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플라즈마가 생성되는 공간을 형성하는 챔버와;상기 챔버의 내부에 수평방향으로 설치되고, 상면에 분말이 올려지도록 평평한 평판 형상으로 형성되며, 전원 인가시 플라즈마를 생성하여 상기 분말을 표면처리하여 기능화시키는 수평 전극과;상기 수평 전극의 하부에 진동을 가하여, 상기 수평 전극의 상면에서 상기 분말들끼리 위치가 서로 바뀌도록 하여 상기 분말들을 고르게 표면처리시키기 위한 진동 발생기를 포함하고,상기 진동 발생기는, 상기 수평 전극이 상하, 좌우, 회전 및 자이로 운동 중 적어도 하나가 가능하도록 진동을 가하여 상기 수평 전극의 상면에서 상기 분말들이 위치 이동하면서 고르게 분산되도록 하는 수평 전극을 이용한 분말 표면처리용 플라즈마 장치
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청구항 1에 있어서,상기 수평 전극은, 다수의 홀들이 형성된 다공성의 필터 전극을 포함하는 수평 전극을 이용한 분말 표면처리용 플라즈마 장치
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청구항 2에 있어서,상기 필터 전극의 내부 압력을 감소시켜, 상기 필터 전극의 상면에 상기 분말들을 흡착시키기 위한 흡착수단을 더 포함하는 수평 전극을 이용한 분말 표면처리용 플라즈마 장치
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청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,상기 진동 발생기는,상기 수평 전극에 연결되어, 전원 인가시 회전력에 의해 상기 수평 전극에 진동을 가하는 진동 모터를 포함하는 수평 전극을 이용한 분말 표면처리용 플라즈마 장치
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청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,상기 진동 발생기는,상기 수평 전극의 하부에 구비되고, 압축 공기에 의해 피스톤을 이동시켜 상기 수평 전극에 진동을 가하는 에어 노커(Air knocker)를 포함하는 수평 전극을 이용한 분말 표면처리용 플라즈마 장치
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청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,상기 진동 발생기는,상기 수평 전극의 하부에 구비되고, 전원 인가시 발생되는 전자기력을 이용하여 상기 수평 전극에 진동을 가하는 전자 해머를 포함하는 수평 전극을 이용한 분말 표면처리용 플라즈마 장치
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청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,상기 진동 발생기는,상기 수평 전극의 하부에 구비되고, 전원 인가시 발생되는 초음파를 이용하여 상기 수평 전극에 진동을 가하는 초음파 진동자를 포함하는 수평 전극을 이용한 분말 표면처리용 플라즈마 장치
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청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,상기 진동 발생기는, 상기 수평 전극의 하부에 연결부재에 의해 연결되고, 음향을 발생시키고 공명시켜 상기 수평 전극에 음향 진동을 가하는 음향 진동 모듈을 포함하는 수평 전극을 이용한 분말 표면처리용 플라즈마 장치
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청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,상기 수평 전극은,복수개가 상하방향으로 서로 이격되게 적층되어 배치된 수평 전극을 이용한 분말 표면처리용 플라즈마 장치
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청구항 1에 있어서,상기 수평 전극의 상면에 상기 분말을 공급하는 분말 공급부를 포함하고,상기 분말 공급부로부터 공급되는 상기 분말의 양에 따라 상기 진동 발생기의 진동 강도를 제어하는 제어부를 더 포함하는 수평 전극을 이용한 분말 표면처리용 플라즈마 장치
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