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잉크 리소그래피를 통한 나노 입자의 물성제어 및 패터닝 방법

  • 기술번호 : KST2022023703
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 잉크 리소그래피를 통한 패터닝 방법에 관한 것으로, 제1 리간드로 둘러 쌓인 박막 형성 나노 입자를 기판상에 코팅하여 나노 입자 박막을 형성하는 단계, 상기 나노 입자 박막 상의 선택적 영역에 리간드 치환 잉크를 직접 분사하여 상기 제1 리간드가 제2 리간드로 치환된 영역을 형성하는 단계 및 상기 나노 입자 박막을 세척 용매로 세척하여 상기 제2 리간드로 치환된 영역이 패턴이 되는 단계를 포함한다.
Int. CL B41M 1/06 (2006.01.01) H01L 21/288 (2006.01.01)
CPC B41M 1/06(2013.01) H01L 21/288(2013.01)
출원번호/일자 1020210073593 (2021.06.07)
출원인 고려대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2022-0165076 (2022.12.14) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2021.06.07)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 고려대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 오승주 서울특별시 중구 청구로
2 안준혁 서울특별시 강남구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김연권 대한민국 서울특별시 송파구 법원로 ***, ****/****호(문정동, 문정대명벨리온)(시안특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2021.06.07 수리 (Accepted) 1-1-2021-0655360-13
2 보정요구서
Request for Amendment
2021.06.09 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2021-0092288-11
3 [출원서 등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2021.06.10 수리 (Accepted) 1-1-2021-0669969-80
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2022.07.15 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2022.10.14 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2022-0183514-14
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2022.10.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2022-0798668-15
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2022.12.08 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2022-1321513-82
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견서·답변서·소명서
2022.12.08 수리 (Accepted) 1-1-2022-1321512-36
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번호 청구항
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제1 리간드로 둘러 쌓인 나노 입자를 기판에 코팅하여 나노 입자 박막을 형성하는 단계;상기 기판에 형성된 상기 나노 입자 박막 상의 일부분의 영역에 리간드 치환 잉크를 분사하여 상기 제1 리간드가 제2 리간드로 치환된 제1 영역 및 상기 제1 리간드가 제2 리간드로 치환되지 않는 제2영역을 형성하는 단계; 및상기 제1 영역 및 상기 제2 영역을 포함하는 상기 기판을 세척 용매로 세척하는 단계를 포함하고,상기 세척하는 단계는 상기 제2 영역을 선택적으로 제거하여 상기 제1 영역이 패턴이 되는 것을 특징으로 하는 잉크 리소그래피를 통한 패터닝 방법
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제1항에 있어서, 상기 리간드 치환 잉크에 에틸렌글리콜을 더 포함하여, 상기 리간드 치환 잉크를 분사하는 단계에서 해상도를 향상시키는 것을 특징으로 하는 잉크 리소그래피를 통한 패터닝 방법
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제1항에 있어서,상기 제1 리간드는 유기 리간드인 것을 특징으로 하는 잉크 리소그래피를 통한 패터닝 방법
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제3항에 있어서, 상기 유기 리간드는 소수성의 화학 성질을 가지는 것을 특징으로 하는 잉크 리소그래피를 통한 패터닝 방법
5 5
제1항에 있어서, 상기 제2 리간드는 무기 리간드 또는 유/무기 복합 리간드인 것을 특징으로 하는 잉크 리소그래피를 통한 패터닝 방법
6 6
제5항에 있어서, 상기 무기 리간드 또는 유/무기 복합 리간드는 친수성의 화학 성질을 가지는 것을 특징으로 하는 잉크 리소그래피를 통한 패터닝 방법
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제1항에 있어서, 상기 리간드 치환 잉크를 분사하는 방법은 잉크젯 프린팅(Inkjet printing), 스프레이 코팅(spray coating), 캘리그라피(calligraphy) 및 드롭핑(dropping)으로 이루어진 군에서 선택된 하나인 것을 특징으로 하는 잉크 리소그래피를 통한 패터닝 방법
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제1항에 있어서, 상기 세척 용매는 무극성 용매인 것을 특징으로 하는 잉크 리소그래피를 통한 패터닝 방법
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제8항에 있어서, 상기 무극성 용매는 소수성의 화학 성질을 가지는 나노 입자를 분산시키는 것을 특징으로 하는 잉크 리소그래피를 통한 패터닝 방법
10 10
제8항에 있어서, 상기 무극성 용매는 옥탄(octane), 헥산(hexane), 톨루엔(toluene), 사이클로헥세인(cyclohexane), 클로로벤젠(chlorobenzene), 벤젠(benzene), 클로로포름(chloroform) 및 디에틸에테르(diethyl ether) 중에서 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 잉크 리소그래피를 통한 패터닝 방법
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패밀리정보가 없습니다
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