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시스-2-데세노익산 (cis-2-decenoic acid; CDA)을 유효성분으로 포함하는 수처리용 분리막 상에서의 생물막 형성 억제용 조성물
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제1항에 있어서,상기 수처리용 분리막은 정밀여과막 및 한외여과막 중에서 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 수처리용 분리막 상에서의 생물막 형성 억제용 조성물
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피처리수에 시스-2-데세노익산을 혼합하는 단계; 및상기 피처리수 및 시스-2-데세노익산의 혼합물을 수처리용 분리막을 통해 여과시키는 단계;를 포함하는 수처리용 분리막 상에서의 생물막 형성 억제 방법
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제3항에 있어서,상기 시스-2-데세노익산의 농도는 150 내지 550 nM인 것을 특징으로 하는 수처리용 분리막 상에서의 생물막 형성 억제 방법
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제3항에 있어서,상기 수처리용 분리막은 정밀여과막 및 한외여과막 중에서 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 수처리용 분리막 상에서의 생물막 형성 억제 방법
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제3항에 있어서,상기 여과시키는 단계의 여과는 폭기조 내 상향류를 이용하여 막 면과 같은 방향으로 물의 흐름이 형성되는 십자류 여과(cross-flow filtration) 방식으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 수처리용 분리막 상에서의 생물막 형성 억제 방법
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피처리수를 수용하는 반응조 및 수처리용 분리막을 포함하고,상기 반응조는 내부에 시스-2-데세노익산을 주입하기 위한 주입부를 구비하는 것을 특징으로 하는 분리막 수처리 장치
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