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탄소 입자체에 관한 것으로서,상기 탄소 입자체의 표면은 메조(meso) 기공 또는 매크로(macro) 기공을 포함하고,상기 탄소 입자체의 내부는 마이크로(micro) 기공 및 메조(meso) 기공을 포함하고,상기 탄소 입자체 표면의 메조 기공 또는 매크로 기공과, 내부의 마이크로 기공 및 메조 기공이 상호 연결된 계층적 다공성 탄소 네트워크를 형성하고 있는 것을 특징으로 하는, 탄소 입자체
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제1항에 있어서,상기 탄소 입자체는 히드록시기 함유 수지를 칼륨 양이온(K+)으로 이온 교환하고 탄화시켜 수득한 것을 특징으로 하는, 탄소 입자체
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제2항에 있어서,상기 히드록시기 함유 수지는 페놀 포름알데히드 수지(Phenol Formaldehyde Resin, PFR)인 것을 특징으로 하는, 탄소 입자체
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제1항에 있어서,라만 분광법에 따라 상기 탄소 입자체가 1300 내지 1400 cm-1에서 D밴드 피크를 나타내고, 1500 내지 1620 cm-1에서 G밴드 피크를 나타내며,상기 G밴드에 대한 D밴드의 강도비 D/G가 0
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제1항에 있어서,상기 탄소 입자체는 1000 내지 2000 m2/g의 BET 표면적을 나타내는 것을 특징으로 하는, 탄소 입자체
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제1항에 있어서,상기 탄소 입자체는 0
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제1항에 있어서,상기 마이크로 기공의 평균 크기는 0
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제1항에 있어서,상기 탄소 입자체는 구형인 것을 특징으로 하는, 탄소 입자체
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탄소 입자체를 제조하는 방법으로서,히드록시기 함유 수지를 준비하는 단계;칼륨 양이온(K+) 함유 수용액에 상기 히드록시기 함유 수지를 침지하여 이온 교환하는 단계; 및상기 이온 교환된 수지를 탄화하여 탄소 입자체를 수득하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는, 탄소 입자체를 제조하는 방법
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제9항에 있어서,상기 칼륨 양이온 함유 수용액은 K2CO3 수용액 또는 KOH 수용액인 것을 특징으로 하는, 탄소 입자체를 제조하는 방법
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제9항에 있어서,상기 이온 교환된 수지를 탄화하여 탄소 입자체를 수득하는 단계는,불활성 기체 하에서 700 내지 1100 ℃의 온도로 탄화하고, 세척하며, 건조하여 수득하는 것을 특징으로 하는, 탄소 입자체를 제조하는 방법
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제1항의 탄소 입자체를 포함하는, 이산화탄소 포집용 흡착제
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제12항에 있어서, 상기 이산화탄소 포집용 흡착제의 이산화탄소 흡착열이 40
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제12항에 있어서, 상기 이산화탄소 포집용 흡착제의, 헨리 상수(Henry's constant)에 의해 결정된 이상적인 CO2/N2 선택도는 40 내지 60인 것을 특징으로 하는, 이산화탄소 포집용 흡착제
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제12항에 있어서,상기 이산화탄소 포집용 흡착제는, 이산화탄소가 15 중량% 포함된 가스 기준으로, 선택적 이산화탄소 포집 능력이 4
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