| 1 |
1
화학식 1 또는 화학식 2로 나타내는 구조를 갖는, 근적외선 흡수 특성을 갖는 프탈로시아닌계 화합물:[화학식 1][화학식 2]상기 화학식 1 및 화학식 2에서,n은 1 내지 20 의 정수이고,A1 내지 A8은 각각 독립적으로 O, N, S 중에서 선택된 어느 하나이고,R1 내지 R8은 각각 독립적으로 폴리에틸렌글리콜, 수평균 분자량 100 내지 2000 의 탄화수소기, 치환 또는 비치환된 페닐기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 12의 헤테로 방향족 고리기 중에서 선택된 어느 하나이고,Ra 내지 Rh는 각각 독립적으로 수소(H), *-OR, *-NR, *-SR 중에서 선택된 어느 하나이고, 상기 R은 폴리에틸렌글리콜, 수평균 분자량 100 내지 2000 의 탄화수소기, 치환 또는 비치환된 페닐기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 12의 헤테로 방향족 고리기 중에서 선택된 어느 하나이고,X-는 대이온을 나타낸다
|
| 2 |
2
제1항에 있어서,상기 화학식 1에서,상기 n은 3 내지 10의 정수인 것을 특징으로 하는, 근적외선 흡수 특성을 갖는 프탈로시아닌계 화합물
|
| 3 |
3
제1항에 있어서,상기 A1 내지 A8은 S 이고,상기 R1 내지 R8은 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 10의 알킬기이고,상기 Ra 내지 Rh는 수소인 것을 특징으로 하는, 근적외선 흡수 특성을 갖는 프탈로시아닌계 화합물
|
| 4 |
4
제1항에 있어서,하기 화학식 1-1 또는 2-1로 나타내는 구조를 갖는, 근적외선 흡수 특성을 갖는 프탈로시아닌계 화합물:[화학식 1-1][화학식 2-1]상기 화학식 1-1 및 화학식 2-1에서,n은 1 내지 20 의 정수이고, X- 는 대이온이다
|
| 5 |
5
제1항에 있어서,상기 X- 는 F-, Cl-, Br-, I-, CF3SO3-, PhSO3-, (4-CH3)PHSO3-, (4-C12H25)PhSO3-, CF3CO2-, BF4-, PF6-, N(SO2CF3)- 중에서 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는, 근적외선 흡수 특성을 갖는 프탈로시아닌계 화합물
|
| 6 |
6
제1항에 있어서,상기 R1 내지 R8, 및 Ra 내지 Rh는 각각 독립적으로 불포화 이중결합을 포함하는 비닐기, 글리시딜기 및 하이드록시기 중에서 선택된 치환기를 말단에 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는, 근적외선 흡수 특성을 갖는 프탈로시아닌계 화합물
|
| 7 |
7
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 따른 프탈로시아닌계 화합물을 전체 중량 대비 0
|
| 8 |
8
제7항에 있어서,상기 근적외선 흡수 코팅 조성물은 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 벤젠, 톨루엔, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸 아세테이트, 에틸 아세테이트, 디메틸포름아마이드(DMF), 다이메틸 설폭사이드(DMSO), 에틸 카보네이트, 프로필렌 카보네이트, 디클로로메탄(DCM) 및 물 중에서 선택된 하나 이상의 용매를 포함하는 것을 특징으로 하는, 근적외선 흡수 코팅 조성물
|
| 9 |
9
제7항에 따른 근적외선 흡수 코팅 조성물을 기재에 코팅하여 열건조 및 경화시킴을 포함하는, 근적외선 흡수성 필름 제조 방법
|
| 10 |
10
제9항에 있어서,상기 기재는 종이, 유리, PET, PVC, PE, PP, PMMA 및 EVA 중에서 선택된 어느 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는, 근적외선 흡수성 필름 제조 방법
|
