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평판 형상의 베이스부; 상기 베이스부에 패터닝되어 적층되는 전극부; 및상기 전극부를 사이에 두고 상 베이스부에 적층되되, 3차원 격자구조로 패터닝되어 상기 전극부와 유전영동을 발생시키는 마이크로 패턴부; 를 포함하며, 상기 마이크로 패턴부의 표면에는 미세입자와의 접촉각을 증가시키는 나노 파티클이 코팅되는 마이크로웰 필름
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제1항에 있어서, 상기 나노 파티클은 이산화규소(SiO2)를 포함하는 마이크로웰 필름
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제1항에 있어서,상기 마이크로 패턴부와 상기 미세입자 사이의 접촉각은 130도 내지 150도이며, 상기 나노 파티클과 상기 미세입자 사이의 접촉각은 140도 이상인 마이크로웰 필름
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제1항에 있어서, 상기 베이스부는 상기 전극부가 패터닝되는 기판을 포함하고, 상기 마이크로 패턴부는 폴리머 재질로 마련되는 마이크로웰 필름
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제1항에 있어서, 상기 전극부는 양극(+)이 인가되는 제1전극 및, 음극(-)이 인가되는 제2전극을 포함하는 마이크로웰 필름
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제5항에 있어서, 상기 제1전극과 제2전극은 상호 교번적으로 이웃한 패턴으로 상기 베이스부에 각각 패터닝되는 마이크로웰 필름
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제1항에 있어서, 상기 마이크로 패턴부는,상기 전극부를 사이에 두고 상기 베이스부에 적층되는 제1패턴; 및상기 제1패턴에 대해 수직 상방향으로 돌출되는 제2패턴; 을 포함하며, 상기 제2패턴은 상기 제1패턴에 대해 복수의 벽이 다각 형상을 이루도록 상호 연결되는 마이크로웰 필름
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제7항에 있어서, 상기 제2패턴은 상호 연결되는 복수의 허니콤(Honeycomb) 형상으로 마련되어 상기 제1패턴에 대해 돌출되는 마이크로웰 필름
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유전영동 발생을 위해 베이스부에 대해 패터닝된 전극부에 적층되는 3차원 격자구조를 가지는 마이크로 패턴부를 마련하는 제1세정단계; 상기 마이크로 패턴부의 표면에 복수의 나노 파티클을 코팅하여, 상기 나노 파티클이 코팅된 상기 마이크로 패턴부와 미세입자 사이의 접촉각을 증가시키는 제2세정단계; 및증가된 상기 접촉각으로 인해 발생되는 상기 마이크로 패턴부를 따른 액적의 흐름에 의해, 상기 미세입자가 세정되는 제3세정단계; 를 포함하는 마이크로웰 필름의 세정 방법
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제9항에 있어서, 상기 나노 파티클은 이산화규소(SiO2)를 포함하는 마이크로웰 필름의 세정 방법
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제9항에 있어서,상기 마이크로 패턴부와 상기 미세입자 사이의 접촉각은 130 내지 150도이며, 상기 나노 파티클과 상기 미세입자 사이의 접촉각은 140도 이상인 마이크로웰 필름의 세정 방법
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제9항에 있어서, 상기 베이스부는 상기 전극부가 패터닝되는 기판을 포함하고, 상기 마이크로 패턴부는 폴리머 재질로 마련되는 마이크로웰 필름의 세정 방법
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제9항에 있어서, 상기 전극부는 양극(+)이 인가되는 제1전극 및, 음극(-)이 인가되는 제2전극을 포함하며, 상기 제1전극과 제2전극은 상호 교번적으로 이웃한 패턴으로 상기 베이스부에 각각 패터닝되는 마이크로웰 필름의 세정 방법
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제9항에 있어서, 상기 마이크로 패턴부는,상기 전극부를 사이에 두고 상기 베이스부에 적층되는 제1패턴; 및상기 제1패턴에 대해 수직 상방향으로 돌출되는 제2패턴; 을 포함하며, 상기 제2패턴은 상기 제1패턴에 대해 복수의 벽이 다각 형상으로 상호 연결되어 마련되는 마이크로웰 필름의 세정 방법
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제14항에 있어서, 상기 제2패턴은 상호 연결되는 복수의 벽이 허니콤(Honeycomb) 형상으로 마련되어 상기 제1패턴에 대해 돌출되는 마이크로웰 필름의 세정 방법
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