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도전성 박막;도전성 박막의 적어도 일면을 지지하는 것으로서, 탄성기재에 자성입자가 함유된 자기유변탄성체로 이루어진 지지부재를 포함하는 스트레인 게이지
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제1항에 있어서,상기 자기유변탄성체는 탄성기재의 내부에 다수의 기공이 형성된 다공성 자기유변탄성체인 것을 특징으로 하는 스트레인 게이지
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제1항에 있어서,상기 도전성 박막은 상하로 배치된 제1 도전성 박막과 제2 도전성 박막을 포함하는 것을 특징으로 하는 스트레인 게이지
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제3항에 있어서,상기 제1 도전성 박막과 상기 제2 도전성 박막은 각각 별도의 전선을 통해 감지회로에 연결되는 것을 특징으로 하는 스트레인 게이지
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제3항에 있어서,상기 제1 도전성 박막과 상기 제2 도전성 박막은 감지회로와 연결되는 두 지점의 사이에서 서로 병렬로 연결되는 것을 특징으로 하는 스트레인 게이지
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제3항에 있어서,상기 제1 도전성 박막과 상기 제2 도전성 박막은 감지회로와 연결되는 두 지점의 사이에서 서로 직렬로 연결되는 것을 특징으로 하는 스트레인 게이지
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도전성 박막과, 도전성 박막의 적어도 일면을 지지하는 것으로서 탄성기재에 자성입자가 함유된 자기유변탄성체로 이루어진 지지부재를 포함하는 스트레인 게이지;스트레인 게이지와 연결된 감지회로;감지회로에 구동전원을 공급하는 전원공급부;감지회로의 전기적 특성 변화를 검출하는 감지부;스트레인 게이지의 지지부재의 강성을 조절하기 위하여 전원공급부의 출력을 제어하는 제어부를 포함하는 감지 장치
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제7항에 있어서,상기 자기유변탄성체는 탄성기재의 내부에 다수의 기공이 형성된 다공성 자기유변탄성체인 것을 특징으로 하는 감지 장치
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제7항에 있어서, 상기 스트레인 게이지는 상하로 배치된 제1 도전성 박막과 제2 도전성 박막을 포함하고, 상기 지지부재는 상기 제1 도전성 박막을 둘러싼 상태에서 상기 제2 도전성 박막의 적어도 일면을 지지하며, 상기 감지회로는 휘스톤 브릿지 회로이고,상기 제1 도전성 박막과 상기 제2 도전성 박막은 각각 상기 휘스톤 브릿지 회로를 구성하는 제1 저항과 제2 저항인 것을 특징으로 하는 감지 장치
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