1 |
1
대상물로부터 출사한 광을 서로 상이한 상태의 편광을 갖는 제 1 및 제 2 빔으로 분할하는 빔 스플리터(beam splitter) 모듈; 및 상기 빔 스플리터 모듈의 일측에 배치되며 상기 제 1 빔을 수신하여 상기 빔 스플리터 모듈로 출사하는 제 1 반사 광학 소자, 및 상기 빔 스플리터 모듈의 타측에 배치되며 상기 제 2 빔을 수신하여 상기 제 1 빔과의 광경로(optical path) 및 파면(wavefront)의 차이를 갖도록 상기 제 2 빔을 상기 빔 스플리터 모듈로 출사하는 제 2 반사 광학 소자를 구비하는 광 제어 모듈을 포함하되, 상기 빔 스플리터 모듈, 상기 제 1 및 제 2 반사 광학 소자는 상호 고정되어 일체로(monolithic) 설치되는 홀로그램 획득 장치
|
2 |
2
제 1 항에 있어서,상기 제 1 및 제 2 반사 광학 소자는 평면, 볼록, 오목, 자유 곡면 및 산란 반사면 중 어느 하나 형태의 반사 광학면을 갖거나, 회절 광학 소자로 구성되는, 홀로그램 획득 장치
|
3 |
3
제 1 항에 있어서,상기 광경로의 차이를 갖도록, 상기 빔 스플리터에 대하여, 상기 제 1 및 제 2 반사 광학 소자까지의 각 광경로에서 서로 상이한 굴절율을 갖거나, 각 광경로에서 서로 상이한 오프셋 거리를 갖는, 홀로그램 획득 장치
|
4 |
4
제 1 항에 있어서,상기 제 1 빔 및 상기 제 2 빔은 서로 상이한 각도의 선형 편광인, 홀로그램 획득 장치
|
5 |
5
제 4항에 있어서,상기 제 1 반사 광학 소자 및 상기 빔 스플리터 사이에 일체화되도록 결합되는 제 1 사분파장판(quarter wave plate); 및상기 제 2 반사 광학 소자 및 상기 빔 스플리터 사이에 일체화되도록 결합되는 제 2 사분파장판을 더 포함하고, 상기 빔 스플리터로부터 출사된 상기 제 1 및 제 2 빔이 상기 제 1 및 제 2 사분파장판으로 입사되어 서로 상이한 상태의 원형 편광으로 출력되고, 상기 원형 편광을 갖는 상기 제 1 및 제 2 빔은 상기 제 1 및 제 2 반사 광학 소자에서 반사되어 파면 변조되며, 상기 파면 변조된 제 1 및 제 2 빔은 상기 제 1 및 제 2 사분파장판으로 재입사되어 선형 평광으로 출력되는, 홀로그램 획득 장치
|
6 |
6
제 4 항에 있어서,상기 빔 스플리터 모듈은 광경로 및 파면의 차이를 갖는 상기 제 1 빔 및 상기 제 2 빔을 결합시키고(combine), 상기 결합된 제 1 및 제 2 빔을 상기 빔 스플리터 모듈 외측에 위치된 이미지 생성 장치로 출사하되, 상기 이미지 생성 장치와 상기 빔 스플리터 모듈 사이에 배치됨과 아울러서, 상기 빔 스플리터 모듈에 일체화되도록 결합되는 편광 제어 소자를 더 포함하고, 상기 편광 제어 소자는 상기 이미지 생성 장치에서 수행되는 위상 천이 처리(phase shifting process)에 적용되도록, 상기 선형 편광을 소정 형태(form)의 편광으로 변형하여 출력시키는, 홀로그램 획득 장치
|
7 |
7
대상물로부터 출사한 광을 수신하는 빔 스플리터 모듈; 및 상기 빔 스플리터 모듈과 결합되며, 상기 빔 스플리터 모듈로부터 출사된 광에서 소정 상태의 편광을 갖는 제 3 빔을 상기 빔 스플리터 모듈로 반사하며, 상기 제 3 빔과 상이한 상태의 편광을 갖는 제 4 빔을 선택적으로 투과시키는 제 3 반사 광학 소자, 및 상기 제 3 반사 광학 소자와 결합되며, 상기 제 3 빔과의 광경로 및 상기 파면의 차이를 갖도록, 상기 제 4 빔을 수신하여, 상기 제 3 반사 광학 소자를 통해 상기 빔 스플리터 모듈로 출사하는 제 4 반사 광학 소자를 구비하는 광 제어 모듈을 포함하되, 상기 빔 스플리터 모듈, 상기 제 3 및 제 4 반사 광학 소자는 상호 고정되어 일체로 설치되는 홀로그램 획득 장치
|
8 |
8
제 7 항에 있어서,상기 제 3 및 제 4 반사 광학 소자는 평면, 볼록, 오목, 자유 곡면 및 산란 반사면 중 어느 하나 형태의 반사 광학면을 갖거나, 회절 광학 소자로 구성되는, 홀로그램 획득 장치
|
9 |
9
제 7 항에 있어서,상기 제 3 및 제 4 반사 광학 소자는 동일한 광축을 갖도록 배열되는, 홀로그램 획득 장치
