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홀로그래픽 이미징 장치에 있어서,재구성 빔의 입사각을 조정하는 제어부;상기 재구성 빔을 방출하는 패널;제1 참조 빔과 제1 물체 빔에 의한 제1 간섭 무늬가 기록된 제1 회절 격자를 갖고, 상기 재구성 빔을 회절시키는 제1 홀로그래픽 광학 소자; 및제2 참조 빔과 제2 물체 빔에 의한 제2 간섭 무늬가 기록된 제2 회절 격자를 갖고, 상기 회절된 재구성 빔을 회절시켜 출력 빔을 출력하는 제2 홀로그래픽 광학 소자를 포함하는 홀로그래픽 이미징 장치
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제1항에 있어서,상기 패널은 비축(off-axis)으로 상기 재구성 빔을 입사시키는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 이미징 장치
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제1항에 있어서,상기 제2 홀로그래픽 광학 소자는 정축(on-axis)으로 홀로그래픽 영상을 제공하는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 이미징 장치
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제1항에 있어서,상기 제어부는 상기 재구성 빔의 입사각을 조정하여 상기 재구성 빔의 상이한 파장에 상관없이 칼라를 보상하는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 이미징 장치
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제1항에 있어서,상기 재구성 빔이 기록된 제1 기준 빔의 방향으로 입사되면, 상기 제1 회절 격자에서 나오는 빔의 각도는 기록된 제1 물체 빔의 각도에 대응하는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 이미징 장치
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제1항에 있어서,상기 제어부는 상기 재구성 빔의 입사각 및 상기 출력 빔의 회절각의 관계로 정의된 제1 조건을 만족시키도록 설정하는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 이미징 장치
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제1항에 있어서,상기 제어부는 상기 재구성 빔의 입사각이 상기 출력 빔의 회절각에 동일하게 설정하는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 이미징 장치
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제1항에 있어서,상기 제어부는 상기 재구성 빔의 입사각 및 기록된 제1 물체 빔의 회절각의 관계로 정의된 제2 조건을 만족시키도록 설정하는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 이미징 장치
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제1항에 있어서,상기 제어부는 상기 재구성 빔의 입사각이 기록된 제1 물체 빔의 회절각에 측면을 기준으로 반전된 방향을 갖도록 설정하는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 이미징 장치
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홀로그래픽 이미징 장치의 칼라 보상 방법에 있어서,재구성 빔의 입사각을 조정하는 단계;상기 재구성 빔을 방출하는 단계;상기 재구성 빔을 제1 홀로그래픽 광학 소자를 통해 회절시키는 단계; 및상기 회절된 재구성 빔을 제2 홀로그래픽 광학 소자를 통해 회절시켜 출력 빔을 출력하는 단계를 포함하는 홀로그래픽 이미징 장치의 칼라 보상 방법
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제10항에 있어서,상기 재구성 빔을 방출하는 단계는 비축으로 상기 재구성 빔을 입사시키고,상기 출력 빔을 출력하는 단계는 정축으로 홀로그래픽 영상을 제공하는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 이미징 장치의 칼라 보상 방법
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제10항에 있어서,상기 재구성 빔의 입사각을 조정하는 단계는 상기 재구성 빔의 입사각을 조정하여 상기 재구성 빔의 상이한 파장에 상관없이 칼라를 보상하는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 이미징 장치의 칼라 보상 방법
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제10항에 있어서,상기 재구성 빔이 상기 기록된 제1 기준 빔의 방향으로 입사되면, 상기 제1 회절 격자에서 나오는 빔의 각도는 기록된 제1 물체 빔의 각도에 대응하는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 이미징 장치의 칼라 보상 방법
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제10항에 있어서,상기 재구성 빔의 입사각을 조정하는 단계는 상기 재구성 빔의 입사각 및 상기 출력 빔의 회절각의 관계로 정의된 제1 조건을 만족시키도록 설정하는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 이미징 장치의 칼라 보상 방법
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제10항에 있어서,상기 재구성 빔의 입사각을 조정하는 단계는 상기 재구성 빔의 입사각 및 기록된 제1 물체 빔의 회절각의 관계로 정의된 제2 조건을 만족시키도록 설정하는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 이미징 장치의 칼라 보상 방법
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