1 |
1
측정 공간에 존재하는 대상 가스를 분석하는 레이저 흡수 분광 분석 장치로서,광대역 광을 조사하는 광원;상기 광대역 광 중 적어도 일부를 집광하여 상기 측정 공간에 도입하는 제1 광학부;상기 측정 공간을 통과한 상기 광대역 광 중 적어도 일부를 집광하는 제2 광학부;상기 제2 광학부에 의해 집광된 상기 광대역 광을 통과시키는 적어도 하나의 광섬유를 포함하는 광섬유 블록;상기 광섬유를 통과한 상기 광대역 광을 분광시키는 영상 분광기;상기 영상 분광기에 의해 분광된 상기 광대역 광의 스펙트럼을 검출하는 이미지 센서; 및상기 스펙트럼에서 상기 대상 가스가 흡수한 파장을 검출하여 상기 대상 가스를 분석하는 분석부를 포함하는 레이저 흡수 분광 분석 장치
|
2 |
2
제 1 항에 있어서,상기 광섬유 블록은상기 광원에서 조사된 상기 광대역 광 중 일부를 그대로 통과시키는 기준 광섬유를 더 포함하는레이저 흡수 분광 분석 장치
|
3 |
3
제 2 항에 있어서,상기 영상 분광기는상기 기준 광섬유를 통과한 상기 광대역 광을 분광시키는레이저 흡수 분광 분석 장치
|
4 |
4
제 3 항에 있어서,상기 분석부는상기 광섬유를 통과한 상기 광대역 광과 상기 기준 광섬유를 통과한 상기 광대역 광의 스펙트럼을 비교하여 상기 대상 가스를 분석하는레이저 흡수 분광 분석 장치
|
5 |
5
제 1 항에 있어서,상기 광섬유는복수 개로 구비되어, 상기 측정 공간에 대해 복수의 방향으로 통과하거나, 서로 다른 가스 공간에 배치된 상기 광대역 광을 입력 받는레이저 흡수 분광 분석 장치
|
6 |
6
제 1 항에 있어서,상기 측정 공간을 통과한 상기 광대역 광의 위치를 검출하는 위치 검출부; 및상기 광대역 광의 위치를 기초로 상기 제2 광학부의 위치를 정렬하는 위치 정렬부를 더 포함하는 레이저 흡수 분광 분석 장치
|
7 |
7
제 6 항에 있어서,상기 위치 검출부는상기 측정 공간을 통과한 상기 광대역 광의 일부를 수신하는 수광부; 및상기 수광부의 전압을 측정하여 전압 신호를 발생하는 전압 발생부를 포함하는레이저 흡수 분광 분석 장치
|
8 |
8
제 7 항에 있어서,상기 위치 검출부는상기 수광부에 수신된 상기 광대역 광의 위치에 따라 달라지는 상기 수광부의 전압을 기초로 상기 광대역 광의 위치를 검출하는레이저 흡수 분광 분석 장치
|
9 |
9
제 8 항에 있어서,상기 전압 발생부는상기 수광부의 중심에서 제1 방향으로 서로 마주보는 지점의 제1 및 제2 전압을 측정하고, 상기 수광부의 중심에서 상기 제1 방향과 수직인 제2 방향으로 서로 마주보는 지점의 제3 및 제4 전압을 측정하는레이저 흡수 분광 분석 장치
|
10 |
10
제 9 항에 있어서,상기 위치 검출부는상기 제1 및 제2 전압의 차이와 상기 제3 및 제4 전압의 차이를 기초로 상기 제2 광학부의 위치를 정렬하기 위한 제어 신호를 생성하고, 상기 제어 신호를 상기 위치 정렬부에 송신하는레이저 흡수 분광 분석 장치
|