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구조물에 장착된 적어도 2개의 센서들; 및 상기 센서들이 감지한 임펄스 신호를 이용하여 구조물에서의 누설 위치를 추정하는 프로세서를 포함하고,상기 프로세서는, 어느 하나의 센서가 누설된 위치에서 임펄스 신호가 2회 이상 연속해서 발생하는 임펄스 신호를 감지한 경우, 물리적으로 발생할 수 없는 임펄스 신호들을 제거한 후 제거된 임펄스 신호들 중에서 다른 센서가 감지한 임펄스 신호와 유사도가 가장 높은 하나의 임펄스 신호를 을 이용하여 선택한 후 상기 누설 위치를 추정하는 것을 특징으로 하는 누설 위치 추정장치
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제1 항에 있어서,상기 프로세서는, 상기 복수 개의 임펄스 신호 중 신호의 도달시간을 기준으로 물리적으로 발생할 수 없는 신호들을 제거하는 제1 필터부; 상기 제1 필터부에 의해 제거되고 남은 임펄스 신호들 중 상기 어느 하나의 센서가 감지한 제1 임펄스 신호의 패턴과 가장 유사도가 높은 제2 임펄스 신호를 상기 을 이용하여 선택하는 제2 필터부; 및상기 제1 임펄스 신호와 상기 제2 임펄스 신호를 이용하여 상기 누설 위치를 추정하는 추정부를 포함하는, 누설 위치 추정장치
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제1 항에 있어서,상기 센서는, 음향방출센서인, 누설 위치 추정장치
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구조물의 일 측에 장착되어 하나의 제1 임펄스 신호를 감지하는 제1 센서; 구조물의 타 측에 장착되어 누설된 위치에서 임펄스 신호가 2회 이상 연속해서 발생하는 임펄스 신호를 감지하는 제2 센서; 상기 제2 센서에 의한 임펄스 신호들 중 상기 구조물내에서 신호의 도달시간을 고려하여 물리적으로 발생할 수 없는 신호들을 제거하는 제1 필터부; 상기 제1 필터부에 의해 제거되고 남은 후보 임펄스 신호들 중 상기 제1 임펄스 신호의 패턴과 가장 유사도가 높은 제2 임펄스 신호를 을 이용하여 선택하는 제2 필터부; 및 상기 제1 임펄스 신호와 상기 제2 임펄스 신호를 이용하여 상기 누설 위치를 추정하는 추정부를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 누설 위치 추정장치
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제4 항에 있어서,상기 제1 필터부는, 식 |dt|003c#d/V을 만족하는 신호만 남기고 모두 제거하는, 누설 위치 추정장치
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제4 항에 있어서,상기 제1 센서 및 제2 센서는, 음향방출센서인, 누설 위치 추정장치
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구조물에 장착된 제1 센서가 제1 임펄스 신호를 감지하는 제1 감지단계; 구조물에 장착된 제2 센서가 누설된 위치에서 임펄스 신호가 2회 이상 연속해서 발생하는 임펄스 신호를 감지하는 제2 감지단계; 및 프로세서가 상기 2회 이상 연속해서 발생하는 임펄스 신호들 중 제1 필터링 단계 및 제2 필터링 단계를 통해 상기 제1 임펄스 신호와 유사도가 가장 높은 제2 임펄스 신호를 이용하여 누설 위치를 추정하는 추정단계를 포함하되,상기 제2 임펄스 신호는, 을 이용하여 선택하는 것을 특징으로 하는 누설 위치 추정방법
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제8 항에 있어서,상기 제1 필터링 단계는, 상기 복수 개의 임펄스 신호들 중 물리적으로 발생할 수 없는 신호들을 제거하는 것이고,상기 제2 필터링 단계는, 상기 제거되고 남은 적어도 2개의 임펄스 신호들 중 상기 을 이용하여 상기 제1 임펄스 신호와 유사도가 가장 큰 제2 임펄스 신호를 선택하는, 누설 위치 추정방법
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제9 항에 있어서,상기 제1 필터링 단계는, 식 |dt|003c#d/V을 만족하는 신호만 남기고 모두 제거하는, 누설 위치 추정방법
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