기 입자는 결정질과 무정형의 소립자의 응집으로 구성되며, 구형이고 매끄러운 표면을 나타낸다. 무기 입자의 구형 외관, 낮은 결정도 및 좁은 입도분포는 CMP 공정에서 스크래치 결함을 줄이는데 더욱 유리하다. 또한 무기물 입자 표면의 소립자들이 더 많은 활성 부위를 제공하여 연마율(removal rate)이 우수하므로 차세대 CMP 연마재로 유리하다. 또한 본 발명에 따른 수분산액은 아미노산을 더 포함하며, 아미노산이 산화규소 웨이퍼 표면에 흡착되어 산화규소 웨이퍼와 무기입자 사이의 전기적 이끌림을 강화시킴으로써 연마율을 더욱 향상시키는 효과가 있다.
Int. CL C09G 1/02 (2006.01.01) C09K 3/14 (2006.01.01)
CPC C09G 1/02(2013.01) C09K 3/1463(2013.01) C09K 3/1409(2013.01)
출원번호/일자 1020210061195 (2021.05.12)
출원인 성균관대학교산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2022-0153787 (2022.11.21) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2021.05.12)
심사청구항수 18

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 성균관대학교산학협력단 대한민국 경기도 수원시 장안구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김태성 서울특별시 강남구
2 곽동건 경기도 수원시 장안구
3 윤준호 경기도 수원시 장안구
4 남재도 서울특별시 강남구
5 김나연 서울특별시 강동구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김애라 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 *** (역삼동, 한신인터밸리**) 서관 ***호(테라아이피씨특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2021.05.12 수리 (Accepted) 1-1-2021-0547982-46
2 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2021.09.15 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2021-1069912-16
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2022.04.15 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
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번호 청구항
1 1
복수개의 소립자가 응집되어 형성된 무기 입자로서, 상기 소립자는 결정성 상과 무정형 상이 혼재되어 있으며 결정화도가 90% 이하인 것인 무기 입자를 포함하는 수분산액
2 2
제1항에 있어서, 아미노산을 더 포함하는 수분산액
3 3
제2항에 있어서, 수분산액 총중량을 기준으로 상기 아미노산의 함량은 0
4 4
제2항에 있어서, 상기 무기입자와 아미노산의 중량비가 100: 50 ~ 200 인 수분산액
5 5
제2항에 있어서, 상기 아미노산이 티로신, 페닐알라닌 및 트립토판 중에서 선택되는 하나 이상인 수분산액
6 6
제1항에 있어서, 상기 소립자는 입경이 1~50nm 인 것인 수분산액
7 7
제1항 있어서, 상기 무기 입자는 밀도가 3
8 8
제1항에 있어서, 상기 무기 입자는 등전점이 pH 5~7 이고, 수분산액의 pH는 3~7인 수분산액
9 9
제1항에 있어서, 상기 무기 입자는 pH4 의 수분산액 상태에서 표면 전하가 +30 ~ +50 mV 또는 -30 ~ -50 mV의 제타전위를 갖는 것인 수분산액
10 10
제1항에 있어서, 상기 무기 입자는 Ga, Sn, As, Sb, Ce, Si, Al, Co, Fe, Li, Mn, Ba, Ti, Sr, V, Zn, La, Hf, Ni 및 Zr으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 원소의 산화물로 이루어진 것인 무기 입자
11 11
제1항에 있어서, 상기 무기 입자는 CeO2 입자이며, Ce3+/Ce4+ 이온비가 5~60 인 수분산액
12 12
제1항에 있어서, 상기 수분산액은 CMP용 슬러리인 것인 수분산액
13 13
제1항에 있어서, 상기 무기 입자는(a) 자기조립성 계면활성제를 물 또는 물과 상용성을 갖는 용매와 물의 혼합 용매에 용해시키는 단계;(b) 상기 (a) 단계를 실시하기 전, 후 또는 동시에, 무기물 전구체를 상기 용매에 용해 또는 분산시켜 무기물 전구체 용액을 제조하는 단계; 및(c) 상기 무기물 전구체와 상기 계면활성제의 자기조립반응을 통해 계면활성제가 형성하는 껍질 속에서 결정성 상과 무정형 상이 혼재된 소립자를 형성하고, 복수개의 소립자들이 응집되어 무기 입자를 형성하는 단계를 포함하는 방법에 의해 제조된 것인 수분산액
14 14
제13항에 있어서, 수분산액에 포함된 무기 입자는, 상기 (c) 단계에서 얻은 무기 입자를 산과 염기로 처리하여 하는 단계를 더 포함하여 표면 전하가 제어된 무기 입자인 수분산액
15 15
제13항에 있어서, 상기 자기조립성 계면활성제는 상기 무기물 전구체와 결합할 수 있는 전하를 갖는 양이온성 계면활성제, 음이온성 계면활성제 및 양쪽성 계면활성제로부터 선택되는 하나 이상으로서, 축합반응 내지는 가교반응이 가능한 관능기를 보유하는 것인 수분산액
16 16
제13항에 있어서, 상기 축합반응 내지는 가교반응이 가능한 관능기는 아마이드기, 니트로기, 알데히드기 및 카르보닐기로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상인 것인 수분산액
17 17
제13항에 있어서, 상기 자기조립성 계면활성제가 하기 화학식 1의 구조를 갖는 것인 수분산액:[화학식 1]상기 화학식 1에서 R1 및 R3는 독립적으로 수소원자, C1-C10 알킬기 또는 알콕시기이며, R2는 하기 화학식 2의 치환기이고, n은 2 이상의 수이다:[화학식 2]화학식 2에 있어서, R4 및 R5는 독립적으로 수소원자, C1-C10 알킬기 또는 알콕시기이며, R6는 C1-C10 알킬렌기 또는 단일 공유결합이고, *는 연결부위를 나타낸다
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 산업통상자원부 성균관대학교 산학협력단 미래반도체소자 원천기술개발사업 고연마율/ 선택비용 세리아 슬러리 첨가제 기술 개발