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네마틱 상의 액정 기준, 배향이 패턴화된 액정을 포함하는 액정부를 포함하며, 온도에 따른 액정의 상변이(phase transition)에 의해 상기 액정의 배향 패턴이 외부에 노출되는 보안 소자
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제 1항에 있어서,상기 액정의 상변이는 스멕틱 상(smectic phase)과 네마틱 상(nematic phase)간의 상변이 또는 네마틱 상과 아이소트로픽 상(isopropic phase)간의 상변이인 보안 소자
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제 1항에 있어서,상기 액정의 배향 패턴은 수평형(homogeneous) 분자 배열, 수직형(homeotropic) 분자 배열, 경사(pretilted) 분자 배열, 혼합(hybrid) 분자 배열 및 트위스트(twist) 분자 배열에서 선택된 2종 이상의 분자 배열에 의해 패턴화된 보안 소자
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제 1항에 있어서,상기 보안 소자는 광의 진행 방향으로 상기 액정부보다 후방에 위치하며, 진위여부의 판별을 가능하게 하는 판별요소;를 더 포함하는 보안 소자
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제 1항에 있어서,스멕틱 상의 액정 기준, 상기 액정은 배향 패턴을 갖지 않는 보안 소자
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제 4항에 있어서, 상기 액정의 배향 패턴 내 동일 분자 배열을 갖는 단위 영역의 크기는, 온도에 의해 제1상에서 제2상으로의 제1상변이 및 제2상에서 제1상으로의 제2상변이가 순차적으로 수행된 경우, 제1상변이 전 단위 영역의 분자 배열과 제2상변이 후 단위 영역의 분자 배열과 달라지는 크기인 보안 소자
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제 6항에 있어서, 상기 단위 영역의 크기는 50μm 이하인 보안 소자
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제 4항에 있어서,상기 판별요소는 심상, 기호, 또는 이들의 조합을 포함하는 보안 소자
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제 1항에 있어서,상기 액정은 상기 보안 소자에 인위적으로 열이나 냉각이 인가되지 않은 상태에서, 스멕틱 상 또는 아이소트로픽 상을 갖는 보안 소자
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제 1항 내지 제 9항 중 어느 한 항에 따른 보안 소자; 및 상기 보안 소자를 가열하거나 냉각하는 온도조절부;를 포함하는 보안 시스템
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제 10항에 있어서,상기 보안 소자에 광을 조사하는 광원; 및 상기 보안 소자와 광원간의 광경로상 위치하는 편광자;를 더 포함하는 보안 시스템
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a) 제 1항 내지 제 9항 중 어느 한 항에 따른 보안 소자의 액정을 가열 또는 냉각하여 제1상에서 제2상으로 상변이 시키는 단계;b) 제2상이 유지된 상태에서 상기 보안 소자에 광을 조사하여 진위 여부를 판별하는 단계;를 포함하는 위조방지 방법
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제 12항에 있어서,a) 단계 전, 상기 보안 소자에 인위적으로 열이나 냉각이 인가되지 않은 상태에서 광을 조사하여 해킹 시도 여부를 확인하는 단계;를 더 포함하는 위조방지 방법
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