|
10 |
10
제 7 항에 있어서,상기 광경로의 차이를 갖도록, 상기 빔 스플리터에 대하여, 상기 제 3 및 제 4 반사 광학 소자까지의 각 광경로에서 서로 상이한 굴절율을 갖거나, 각 광경로에서 서로 상이한 오프셋 거리를 갖는, 홀로그램 획득 장치
|
11 |
11
제 7 항에 있어서,상기 제 3 빔 및 상기 제 4 빔은 서로 상이한 각도의 선형 편광인, 홀로그램 획득 장치
|
12 |
12
제 11 항에 있어서,상기 빔 스플리터 모듈은 광경로 및 파면의 차이를 갖는 상기 제 3 빔 및 상기 제 4 빔을 결합시키고, 상기 결합된 제 3 및 제 4 빔을 상기 빔 스플리터 모듈 외측에 위치된 이미지 생성 장치로 출사하되, 상기 이미지 생성 장치와 상기 빔 스플리터 모듈 사이에 배치됨과 아울러서, 상기 빔 스플리터 모듈에 일체화되도록 결합되는 편광 제어 소자를 더 포함하고, 상기 편광 제어 소자는 상기 이미지 생성 장치에서 수행되는 위상 천이 처리에 적용되도록, 상기 선형 편광을 소정 형태의 편광으로 변형하여 출력시키는, 홀로그램 획득 장치
|
13 |
13
빔 스플리터 모듈 및 광 제어 모듈을 구비하는 홀로그램 획득 장치; 및 상기 홀로그램 획득 장치로부터 생성되는 간섭 무늬를 수신하여 홀로그램 이미지를 생성하는 이미지 생성 장치를 포함하되, 상기 빔 스플리터 모듈은 대상물로부터 출사한 광을 서로 상이한 상태의 편광을 갖는 제 1 및 제 2 빔으로 분할하며, 상기 광 제어 모듈은, 상기 빔 스플리터 모듈의 일측에 배치되며 상기 제 1 빔을 수신하여 상기 빔 스플리터 모듈로 출사하는 제 1 반사 광학 소자, 및 상기 빔 스플리터 모듈의 타측에 배치되며 상기 제 2 빔을 수신하여 상기 제 1 빔과의 광경로 및 파면의 차이를 갖도록 상기 제 2 빔을 상기 빔 스플리터 모듈로 출사하는 제 2 반사 광학 소자를 구비하고, 상기 빔 스플리터 모듈, 상기 제 1 및 제 2 반사 광학 소자는 상호 고정되어 일체로 설치되는 홀로그램 획득 시스템
|
14 |
14
제 13 항에 있어서,상기 이미지 생성 장치는 상기 간섭 무늬에 대해 위상 천이 처리하며, 상기 위상 천이된 간섭 무늬를 이용하여 상기 홀로그램 이미지를 취득하는 편광 이미지 센서를 포함하는, 홀로그램 획득 시스템
|
15 |
15
제 13 항에 있어서,상기 제 1 및 제 2 반사 광학 소자는 상기 광경로의 차이를 갖도록, 상기 빔 스플리터에 대하여, 상기 제 1 및 제 2 반사 광학 소자까지의 각 광경로에서 서로 상이한 굴절율을 갖거나, 각 광경로에서 서로 상이한 오프셋 거리를 갖는, 홀로그램 획득 시스템
|
16 |
16
제 13 항에 있어서,상기 제 1 빔 및 상기 제 2 빔은 서로 상이한 각도의 선형 편광인, 홀로그램 획득 시스템
|
17 |
17
제 16 항에 있어서,상기 제 1 반사 광학 소자 및 상기 빔 스플리터 사이에 일체화되도록 결합되는 제 1 사분파장판; 및상기 제 2 반사 광학 소자 및 상기 빔 스플리터 사이에 일체화되도록 결합되는 제 2 사분파장판을 더 포함하고, 상기 빔 스플리터로부터 출사된 상기 제 1 및 제 2 빔이 상기 제 1 및 제 2 사분파장판으로 입사되어 서로 상이한 상태의 원형 편광으로 출력되고, 상기 원형 편광을 갖는 상기 제 1 및 제 2 빔은 상기 제 1 및 제 2 반사 광학 소자에서 반사되어 파면 변조되며, 상기 파면 변조된 제 1 및 제 2 빔은 상기 제 1 및 제 2 사분파장판으로 재입사되어 선형 평광으로 출력되는, 홀로그램 획득 시스템
|
18 |
18
제 16 항에 있어서,상기 빔 스플리터 모듈은 광경로 및 파면의 차이를 갖는 상기 제 1 빔 및 상기 제 2 빔을 결합시키고, 상기 결합된 제 1 및 제 2 빔을 상기 이미지 생성 장치로 출사하되, 상기 이미지 생성 장치와 상기 빔 스플리터 모듈 사이에 배치됨과 아울러서, 상기 빔 스플리터 모듈에 일체화되도록 결합되는 편광 제어 소자를 더 포함하고, 상기 편광 제어 소자는 상기 이미지 생성 장치에서 수행되는 위상 천이 처리에 적용되도록, 상기 선형 편광을 소정 형태의 편광으로 변형하여 출력시키는, 홀로그램 획득 시스템
|