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기계적인 힘에 선택적으로 감응하는 아지리딘 고분자

  • 기술번호 : KST2022023055
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 기계적 힘에 선택적으로 감응하는 아지리딘 유도체의 메카노포어 구조체 및 이를 포함하는 고분자에 관한 것으로서, 아지리딘 유도체 화합물을 메카노포어로 사용하여 기계적인 힘과 열 자극에 각각 반응을 진행할 경우, 기계적인 힘에 선택적으로 아지리딘의 공유 결합이 끊어짐으로써, 기계적인 힘에만 선택적으로 감응할 수 있는 아지리딘이 존재하는 것을 밝힌 바, 본 발명에 따르면, 기계적인 힘에만 선택적으로 감응하는 메카노포어를 내포한 고분자를 제조할 수 있는바, 신소재 분야 등 다양한 산업 분야에서 널리 활용될 수 있다.
Int. CL C08G 61/12 (2006.01.01)
CPC C08G 61/12(2013.01) C08G 2261/3221(2013.01) C08G 2261/418(2013.01)
출원번호/일자 1020220063950 (2022.05.25)
출원인 고려대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2022-0160501 (2022.12.06) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020210068357   |   2021.05.27
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2022.05.25)
심사청구항수 9

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 고려대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 윤효재 서울특별시 광진구
2 정상민 대전광역시 대덕구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 정은열 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길 **, ***호(정앤김특허법률사무소)
2 김태훈 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길 **, ***호(정앤김특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2022.05.25 수리 (Accepted) 1-1-2022-0552042-17
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2022.09.15 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
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번호 청구항
1 1
하기 [화학식 1]로 표시되고, 열 (heat) 또는 광 (light) 조건에서는 반응하지 않고, 기계적 힘에 선택적으로 반응하는 메카노포어 구조체:[화학식 1]상기 [화학식 1]에서, R은 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소, 할로겐기 또는 아릴기이다
2 2
제1항에 있어서,상기 메카노포어 구조체는 기계적 힘에 선택적으로 반응하여 상기 [화학식 1] 내의 아지리딘의 C-C 공유 결합이 끊어지는 것을 특징으로 하는 메카노포어 구조체
3 3
제1항에 있어서,상기 기계적 힘은 초음파 처리인 것을 특징으로 하는 메카노포어 구조체
4 4
제1항에 있어서,상기 [화학식 1]은 하기 [구조식 1]로 표시되는 구조체 중에서 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 메카노포어 구조체:[구조식 1]
5 5
하기 [화학식 1-1] 또는 [화학식 1-2]로 표시되는 반복 단위를 포함하는 고분자 화합물:[화학식 1-1][화학식 1-2]상기 [화학식 1-1] 내지 [화학식 1-2]에서,R은 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소, 할로겐기 또는 아릴기이며,m은 199 내지 203의 정수이다
6 6
제5항에 있어서,상기 고분자 화합물은 기계적인 힘에 의해서 [화학식 1-1] 또는 [화학식 1-2] 내의 아지리딘의 C-C 공유 결합이 끊어지면서 고리 개환 반응 통하여 이민 (Imine) 유도체가 생성되는 것을 특징으로 하는 고분자 화합물
7 7
하기 [화학식 1-1] 및 [화학식 1-2]로 표시되는 반복 단위 중 어느 하나와; 하기 [화학식 1-3]으로 표시되는 반복 단위를 포함하는 고분자 화합물:[화학식 1-1][화학식 1-2][화학식 1-3]상기 [화학식 1-1] 내지 [화학식 1-2]에서,R은 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소, 할로겐기 또는 아릴기이며,m은 199 내지 203의 정수이고, n은 199 내지 203의 정수이다
8 8
제7항에 있어서,상기 고분자 화합물은 기계적인 힘에 의해서 [화학식 1-1] 또는 [화학식 1-2] 내의 아지리딘의 C-C 공유 결합이 끊어지면서 고리 개환 반응 통하여 이민 (Imine) 유도체가 생성되는 것을 특징으로 하는 고분자 화합물
9 9
제7항에 있어서,상기 고분자 화합물은 하기 [화학식 1-4]로 표시되는 것을 특징으로 하는 고분자 화합물:[화학식 1-4]상기 [화학식 1-4]에서, m은 199 내지 203의 정수이고, n은 199 내지 203의 정수이다
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 교육부 고려대학교 이공학학술연구기반구축(R&D) 기초과학연구소(π- 전자 기반 에너지·환경 혁신소재 연구)
2 교육부 고려대학교 개인기초연구(교육부)(R&D) Chemical-free, Moisture-induced, Piezo-chemical 헤테로고리화합물 개환반응 및 이를 통한 신개념 표면 물성 제어 방법론 연구
3 과학기술정보통신부 고려대학교 개인기초연구(과기정통부)(R&D) 표면 초분자 화학을 통한 Stark Effect 이해 및 제어
4 과학기술정보통신부 고려대학교 차세대지능형반도체기술개발(R&D) 전례 없는 다이오드 및 메모리: 개별 분자에 기반한 양방향성 다이오드 그리고 아발란치 메모리