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홀로그램 획득 장치 및 시스템

  • 기술번호 : KST2022023639
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 홀로그램 획득 장치 및 시스템이 개시된다. 상기 홀로그램 획득 장치는, 대상물로부터 출사한 광을 서로 상이한 상태의 편광을 갖는 제 1 및 제 2 빔으로 분할하는 빔 스플리터(beam splitter) 모듈; 및 상기 빔 스플리터 모듈의 일측에 배치되며 상기 제 1 빔을 수신하여 상기 빔 스플리터 모듈로 출사하는 제 1 반사 광학 소자, 및 상기 빔 스플리터 모듈의 타측에 배치되며 상기 제 2 빔을 수신하여 상기 제 1 빔과의 광경로(optical path) 및 파면(wavefront)의 차이를 갖도록 상기 제 2 빔을 상기 빔 스플리터 모듈로 출사하는 제 2 반사 광학 소자를 구비하는 광 제어 모듈을 포함한다. 상기 빔 스플리터 모듈, 상기 제 1 및 제 2 반사 광학 소자는 상호 고정되어 일체로(monolithic) 설치된다.
Int. CL G03H 1/04 (2006.01.01) G02B 27/10 (2006.01.01)
CPC G03H 1/041(2013.01) G02B 27/1006(2013.01) G03H 2223/20(2013.01) G03H 2223/22(2013.01) G03H 2223/24(2013.01)
출원번호/일자 1020220061957 (2022.05.20)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2022-0167215 (2022.12.20) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020210076049   |   2021.06.11
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2022.05.20)
심사청구항수 18

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 홍기훈 대전광역시 유성구
2 최기홍 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이철희 대한민국 서울특별시 강남구 도곡로**길 **(역삼동) 베리타스빌딩, *-*층(베리타스국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2022.05.20 수리 (Accepted) 1-1-2022-0535276-39
2 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2022.11.07 수리 (Accepted) 1-1-2022-1180038-87
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번호 청구항
1 1
대상물로부터 출사한 광을 서로 상이한 상태의 편광을 갖는 제 1 및 제 2 빔으로 분할하는 빔 스플리터(beam splitter) 모듈; 및 상기 빔 스플리터 모듈의 일측에 배치되며 상기 제 1 빔을 수신하여 상기 빔 스플리터 모듈로 출사하는 제 1 반사 광학 소자, 및 상기 빔 스플리터 모듈의 타측에 배치되며 상기 제 2 빔을 수신하여 상기 제 1 빔과의 광경로(optical path) 및 파면(wavefront)의 차이를 갖도록 상기 제 2 빔을 상기 빔 스플리터 모듈로 출사하는 제 2 반사 광학 소자를 구비하는 광 제어 모듈을 포함하되, 상기 빔 스플리터 모듈, 상기 제 1 및 제 2 반사 광학 소자는 상호 고정되어 일체로(monolithic) 설치되는 홀로그램 획득 장치
2 2
