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지지체(210); 상기 지지체(210)의 표면에 적층되며 다공성 구조를 갖는 p-형 반도체 혼합층(220); 및상기 p-형 반도체 혼합층(220)의 표면에 적층되는 적어도 1단인 보호층(301 내지 303);을 포함하는 광전기 분해를 위한 3중 접합 다공성 광음극
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제 1 항에 있어서,상기 지지체(210)의 재질은 FTO( Fluorine doped tin oxide) 유리, Cu 호일(foil), Ti 호일, ITO(Indium tin oxide) 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 광전기 분해를 위한 3중 접합 다공성 광음극
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제 1 항에 있어서,상기 p-형 반도체 혼합층(220)은 CuO와 CuFeO2, Cu2O와 CuFe2O4, 및 Cu2O와 NiFe2O4 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 3중 접합 다공성 광음극
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제 1 항에 있어서,상기 p-형 반도체 혼합층(220)의 두께는 4μm 내지 8μm인 것을 특징으로 하는 광전기 분해를 위한 3중 접합 다공성 광음극
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제 1 항에 있어서,상기 보호층(301 내지 303) 중 1단의 두께는 0
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제 1 항에 있어서,상기 보호층(301 내지 303)의 재질은 TiO2 또는 NiO인 것을 특징으로 하는 광전기 분해를 위한 3중 접합 다공성 광음극
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(a) 준비된 지지체(210)를 에탄올에 넣고 제 1 일정 시간 동안 1차 세척을 실행하는 단계;(b) 상기 1차 세척후 상기 지지체(210)를 1차 증류수로 2차 세척을 실행하는 단계;(c) 1차 혼합 용액을 상기 지지체(210)에 전착시켜 다공성 구조를 갖는 p-형 반도체 혼합층(220)을 형성하는 단계; 및(d) 상기 p-형 반도체 혼합층(220)의 표면상에 2차 혼합 용액을 로딩하여 적어도 1단인 보호층(301 내지 303)을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 3중 접합 다공성 광음극의 제조 방법
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제 7 항에 있어서,상기 제 1 일정 시간은 10분인 것을 특징으로 하는 3중 접합 다공성 광음극의 제조 방법
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제 7 항에 있어서,상기 1차 혼합 용액은 KClO4 50mM, Cu(NO3)2·3H2O 4mM, Fe(ClO4)3·H2O 12mM 및 2차 증류수로 구성되며, 상기 2차 증류수의 비저항값은 18MΩ
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제 7 항에 있어서,상기 전착은 크로노 암페로 메트리(chronoamperomety) 방식을 이용해 SCE전극이 갖고있는 전압 대비 -0
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제 7 항에 있어서,상기 전착시 상기 지지체(210)는 100rpm(revolutions per minute)으로 스티어링되는 것을 특징으로 하는 3중 접합 다공성 광음극의 제조 방법
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제 11 항에 있어서,상기 (c) 단계는, 상기 전착후, 상온에서 상기 지지체(210)를 건조하는 단계; 및상기 건조후, 공기중에서 상기 지지체(210)를 650℃로 소결하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 3중 접합 다공성 광음극의 제조 방법
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제 7 항에 있어서,상기 2차 혼합 용액은 C12H28O4Ti(Titanium(IV) isopropoxide) 0
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제 13 항에 있어서,상기 (d) 단계는, 상기 2차 혼합 용액의 로딩전에 상기 지지체(210)를 400rpm으로 10분간 스티어링하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 3중 접합 다공성 광음극의 제조 방법
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제 13 항에 있어서,상기 로딩하는 로딩양은 cm2 당 60μL(L은 리터이다)인 것을 특징으로 하는 3중 접합 다공성 광음극의 제조 방법
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제 7 항에 있어서,스핀코터를 이용하여 상기 지지체(210)를 공기중에서 2000rpm으로 15초간 회전시킴으로써 상기 2차 혼합 용액은 p-형 반도체 혼합층(220)의 상기 표면상에 도포되는 것을 특징으로 하는 3중 접합 다공성 광음극의 제조 방법
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제 7 항에 있어서,상기 (d) 단계는,상기 지지체(210)를 공기중에서 2시간 동안 500℃로 소결하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 3중 접합 다공성 광음극의 제조 방법
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