제 1 항에 있어서,상기 제 1 및 제 2 반사 광학 소자는 평면, 볼록, 오목, 자유 곡면 및 산란 반사면 중 어느 하나 형태의 반사 광학면을 갖거나, 회절 광학 소자로 구성되는, 홀로그램 획득 장치
3 3
제 1 항에 있어서,상기 광경로의 차이를 갖도록, 상기 빔 스플리터에 대하여, 상기 제 1 및 제 2 반사 광학 소자까지의 각 광경로에서 서로 상이한 굴절율을 갖거나, 각 광경로에서 서로 상이한 오프셋 거리를 갖는, 홀로그램 획득 장치
4 4
제 1 항에 있어서,상기 제 1 빔 및 상기 제 2 빔은 서로 상이한 각도의 선형 편광인, 홀로그램 획득 장치
5 5
제 4항에 있어서,상기 제 1 반사 광학 소자 및 상기 빔 스플리터 사이에 일체화되도록 결합되는 제 1 사분파장판(quarter wave plate); 및상기 제 2 반사 광학 소자 및 상기 빔 스플리터 사이에 일체화되도록 결합되는 제 2 사분파장판을 더 포함하고, 상기 빔 스플리터로부터 출사된 상기 제 1 및 제 2 빔이 상기 제 1 및 제 2 사분파장판으로 입사되어 서로 상이한 상태의 원형 편광으로 출력되고, 상기 원형 편광을 갖는 상기 제 1 및 제 2 빔은 상기 제 1 및 제 2 반사 광학 소자에서 반사되어 파면 변조되며, 상기 파면 변조된 제 1 및 제 2 빔은 상기 제 1 및 제 2 사분파장판으로 재입사되어 선형 평광으로 출력되는, 홀로그램 획득 장치
6 6
제 4 항에 있어서,상기 빔 스플리터 모듈은 광경로 및 파면의 차이를 갖는 상기 제 1 빔 및 상기 제 2 빔을 결합시키고(combine), 상기 결합된 제 1 및 제 2 빔을 상기 빔 스플리터 모듈 외측에 위치된 이미지 생성 장치로 출사하되, 상기 이미지 생성 장치와 상기 빔 스플리터 모듈 사이에 배치됨과 아울러서, 상기 빔 스플리터 모듈에 일체화되도록 결합되는 편광 제어 소자를 더 포함하고, 상기 편광 제어 소자는 상기 이미지 생성 장치에서 수행되는 위상 천이 처리(phase shifting process)에 적용되도록, 상기 선형 편광을 소정 형태(form)의 편광으로 변형하여 출력시키는, 홀로그램 획득 장치
7 7
대상물로부터 출사한 광을 수신하는 빔 스플리터 모듈; 및 상기 빔 스플리터 모듈과 결합되며, 상기 빔 스플리터 모듈로부터 출사된 광에서 소정 상태의 편광을 갖는 제 3 빔을 상기 빔 스플리터 모듈로 반사하며, 상기 제 3 빔과 상이한 상태의 편광을 갖는 제 4 빔을 선택적으로 투과시키는 제 3 반사 광학 소자, 및 상기 제 3 반사 광학 소자와 결합되며, 상기 제 3 빔과의 광경로 및 상기 파면의 차이를 갖도록, 상기 제 4 빔을 수신하여, 상기 제 3 반사 광학 소자를 통해 상기 빔 스플리터 모듈로 출사하는 제 4 반사 광학 소자를 구비하는 광 제어 모듈을 포함하되, 상기 빔 스플리터 모듈, 상기 제 3 및 제 4 반사 광학 소자는 상호 고정되어 일체로 설치되는 홀로그램 획득 장치
8 8
제 7 항에 있어서,상기 제 3 및 제 4 반사 광학 소자는 평면, 볼록, 오목, 자유 곡면 및 산란 반사면 중 어느 하나 형태의 반사 광학면을 갖거나, 회절 광학 소자로 구성되는, 홀로그램 획득 장치
9 9
제 7 항에 있어서,상기 제 3 및 제 4 반사 광학 소자는 동일한 광축을 갖도록 배열되는, 홀로그램 획득 장치
10 10
제 7 항에 있어서,상기 광경로의 차이를 갖도록, 상기 빔 스플리터에 대하여, 상기 제 3 및 제 4 반사 광학 소자까지의 각 광경로에서 서로 상이한 굴절율을 갖거나, 각 광경로에서 서로 상이한 오프셋 거리를 갖는, 홀로그램 획득 장치
11 11
제 7 항에 있어서,상기 제 3 빔 및 상기 제 4 빔은 서로 상이한 각도의 선형 편광인, 홀로그램 획득 장치
12 12
제 11 항에 있어서,상기 빔 스플리터 모듈은 광경로 및 파면의 차이를 갖는 상기 제 3 빔 및 상기 제 4 빔을 결합시키고, 상기 결합된 제 3 및 제 4 빔을 상기 빔 스플리터 모듈 외측에 위치된 이미지 생성 장치로 출사하되, 상기 이미지 생성 장치와 상기 빔 스플리터 모듈 사이에 배치됨과 아울러서, 상기 빔 스플리터 모듈에 일체화되도록 결합되는 편광 제어 소자를 더 포함하고, 상기 편광 제어 소자는 상기 이미지 생성 장치에서 수행되는 위상 천이 처리에 적용되도록, 상기 선형 편광을 소정 형태의 편광으로 변형하여 출력시키는, 홀로그램 획득 장치
13 13
빔 스플리터 모듈 및 광 제어 모듈을 구비하는 홀로그램 획득 장치; 및 상기 홀로그램 획득 장치로부터 생성되는 간섭 무늬를 수신하여 홀로그램 이미지를 생성하는 이미지 생성 장치를 포함하되, 상기 빔 스플리터 모듈은 대상물로부터 출사한 광을 서로 상이한 상태의 편광을 갖는 제 1 및 제 2 빔으로 분할하며, 상기 광 제어 모듈은, 상기 빔 스플리터 모듈의 일측에 배치되며 상기 제 1 빔을 수신하여 상기 빔 스플리터 모듈로 출사하는 제 1 반사 광학 소자, 및 상기 빔 스플리터 모듈의 타측에 배치되며 상기 제 2 빔을 수신하여 상기 제 1 빔과의 광경로 및 파면의 차이를 갖도록 상기 제 2 빔을 상기 빔 스플리터 모듈로 출사하는 제 2 반사 광학 소자를 구비하고, 상기 빔 스플리터 모듈, 상기 제 1 및 제 2 반사 광학 소자는 상호 고정되어 일체로 설치되는 홀로그램 획득 시스템
14 14
제 13 항에 있어서,상기 이미지 생성 장치는 상기 간섭 무늬에 대해 위상 천이 처리하며, 상기 위상 천이된 간섭 무늬를 이용하여 상기 홀로그램 이미지를 취득하는 편광 이미지 센서를 포함하는, 홀로그램 획득 시스템
15 15
제 13 항에 있어서,상기 제 1 및 제 2 반사 광학 소자는 상기 광경로의 차이를 갖도록, 상기 빔 스플리터에 대하여, 상기 제 1 및 제 2 반사 광학 소자까지의 각 광경로에서 서로 상이한 굴절율을 갖거나, 각 광경로에서 서로 상이한 오프셋 거리를 갖는, 홀로그램 획득 시스템
16 16
제 13 항에 있어서,상기 제 1 빔 및 상기 제 2 빔은 서로 상이한 각도의 선형 편광인, 홀로그램 획득 시스템
17 17
제 16 항에 있어서,상기 제 1 반사 광학 소자 및 상기 빔 스플리터 사이에 일체화되도록 결합되는 제 1 사분파장판; 및상기 제 2 반사 광학 소자 및 상기 빔 스플리터 사이에 일체화되도록 결합되는 제 2 사분파장판을 더 포함하고, 상기 빔 스플리터로부터 출사된 상기 제 1 및 제 2 빔이 상기 제 1 및 제 2 사분파장판으로 입사되어 서로 상이한 상태의 원형 편광으로 출력되고, 상기 원형 편광을 갖는 상기 제 1 및 제 2 빔은 상기 제 1 및 제 2 반사 광학 소자에서 반사되어 파면 변조되며, 상기 파면 변조된 제 1 및 제 2 빔은 상기 제 1 및 제 2 사분파장판으로 재입사되어 선형 평광으로 출력되는, 홀로그램 획득 시스템
18 18
제 16 항에 있어서,상기 빔 스플리터 모듈은 광경로 및 파면의 차이를 갖는 상기 제 1 빔 및 상기 제 2 빔을 결합시키고, 상기 결합된 제 1 및 제 2 빔을 상기 이미지 생성 장치로 출사하되, 상기 이미지 생성 장치와 상기 빔 스플리터 모듈 사이에 배치됨과 아울러서, 상기 빔 스플리터 모듈에 일체화되도록 결합되는 편광 제어 소자를 더 포함하고, 상기 편광 제어 소자는 상기 이미지 생성 장치에서 수행되는 위상 천이 처리에 적용되도록, 상기 선형 편광을 소정 형태의 편광으로 변형하여 출력시키는, 홀로그램 획득 시스템
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 과학기술정보통신부 ETRI ETRI연구개발지원사업 [전문연구실] 홀로그램 영상 서비스를 위한 Holo-TV 핵심 기술 개발